缸体清洗机及其清洗方法与流程

文档序号:12078536阅读:805来源:国知局
缸体清洗机及其清洗方法与流程

本发明涉及缸体清洗领域,尤其是涉及一种缸体清洗机及其清洗方法。



背景技术:

现在各种缸体在机械领域已经广泛应用,包括气缸、油缸等,现在的油缸和气缸在使用过程中,缸体内都会沉积大量的灰尘,尤其是油缸中还会沉积油中的杂质,并且油对灰尘和杂质的附着力较大;长期以来,导致油路管道和气路管道不通畅,导致机械设备工作过程经常出现故障,因此,需要定期对缸体进行清洗,从而保证机械设备的正常运行;由于灰层和杂质容易在缸体中的棱角、沟槽和孔内沉积,并且现在的缸体多数都是异形结构;因此,现在的缸体清洗机只能将缸体的侧壁和外表进行清洗;无法对缸体的棱角、沟槽、孔内以及异形缸体内沉积的杂质和灰尘进行清洗;影响缸体的各种性能,容易导致整个机械出现故障,缩短使用寿命;另外,现在的缸体清洗机清洗过程中容易将缸体的表面损坏,并且现有的缸体清洗机对缸体清洗之后,缸体上残留有清洗剂,对缸体的表面造成不可弥补的损坏。



技术实现要素:

针对现有技术中的上述问题,本发明提出了一种缸体清洗机,本发明的目的旨在解决现有的缸体清洗机无法将异形缸体的表面、沟槽、孔内和棱角处清洗干净、清洗过程容易将缸体表面损坏以及缸体表面上残留有清洗剂等技术问题。

本发明的技术方案为:缸体清洗机,包括机架,所述机架的中间位置安装有导轨,所述导轨上设有缸体输送机构,所述机架上依次设有位于缸体输送机构上方的涡流清洗室、对位清洗室、高压清洗室、旋转倒水室、对位吹水室及真空干燥室,所述涡流清洗室、对流清洗室、高压清洗室通过设置有清洗泵的管道与清洗液储存箱连通,所述旋转倒水室和对位吹水室分别与储气罐连通;所述真空干燥室内设置有干燥装置且与真空泵连通;所述涡流清洗室、对位清洗室、高压清洗室、旋转倒水室、对位吹水室及真空干燥室均设置有限位结构、到位检测系统及压紧机构,所述机架靠近涡流清洗室的一端设置有上料机构,机架靠近真空干燥室的一端设置有下料机构;所述旋转倒水室内设有用于缸体旋转的旋转机构和侧面风刀;所述涡流清洗室的顶面上设置有多个文丘里喷嘴;所述对位清洗室和对位吹水室内均设置有多个可调节角度的喷嘴。

进一步地,所述文丘里喷嘴为2个,文丘里喷嘴可滑动地安装在连杆上,所述连杆通过升降机构安装在涡流清洗室。

进一步地,所述对位清洗室的四个侧壁上分别设置有可调节角度的液体喷嘴,所述对位清洗室靠近顶面的内侧壁处设置有安装板,所述安装板与气缸的活塞杆连接,且安装板上固定有多个锥形液体喷嘴。

进一步地,所述对位吹水室的四个侧壁上分别设置有可调节角度的气体喷嘴,所述对位吹水室靠近顶面的内侧壁处设置有安装板,所述安装板与气缸的活塞杆连接,且安装板上固定有多个锥形气体喷嘴。

进一步地,所述上料机构中设置有代码识别系统。

一种缸体清洗机的清洗方法,包括如下步骤:

上料工段:缸体通过上料机构进入导轨中,产品代码识别系统对缸体的型号进行识别;

涡流清洗:缸体通过导轨上的输送机构进入涡流清洗室,将缸体进行限位和压紧,到位检测系统检测缸体到达预定位置,涡流清洗室的封闭门关闭,涡流清洗室内蓄满清洗液,最后采用文丘里喷嘴对缸体进行涡流清洗,清洗完毕排放清洗液,打开封闭门;

