反应釜用搅拌装置制造方法

文档序号:4954313阅读:316来源:国知局
反应釜用搅拌装置制造方法
【专利摘要】本实用新型公开了一种反应釜用搅拌装置,包括电机和转轴,转轴的上部和下端分别固定有第一、二搅拌桨,转轴径向向外设有凸条,设有分散盘,分散盘包括圆盘、一圈上叶片和一圈下叶片,分散盘通过中心孔穿于转轴上,且转轴上的凸条位于中心孔的凹槽中,分散盘能够沿转轴上下移动并受上限位挡止和下限位挡止阻挡,由于转轴从上至下依次设有第一搅拌桨、分散盘和第二搅拌桨,这三种搅拌相互作用形成一种全方位搅动流态,而且分散盘可以根据转速改变其上下位置,可以形成更加理想的流态,因此,该搅拌装置能够使胶状或者接近胶状的物料得到全方位的搅动,适用于搅拌感光胶、电子浆料和油墨。
【专利说明】
【技术领域】
[0001] 本实用新型涉及一种搅拌设备,具体涉及一种适用于生产感光胶、电子浆料和油 墨的反应釜上所用的搅拌设备。 反应釜用搅拌装置

【背景技术】
[0002] 感光胶、油墨和电子浆料等原材料是印刷电路板和光伏电池片等领域所必需的原 材料。电子浆料、油墨和感光胶在生产时,涉及到搅拌过程,需要把物料搅拌均匀后进入下 一个工作程序,或者在加工过程中需要进行搅拌,但是,现有的搅拌器一般都是在转轴上设 置一个搅拌桨,这种搅拌器能够满足液体和粉体的搅拌需求,但是感光胶、油墨和电子浆料 都是胶状或者接近于胶状,这种传统搅拌器很难搅拌均匀。 实用新型内容
[0003] 为了解决上述问题,本实用新型提供了一种反应釜用搅拌装置,该反应釜用搅拌 装置适用于搅拌感光胶、电子浆料和油墨。
[0004] 本实用新型为了解决其技术问题所采用的技术方案是:
[0005] -种反应釜用搅拌装置,包括电机和转轴,电机输出端与转轴连接,所述转轴的上 部和下端分别固定连接有第一搅拌桨和第二搅拌桨,所述转轴的上部且位于所述第一搅拌 桨下方的部位固定连接有上限位挡止,所述转轴的下部且位于所述第二搅拌桨上方的部位 固定连接有下限位挡止,所述转轴径向向外设有至少一个凸条,每个所述凸条自所述下限 位挡止延伸至所述上限位挡止,设有分散盘,所述分散盘包括圆盘、一圈上叶片和一圈下叶 片,所述圆盘具有中心孔,所述中心孔设有与所述凸条相配合的凹槽,所述分散盘通过所述 中心孔穿于所述转轴上,且所述转轴上的凸条位于所述中心孔的凹槽中,所述分散盘能够 沿所述转轴上下移动并受所述上限位挡止和下限位挡止阻挡,所述一圈上叶片由若干上叶 片构成且沿圆盘外圆周均匀分布,所述上叶片的一端与所述圆盘外圆周固定连接且另一端 高于所述圆盘,所述一圈下叶片由若干下叶片构成且沿圆盘外圆周均匀分布,所述下叶片 的一端与所述圆盘外圆周固定连接且另一端低于所述圆盘。
[0006] 较佳的是,所述上叶片设有六片。
[0007] 较佳的是,所述下叶片设有六片。
[0008] 较佳的是,所述凸条设有两个且沿转轴对称设置。
[0009] 本实用新型的有益效果是:本实用新型的反应釜用搅拌装置主要是在转轴上从上 至下依次设有第一搅拌桨、分散盘和第二搅拌桨,形成三种搅拌,并且这三种搅拌相互影响 相互作用形成一种全方位的搅动流态,而且分散盘是可以上下移动的,当分散盘被转轴带 动旋转时,分散盘可以根据转速改变其上下位置,可以形成更加理想的流态,因此,该搅拌 装置能够使胶状或者接近胶状的物料得到全方位的搅动,适用于搅拌感光胶、电子浆料和 油墨。

