本实用新型属于注塑模具设备领域，具体为一种电池盖凸模。
背景技术：
凸模（外文名 punch-pin) 又叫冲针、冲头、阳模、上模等，凸模是模具中用于成型制品内表面的零件，主要功能用于成型制品内表面零件。电池盖作为一个注塑零件，在注塑的时候，需要用到凸模，而一个凸模和凹模，对产品的质量和生产速度有着至关重要的地位。
技术实现要素：
本实用新型的目的是提供一种电池盖凸模，能够快速、高效的大批量生产该电池盖。
为实现以上目的，本实用新型采用的技术方案是：包括本体，所述本体上固定设有四个向外凸起的盖凸部，盖凸部的上表面尺寸与形状均与电池盖内表面形状尺寸一致，四个盖凸部矩形布置，并首尾对称布置，头部朝向中间。所述盖凸部的尾部两角设有尾部顶孔，尾部顶孔用于放置尾部顶杆，将电池盖底部角落的横向挂钩注塑成型。尾部顶孔贯通本体，并向本体的尾部倾斜，使得脱模顶出的时候顺利脱模。盖凸部的头部设有流道部，流道部的表面尺寸与形状均与电池盖外表面形状尺寸一致，流道部放置在两个盖凸部的中间，将两个盖凸部连为一体。流道部的顶部设有流道和四个插口沉台，插口沉台设于每个盖凸部的头部正中间，流道连通四个插口沉台。盖凸部的头部两角设有头部顶孔，头部顶孔竖直贯通本体，头部顶孔用于放置头部顶杆。
作为本实用新型的进一步改进，为了更好地合模进行注塑，保证头部顶杆顺利顶出，保证塑件内表面的精度，在盖凸部的头部还设有头部悬挂凸台，头部悬挂凸台与头部顶孔并排布置，头部顶杆挂在头部悬挂凸台上。
作为本实用新型的进一步改进，为了更好地合模进行注塑，保证尾部顶杆顺利顶出，保证塑件内表面的精度，在盖凸部的尾部两角设有尾部悬挂凸台，尾部悬挂凸台与尾部顶孔并排布置，尾部顶杆挂在尾部悬挂凸台上。
作为本实用新型的进一步改进，所述头部悬挂凸台上设有L槽，将电池盖首端底部的插销部位注塑成型。
本实用新型的有益效果：结构简单、成本低廉，利用本实用新型能大批量生产电池盖，达到批量生产，降低了生产成本。尤其是通过斜向布置的头部顶孔和尾部顶孔，非常方便地将电池盖四角扣部自动顶出，实现全自动工作，提高生产速度，并提高产品的质量。
附图说明
图1为本实用新型俯视图；
图2为本实用新型立体效果图；
图3为图2的A部放大图；
图4为图1的B部放大图。
具体实施方式
为了使本领域技术人员更好地理解本实用新型的技术方案，下面结合附图对本实用新型进行详细描述，本部分的描述仅是示范性和解释性，不应对本实用新型的保护范围有任何的限制作用。
如图1-图4所示，其具体结构为：包括本体1，所述本体1上固定设有四个向外凸起的盖凸部2，盖凸部2的上表面尺寸与形状均与电池盖内表面形状尺寸一致，四个盖凸部2矩形布置，并首尾对称布置，头部朝向中间。所述盖凸部2的尾部两角设有尾部顶孔4，尾部顶孔4用于放置尾部顶杆，将电池盖底部角落的横向挂钩注塑成型。尾部顶孔4贯通本体1，并向本体1的尾部倾斜，使得脱模顶出的时候顺利脱模。为了更好地合模进行注塑，保证尾部顶杆顺利顶出，保证塑件内表面的精度，在盖凸部2的尾部两角设有尾部悬挂凸台3，尾部悬挂凸台3与尾部顶孔4并排布置，尾部顶杆挂在尾部悬挂凸台3上。盖凸部2的头部设有流道部10，流道部10的表面尺寸与形状均与电池盖外表面形状尺寸一致，流道部10放置在两个盖凸部2的中间，将两个盖凸部2连为一体。流道部10的顶部设有流道9和四个插口沉台8，插口沉台8设于每个盖凸部2的头部正中间，流道9连通四个插口沉台8。
盖凸部2的头部两角设有头部顶孔7，头部顶孔7竖直贯通本体1，头部顶孔7用于放置头部顶杆。为了更好地合模进行注塑，保证头部顶杆顺利顶出，保证塑件内表面的精度，在盖凸部2的头部还设有头部悬挂凸台5，头部悬挂凸台5与头部顶孔7并排布置，头部顶杆挂在头部悬挂凸台5上。所述头部悬挂凸台5上设有L槽6，将电池盖首端底部的插销部位注塑成型。
本实用新型的有益效果：结构简单、成本低廉，利用本实用新型能大批量生产电池盖，达到批量生产，降低了生产成本。尤其是通过斜向布置的头部顶孔和尾部顶孔，非常方便地将电池盖四角扣部自动顶出，实现全自动工作，提高生产速度，并提高产品的质量。
需要说明的是，在本文中，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。
本文中应用了具体个例对本实用新型的原理及实施方式进行了阐述，以上实例的说明只是用于帮助理解本实用新型的方法及其核心思想。以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出，由于文字表达的有限性，而客观上存在无限的具体结构，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理的前提下，还可以做出若干改进、润饰或变化，也可以将上述技术特征以适当的方式进行组合；这些改进润饰、变化或组合，或未经改进将实用新型的构思和技术方案直接应用于其它场合的，均应视为本实用新型的保护范围。