一种用于氧化镁烧结体靶材的组合式坩埚的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明属于高温炉用工装领域，涉及到一种用于氧化镁烧结体靶材的组合式坩祸。
【背景技术】
[0002]彩色交流等离子体显示器(PDP)对性能要求的提高，氧化镁材料越来越受到关注。各种试验研究显示，氧化镁是最耐离子撞击的材料之一，且具有很高的二次电压发射效率与透光率。目前应用广泛的坩祸材质主要有石墨、石英、陶瓷、刚玉、碳化硅、白金等。氧化镁烧结体靶材需要在1700°C温度下长时间烧结，且有水汽排出，在生产过程中对现有坩祸逐一进行了考察，结果都不理想。
[0003]在使用过程中对坩祸损坏情况进行观察，总结发现，坩祸损坏都发生在局部，即坩祸壁的上部、中部、下部或坩祸底部。一般都是由于局部过热，或附着与坩祸上的杂质在高温下发生共融形成损坏。
[0004]因局部的损坏而报废整个坩祸，是一项很大的浪费，增加了生产成本。从另一个角度讲，生产窑炉和实验窑炉高度不同，因此选用的坩祸尺寸也不同，没有高度可调节的坩祸可以使用。
【发明内容】
[0005]鉴于上述现状，为满足氧化镁烧结体靶材生产中因局部受损而报废整个坩祸的问题，本发明提供一种用于氧化镁烧结体靶材的组合式坩祸。
[0006]本发明的目的通过以下措施实现:提供一种用于氧化镁烧结体靶材的组合式坩祸，由圆筒形坩祸壁1和坩祸底座2两部分组成，其特征在于，一个坩祸底座2可以配合一个至多个圆筒形坩祸壁1使用。其中，所述圆筒形坩祸壁1的上下接口较坩祸壁中心存在偏移，结合时留有余量。所述坩祸底2做以凸台的形式设置接口。
[0007]有益效果:本发明制备的组合式坩祸在有损坏情况发生时，只需报废局部即可;而且在生产过程中，不在需要复杂的模具，为成型和脱模提供了方便。
【附图说明】
[0008]图1是本发明的组合式坩祸的分体剖面示意图。
[0009]图2是本发明的组合式坩祸三层坩祸壁组合后的剖面示意图。
[0010]图中，1为圆筒形坩祸壁;2为底座。
【具体实施方式】
[0011 ]下面结合附图和实施例对本发明进行详细说明。
[0012]参照图1和2，在本实施例中的用于氧化镁烧结体靶材的组合式坩祸，具体分为多段坩祸壁1和底座2。如图1所示，底座2直径200mm，厚10mm，凸台高10mm，接口处15mm;圆筒形坩祸壁1高100mm，直径200mm，厚25mm，接口处厚度10mm。实际使用时，可根据炉膛高度自由组合多个坩祸壁1。本实例中使用在推板电窑中，炉膛高度340mm，采用三段组合，组合后如图2所示。使用其在氧化镁烧结体靶材需要在1700°C温度下烧结后，若局部损坏，只需更换损坏对应的坩祸壁1，其它仍可使用。
[0013]以上内容是结合优选技术方案对本发明所做的进一步详细说明，不能认定发明的具体实施仅限于这些说明。对本发明所属技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明的构思的前提下，还可以做出简单的推演及替换，都应当视为本发明的保护范围。
【主权项】
1.一种用于氧化镁烧结体靶材的组合式坩祸，由圆筒形坩祸壁(1)和坩祸底座(2)两部分组成，其特征在于，一个坩祸底座(2)可以配合一个至多个圆筒形坩祸壁(1)使用。2.根据权利要求1所述的一种用于氧化镁烧结体靶材的组合式坩祸，其特征在于，所述圆筒形坩祸壁(1)的上下接口较坩祸壁中心存在偏移，结合时留有余量。3.根据权利要求1所述的一种用于氧化镁烧结体靶材的组合式坩祸，其特征在于，所述坩祸底(2)做以凸台的形式设置接口。
【专利摘要】本发明公开了一种用于氧化镁烧结体靶材的组合式坩埚，由两部分组成，分别是圆筒形坩埚壁(1)和坩埚底座(2)；一个坩埚底座(2)可以配合一个至多个圆筒形坩埚壁(1)使用。其中，所述圆筒形坩埚壁(1)的上下接口较坩埚壁中心存在偏移，结合时留有余量。所述坩埚底(2)做以凸台的形式设置接口。本发明具备多段坩埚壁(1)和坩埚底座(2)，若有损坏情况发生时，只需报废局部即可；而且在生产过程中，不需要复杂的模具，为成型和脱模也提供了方便。
【IPC分类】F27B14/10
【公开号】CN105486083
【申请号】CN201510933979
【发明人】曾卫军
【申请人】营口镁质材料研究院有限公司
【公开日】2016年4月13日
【申请日】2015年12月15日