对位清洗:缸体进入对位清洗室,同样对进行缸体限位、压紧及位置检测,关闭封闭门,通过多个可调节角度的液体喷嘴针对缸体所有面组和各孔系进行清洗,清洗完毕打开封闭门;

高压清洗:缸体进入高压清洗室,采用高压喷嘴对缸体的主油道及侧油道孔清洗,清洗压力为12-150bar;

旋转倒水:缸体进入倒水工位,缸体固定在旋转机构上且通过旋转机构进行旋转倒水,缸体旋转的同时通过侧面风刀对工件进行扫描吹水;

对位切水:缸体晶进入对位切水室,对缸体进行限位、压紧及位置检测,采用多个可调节角度的气体喷嘴针对缸体所有面系和所有孔系进行对位切水,压缩空气的压力为3-4kg;

真空干燥:缸体进入到真空干燥室,真空泵进行抽真空,极限真空度为0.5Mbar,真空干燥室内的气体循环流量为240m3/h;

下料工段:干燥完毕的缸体通过下料工段将缸体取下。

与现有技术相比,本发明的有益效果是:

①本发明通过对缸体进行涡流清洗、对位清洗、高压清洗、旋转倒水、对位切水以及真空干燥,这样使得现在异形缸体的表面、沟槽、所有孔系以及棱角处的灰尘和杂质能够本被清洗干净,在保证了缸体的使用寿命的同时,避免了整体机械出现故障,使得缸体的传动性能和传动精度得到有效保证。

②本发明在清洗缸体的过程中,不会将缸体的表面损坏,并且清洗之后的缸体上不会有残留的清洗剂,防止清洗剂度缸体的所有面组造成不可修复的损坏,严重缩短缸体的清洗寿命。

附图说明

图1为本发明的结构示意图。

图2为图1的俯视图。

具体实施方式

下面结合附图及实施例对本发明中的技术方案进一步说明。

参照附图1、2,本发明包括机架1,机架1的中间位置安装有导轨2,导轨2上设有缸体输送机构3,机架1上依次设有位于缸体输送机构3上方的涡流清洗室4、对位清洗室5、高压清洗室6、旋转倒水室7、对位吹水室8及真空干燥室9,涡流清洗室4、对流清洗室、高压清洗室6通过设置有清洗泵10的管道与清洗液储存箱11连通,旋转倒水室7和对位吹水室8分别与储气罐12连通;真空干燥室9内设置有干燥装置且与真空泵13连通;涡流清洗室4、对位清洗室5、高压清洗室6、旋转倒水室7、对位吹水室8及真空干燥室9均设置有限位结构、到位检测系统及压紧机构,机架1靠近涡流清洗室4的一端设置有上料机构(图中未示出),上料机构中设置有代码识别系统;机架1靠近真空干燥室9的一端设置有下料机构(图中未示出);旋转倒水室7内设有用于缸体旋转的旋转机构和侧面风刀;涡流清洗室4的顶面上设置有多个文丘里喷嘴14;对位清洗室5和对位吹水室8内均设置有多个可调节角度的喷嘴。

文丘里喷嘴14为2个,文丘里喷嘴14可滑动地安装在连杆15上,连杆15通过升降机构安装在涡流清洗室4,;这样使得可以将两个文丘里喷嘴14可以同时位于缸体16的腔室内或者位于缸体16的外侧,或者一个喷嘴在缸体外侧、一个喷嘴在缸体内侧,两个文丘里喷嘴14使得充满清洗剂的涡流清洗室4内产生涡流,可以使得清洗剂形成垂直方向上的循环涡流,使得清洗剂能够从涡流清洗室4的底部向上涌动,使得清洗剂能够对位于缸体底部的盲孔进行清洗,并且还能使得清洗剂能够从通孔的底端进入孔内,使得可以多个方位对缸体的孔系进行多次清洗;并且这样也能够对异形缸体的所有面组、以及每个上的沟槽和棱角处进行多次冲击进行清洗,将沉积在缸体各个孔内、棱角和缝隙处以及沟槽中的大部分灰尘、杂质以及铁屑都能进行清洗。

