二氧化碳机能水制备系统的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及水处理领域，尤其涉及一种可循环利用的二氧化碳机能水制备系统。
【背景技术】
[0002]二氧化碳机能水由二氧化碳气体溶于超纯水中而得到。在工业制造中尤其是显示屏、触摸屏等电子消费品领域，经常需要清洗玻璃基板，而玻璃基板上通常带有静电，二氧化碳机能水中具有碳酸，碳酸可发生电离产生离子，用二氧化碳机能水清洗所述玻璃板，可以中和所述玻璃基板上的静电。现有技术中，制备二氧化碳机能水，通常是采用独立的纯水抛光系统制得超纯水后存储于超纯水存储罐中，再经过独立的二氧化碳机能水制备系统制得二氧化碳机能水。
[0003]请参阅图la，独立的纯水抛光系统通常由纯水存储罐、热交换器、杀菌装置、抛光装置及超滤过滤装置依次连接而成，制得超纯水，存储于超纯水存储罐中，其中，用作超纯水的制备原水的是纯水，所述纯水由纯水制备系统提供，并储存于所述纯水存储罐中。超纯水的电阻率大于18M Ω *cm。请参阅图1b，独立的二氧化碳机能水制备系统由超纯水存储罐、溶解装置及超滤过滤装置依次连接而成，最终为玻璃基板提供二氧化碳机能水。
[0004]二氧化碳机能水在洗涤了玻璃基板之后还可以作为纯水循环利用，由玻璃基板洗涤工序流回纯水存储罐，重新经过独立的纯水抛光系统及独立的二氧化碳机能水制备系统，然后再次用于玻璃基板的洗涤。然而，当二氧化碳机能水循环的次数和/或水量多时，二氧化碳及其它杂质越来越多，容易致使二氧化碳含量不合格，杂质超标，从而导致水质下降，水质下降后不能再作为纯水直接流回纯水抛光系统的纯水存储罐中，而是要排放掉或者流回到纯水制备系统中重新处理，若排放掉，则会浪费大量的水资源，并导致成本大幅提高;若流回到纯水制备系统重新处理，则使纯水制备系统的处理量大大增加，而纯水制备系统包括一系列仪器设备，这会大幅增加设备成本。
【发明内容】
[0005]本发明所要解决的技术问题在于，提供一种二氧化碳机能水制备系统，所述二氧化碳机能水制备系统可避免水资源浪费，并降低成本。
[0006]为了解决上述技术问题，本发明采用以下技术方案:
[0007]本发明提供一种二氧化碳机能水制备系统，所述二氧化碳机能水应用于工业制造系统，所述二氧化碳机能水制备系统包括纯水抛光系统、溶解装置、超滤过滤装置及脱气装置，所述溶解装置连接于所述纯水抛光系统与所述超滤过滤装置之间，所述超滤过滤装置通过管道与所述工业制造系统连接，所述脱气装置连接于所述纯水抛光系统与所述工业制造系统之间，所述工业制造系统用过的水经所述脱气装置进行脱气处理后流回所述纯水抛光系统。
[0008]其中，所述纯水抛光系统包括依次连接的纯水存储罐、杀菌装置及抛光装置，所述脱气装置连接于所述纯水存储罐与所述工业制造系统之间。
[0009]其中，所述纯水抛光系统还包括控温装置，所述控温装置连接于所述纯水存储罐及所述杀菌装置之间。
[0010]其中，所述纯水抛光系统还包括辅助超滤过滤装置，所述辅助超滤过滤装置连接于所述溶解装置与所述抛光装置之间。
[0011]其中，所述纯水抛光系统还包括预处理装置，所述预处理装置连接于所述纯水存储罐与所述控温装置之间。
[0012]其中，所述预处理装置是多介质过滤器或活性炭吸附装置。
[0013]其中，所述二氧化碳机能水制备系统还包括预处理装置，所述预处理装置连接于所述脱气装置与所述纯水抛光系统之间。
[0014]其中，所述二氧化碳机能水制备系统还包括预处理装置，所述预处理装置连接于所述脱气装置与所述工业制造系统之间。
[0015]与现有技术相比，本发明的技术方案至少具有以下有益效果:
[0016]本发明的技术方案中，由于所述二氧化碳机能水制备系统包括纯水抛光系统、溶解装置、超滤过滤装置及脱气装置，所述溶解装置连接于所述纯水抛光系统与所述超滤过滤装置之间，所述超滤过滤装置通过管道与所述工业制造系统连接，所述脱气装置连接于所述纯水抛光系统与工业制造系统之间，从而将纯水抛光过程及二氧化碳机能水的制备过程整合起来，使所述脱气装置连接于所述纯水抛光系统与工业制造系统之间，如此，可以使工业制造系统流出来的水经过所述脱气装置后再流回所述纯水抛光系统，从而防止流回所述纯水抛光系统的水的水质下降，进而避免将水排放掉或让水流回纯水制备系统中，杜绝了水资源的浪费，且避免纯水制备系统的设备成本增加，从而降低水资源成本及设备成本。
