一种化工废水处理系统的制作方法

文档序号:13470707阅读:439来源:国知局

本实用新型涉及化工废水处理技术领域,特别涉及一种化工废水处理系统。



背景技术:

化工生产废水具有色度高、毒性大、污染物成分复杂等特点,其COD值通常在数千mg/L范围内,此外,其氮含量相对较高,从而造成此类废水难以处理,并且在废水处理工程的运行过程中,在污泥浓度和水力停留时间一定的情况下,泥水混合和污泥留存决定着水解酸化处理效果的好坏。

因此,发明一种化工废水处理系统来解决上述问题很有必要。



技术实现要素:

本实用新型的目的在于提供一种化工废水处理系统,以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种化工废水处理系统,包括絮凝池、曝气器和搅拌设备,所述絮凝池连通有水解酸化池,所述搅拌设备的搅拌杆设于水解酸化池内,所述水解酸化池连通有初沉池,所述初沉池连通有一级接触氧化池,所述一级接触氧化池连通有一沉池,所述一沉池连通有二级接触氧化池,所述二级接触氧化池连通有二沉池。

优选的,所述一级接触氧化池底部和二级接触氧化池底部均与曝气器相连。

优选的,所述初沉池、一沉池和二沉池的底部均设置有排污口。

优选的,所述曝气器与一级接触氧化池和二级接触氧化池之间的曝气主管上均设置有控制阀。

本实用新型的技术效果和优点:通过设置搅拌设备,在水解酸化池中促使泥水混合,加速废水中的非溶解态有机物截留并逐步转变为溶解态有机物,一些难于生物降解大分子物质被转化为易于降解的小分子物质如有机酸等,从而使废水的可生化性和降解速度大幅度提高,并且通过一级接触氧化池、二级接触氧化池和曝气器,从池底曝气,使生物接触池交替进行好氧和厌氧,提高脱氮的效果。

附图说明

图1为本实用新型的化工废水处理系统结构示意图。

图中:1絮凝池、2水解酸化池、3初沉池、4一级接触氧化池、5一沉池、6二级接触氧化池、7二沉池、8曝气器、9搅拌设备、10控制阀。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。

本实用新型提供了如图1所示的一种化工废水处理系统,包括絮凝池1、曝气器8和搅拌设备9,所述絮凝池1连通有水解酸化池2,设置絮凝池1,初步聚集的微絮粒相互接触碰撞,使水或液体中悬浮微粒集聚变大,或形成絮团,从而加快粒子的聚沉,达到固液分离的目的,以利于后续好氧生物处理,所述搅拌设备9的搅拌杆设于水解酸化池2内,所述水解酸化池2连通有初沉池3,所述初沉池3连通有一级接触氧化池4,所述一级接触氧化池4连通有一沉池5,所述一沉池5连通有二级接触氧化池6,所述二级接触氧化池6连通有二沉池7,通过设置搅拌设备9,在水解酸化池2中促使泥水混合,加速废水中的非溶解态有机物截留并逐步转变为溶解态有机物,一些难于生物降解大分子物质被转化为易于降解的小分子物质如有机酸等,从而使废水的可生化性和降解速度大幅度提高。

所述一级接触氧化池4底部和二级接触氧化池6底部均与曝气器8相连,间歇曝气,使生物在一级接触氧化池4和二级接触氧化池6交替进行好氧和厌氧,提高脱氮的效果,所述初沉池3、一沉池5和二沉池6的底部均设置有排污口,所述曝气器8与一级接触氧化池4和二级接触氧化池6之间的曝气主管上均设置有控制阀10,曝气量通过各曝气主管的控制阀10进行适当调节,以达到一级接触氧化池4和二级接触氧化池6所需曝气量。

本实用工作原理:化工废水进入絮凝池1,初步聚集的微絮粒相互接触碰撞,使水或液体中悬浮微粒集聚变大,或形成絮团,从而加快粒子的聚沉,絮凝后进入水解酸化池2,通过搅拌设备9的搅拌作用,在水解酸化池中促使泥水混合,加速废水中的非溶解态有机物截留并逐步转变为溶解态有机物,一些难于生物降解大分子物质被转化为易于降解的小分子物质如有机酸等,从而使废水的可生化性和降解速度大幅度提高,水解酸化后进入初沉池3沉淀,去除污泥,进入一级接触氧化池6后,充分利用微生物处于对数增长期的吸附特性,以低能耗、高负荷、快速的生物吸附和合成为主,能够去除污水中大部分有机物,进入一沉池5泥水分离,进入二级接触氧化池6后,废水在低负荷下利用微生物的氧化分解作用,对污水中残留的有机物进行氧化分解,以进一步改善出水水质并进入二沉池7。

最后应说明的是:以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已,并不用于限制本实用新型,尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明,对于本领域的技术人员来说,其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换,凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。

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