对位清洗室5的四个侧壁上分别设置有可调节角度的液体喷嘴17;对位清洗室5靠近顶面的内侧壁处设置有安装板18,安装板18与气缸19的活塞杆连接,且安装板18上固定有多个锥形液体喷嘴20,本发明通过多个液体喷嘴17和多个锥形液体喷嘴20对异形缸体进行清洗,使得可改变角度的液体喷嘴17和锥形液体喷嘴20能够产生与异形缸体所有面组相切的水流,对附着在缸体上的表面上的灰尘和杂质具有更大的冲击力;并且使得水流将缸体中的杂质和灰尘被水流带走,避免清洗下来的杂质和灰尘又附着在缸体的表面上;并且缸体的所有面组会被来自多个方向的水流进行冲洗,并且通过调节水流的角度,使得能够对缸体的所有的孔系、沟槽或者棱角处进行多次不同角度的清洗,使得对缸体的清洗更加全面,并且杂质和灰尘能够随着水流带走。

对位吹水室8的四个侧壁上分别设置有可调节角度的气体喷嘴21,对位吹水室8靠近顶面的内侧壁处设置有安装板18,安装板18与气缸19的活塞杆连接,且安装板18上固定有多个锥形气体喷嘴22;本发明通过多个气体喷嘴21和多个锥形气体喷嘴22对异形缸体进行对位吹水,使得可改变角度的气体喷嘴21和锥形气体喷嘴22能够产生与异形缸体所有面组相切的气流,对附着在缸体上的表面的清洗剂和水具有更大的冲击力;并且使得气流将缸体上附着的清洗剂和水分带走,避免缸体所有面组上残留有清洗剂,避免清洗剂残留在缸体上对缸体造成不可修复的损坏;并且缸体的所有面组会被来自多个方向的气流进行冲洗;使得可以将缸体上附着的清洗剂带走。

一种缸体清洗机的清洗方法,包括如下步骤:

上料工段:缸体通过上料机构进入导轨中,产品代码识别系统对缸体的型号进行识别;

涡流清洗:缸体通过导轨上的输送机构进入涡流清洗室,将缸体进行限位和压紧,到位检测系统检测缸体到达预定位置,涡流清洗室的封闭门关闭,涡流清洗室内蓄满清洗液,最后采用文丘里喷嘴对缸体进行涡流清洗,清洗完毕排放清洗液,打开封闭门;

对位清洗:缸体进入对位清洗室,同样对进行缸体限位、压紧及位置检测,关闭封闭门,通过多个可调节角度的液体喷嘴针对缸体所有面组和各孔系进行清洗,清洗完毕打开封闭门;

高压清洗:缸体进入高压清洗室,采用高压喷嘴对缸体的主油道及侧油道孔清洗,清洗压力为12-150bar;

旋转倒水:缸体进入倒水工位,缸体固定在旋转机构上且通过旋转机构进行旋转倒水,缸体旋转的同时通过侧面风刀对工件进行扫描吹水,能够将缸体中孔内和沟槽内的清洗剂和水进行倒出;避免缸体中孔系和沟槽内清洗剂过多,导致干燥也无法将清洗剂完全清除,容易造成缸体的损坏;

对位切水:缸体晶进入对位切水室,对缸体进行限位、压紧及位置检测,采用多个可调节角度的气体喷嘴针对缸体所有面系和所有孔系进行对位切水,压缩空气的压力为3-4kg;

真空干燥:缸体进入到真空干燥室,真空泵进行抽真空,极限真空度为0.5Mbar,真空干燥室内的气体循环流量为240m3/h;

下料工段:干燥完毕的缸体通过下料工段将缸体取下。

以上所述仅为本发明的较佳实施例而已,并不用以限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。

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