【附图说明】
[0017]为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的变形形式。
[0018]图1a是现有技术中独立的纯水抛光系统的结构框图；
[0019]图1b是现有技术中独立的二氧化碳机能水制备系统与工业制造系统的框图；
[0020]图2是本发明第一实施例中二氧化碳机能水制备系统的结构框图；
[0021]图3是本发明第一实施例中一个实施方式的二氧化碳机能水制备系统的结构框图；
[0022]图4是本发明第二实施例中二氧化碳机能水制备系统的结构框图；
[0023]图5是本发明第三实施例中二氧化碳机能水制备系统的结构框图；
[0024]图6是本发明第四实施例中二氧化碳机能水制备系统的结构框图；
[0025]图7是本发明第五实施例中二氧化碳机能水制备系统的结构框图；及
[0026]图8是本发明第六实施例中二氧化碳机能水制备系统的结构框图。
【具体实施方式】
[0027]下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
[0028]请参阅图2，图2是本发明第一实施例中二氧化碳机能水制备系统的结构框图。所述二氧化碳机能水应用于工业制造系统500，例如，显示屏、触摸屏等电子消费品领域的制造系统。本实施例(第一实施例)中，二氧化碳机能水制备系统包括纯水抛光系统100、溶解装置200、超滤过滤装置300及脱气装置400。所述溶解装置200连接于所述纯水抛光系统100与所述超滤过滤装置300之间，所述超滤过滤装置300通过管道与所述工业制造系统500连接，所述脱气装置400连接于所述纯水抛光系统100与所述工业制造系统500之间，所述工业制造系统500用过的水经所述脱气装置400进行脱气处理后流回所述纯水抛光系统100。
[0029]所述纯水抛光系统100用于为所述二氧化碳机能水制备系统提供超纯水，所述超纯水的电阻率大于18ΜΩ *cmo
[0030]溶解装置200用于将二氧化碳气体溶解于纯水抛光系统100所提供的超纯水，形成二氧化碳机能水。溶解装置200可以是溶解膜或其它溶解装置，所述溶解装置200可以呈中空纤维状圆柱体，有气体分子能够通过所述溶解装置200，而水不能通过所述溶解装置200，圆柱体内装有高压二氧化碳气体，水流经所述圆柱体时，由于二氧化碳气体处于高压状态，故而往外流动并溶解于水中，从而形成二氧化碳机能水。
[0031]然后，所形成的二氧化碳机能水再经过超滤过滤装置300，将所述二氧化碳机能水中的微小颗粒滤除，得到更纯净的二氧化碳机能水，再将所述二氧化碳机能水输送至所述工业制造系统，清洗例如玻璃基板这类带静电的基板。所述超滤过滤装置300可以是超滤膜或其它超滤过滤器件，所述超滤膜为非对称性超滤膜，具有较致密的表层和以指状结构为主的底层，表层厚度小于或等于0.1微米，并具有排列有序的微孔，底层厚度为200?250微米。工业使用的超滤膜一般为非对称膜。超滤膜的膜材料可以是纤维素及其衍生物、聚碳酸酯、聚氯乙烯、聚偏氟乙烯、聚砜、聚丙烯腈、聚酰胺、聚砜酰胺、磺化聚砜、交链的聚乙烯醇或改性丙烯酸聚合物。
[0032]所述脱气装置400用于对工业制造系统500用过的二氧化碳机能水进行脱气处理，将二氧化碳机能水中的二氧化碳气体及其它气体(例如，氧气、氨气等)脱除，然后再输送回到所述纯水抛光系统100中，再次利用。这样，每次的二氧化碳都脱除再流回纯水抛光系统100，水质不容易下降，避免将水资源排放掉或重新流回纯水制备系统(图中未示出)重新制备，从而降低成本。所述脱气装置400可以是脱气膜或其它脱气器件。脱气膜是利用扩散的原理将水中的气体，如二氧化碳、氧气、氨氮去除的膜分离产品。脱气膜内装有大量的中空纤维，纤维的壁上有微小的孔，水分子不能通过这种小孔，而气体分子却能够穿过。工作时，水流在一定的压力下从中空纤维的里面通过，而中空纤维的外面在真空栗的作用下