【专利附图】

【附图说明】
[0010] 图1为本实用新型结构示意图;
[0011] 图2为本实用新型的分散盘穿于转轴示意图。

【具体实施方式】
[0012] 以下通过特定的具体实例说明本实用新型的【具体实施方式】,本领域技术人员可由 本说明书所揭示的内容轻易地了解本实用新型的优点及功效。本实用新型也可以其它不同 的方式予以实施,即,在不悖离本实用新型所揭示的范畴下,能予不同的修饰与改变。
[0013] 实施例:一种反应釜用搅拌装置,包括电机1和转轴2,电机输出端与转轴连接, 所述转轴的上部和下端分别固定连接有第一搅拌桨3和第二搅拌桨4,所述转轴的上部且 位于所述第一搅拌桨下方的部位固定连接有上限位挡止5,所述转轴的下部且位于所述第 二搅拌桨上方的部位固定连接有下限位挡止6,所述转轴径向向外设有至少一个凸条7,每 个所述凸条自所述下限位挡止延伸至所述上限位挡止,设有分散盘8,所述分散盘包括圆盘 81、一圈上叶片82和一圈下叶片83,所述圆盘具有中心孔84,所述中心孔设有与所述凸条 相配合的凹槽85,所述分散盘通过所述中心孔穿于所述转轴上,且所述转轴上的凸条位于 所述中心孔的凹槽中,所述分散盘能够沿所述转轴上下移动并受所述上限位挡止和下限位 挡止阻挡,所述一圈上叶片由若干上叶片构成且沿圆盘外圆周均匀分布,所述上叶片的一 端与所述圆盘外圆周固定连接且另一端高于所述圆盘,所述一圈下叶片由若干下叶片构成 且沿圆盘外圆周均匀分布,所述下叶片的一端与所述圆盘外圆周固定连接且另一端低于所 述圆盘。
[0014] 所述上叶片设有六片。
[0015] 所述下叶片设有六片。
[0016] 所述凸条设有两个且沿转轴对称设置。
【权利要求】
1. 一种反应釜用搅拌装置,包括电机⑴和转轴⑵,电机输出端与转轴连接,其特 征在于:所述转轴的上部和下端分别固定连接有第一搅拌桨(3)和第二搅拌桨(4),所述 转轴的上部且位于所述第一搅拌桨下方的部位固定连接有上限位挡止(5),所述转轴的下 部且位于所述第二搅拌桨上方的部位固定连接有下限位挡止¢),所述转轴径向向外设有 至少一个凸条(7),每个所述凸条自所述下限位挡止延伸至所述上限位挡止,设有分散盘 (8),所述分散盘包括圆盘(81)、一圈上叶片(82)和一圈下叶片(83),所述圆盘具有中心 孔(84),所述中心孔设有与所述凸条相配合的凹槽(85),所述分散盘通过所述中心孔穿于 所述转轴上,且所述转轴上的凸条位于所述中心孔的凹槽中,所述分散盘能够沿所述转轴 上下移动并受所述上限位挡止和下限位挡止阻挡,所述一圈上叶片由若干上叶片构成且沿 圆盘外圆周均匀分布,所述上叶片的一端与所述圆盘外圆周固定连接且另一端高于所述圆 盘,所述一圈下叶片由若干下叶片构成且沿圆盘外圆周均匀分布,所述下叶片的一端与所 述圆盘外圆周固定连接且另一端低于所述圆盘。
2. 如权利要求1所述的反应釜用搅拌装置,其特征在于:所述上叶片设有六片。
3. 如权利要求1所述的反应釜用搅拌装置,其特征在于:所述下叶片设有六片。
4. 如权利要求1所述的反应釜用搅拌装置,其特征在于:所述凸条设有两个且沿转轴 对称设置。
【文档编号】B01J19/18GK203899496SQ201420208162
【公开日】2014年10月29日 申请日期:2014年4月25日 优先权日:2014年4月25日
【发明者】外谷佳靖 申请人:田菱精密制版(深圳)有限公司
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