本发明涉及一种除氧装置，具体涉及一种闭式循环除氧装置。
背景技术：
超临界二氧化碳闭式循环系统在能源和动力行业中具有广阔的应用前景，它具体包括闭式布雷顿循环系统、朗肯循环系统以及上述两种系统的组合系统。在闭式循环系统的充排气过程中和运行过程中，尤其在闭式循环系统的多次充气和排气过程中，很难完全将空气中的氧气完全除净，而使闭式循环系统中还残余一定量的氧气，这部分氧气在较高温度和压力下会与金属管道发生氧化反应，降低循环系统的寿命，给循环系统安全稳定运行带来隐患。
技术实现要素：
本发明的目的在于克服上述现有技术的缺点，提供了一种闭式循环除氧装置，该装置除氧的效果较好。
为达到上述目的，本发明所述的闭式循环除氧装置包括主进气管、除氧腔、主排气管、进料口、进料腔、出料腔及出料口；
主进气管的出口与除氧腔侧面的进气口相连通，主排气管的入口与除氧腔侧面的出气口相连通，进料口经进料腔与除氧腔顶部的除氧剂入口相连通，除氧腔底部的除氧剂出口依次经出料腔与出料口相连通，除氧腔内设有除氧剂支撑网，其中，除氧剂支撑网位于除氧腔的底部，除氧剂支撑网的顶部开口正对除氧腔顶部的除氧剂入口，除氧剂支撑网的底部开口正对除氧腔底部的除氧剂出口。
主进气管上设有第一阀门，主排气管上设有第二阀门；
进料口与进料腔之间设有第三阀门，进料腔与除氧腔之间设有第四阀门，除氧腔与出料腔之间设有第五阀门，出料腔上设有第六阀门。
沿除氧剂流通的方向，进料腔横截面的面积先逐渐增大再逐渐缩小。
沿除氧剂流通的方向，出料腔横截面的面积先逐渐缩小再逐渐增大。
沿主流流体流通的方向，主进气管与除氧腔相连通位置横截面的面积逐渐增大，且除氧腔与主排气管相连接位置横截面的面积逐渐减小。
本发明具有以下有益效果：
本发明所述的闭式循环除氧装置在具体操作时，主流流体依次通过主进气管、除氧腔及主排气管，除氧剂在重力的作用下经进料口、进料腔进入到除氧剂支撑网中，然后再经出料腔及出料口排出，除氧腔内不包含除氧剂支撑网的空间形成一个环形通道，可使除氧腔内的气体形成大尺度旋涡，增大气体与除氧剂接触的时间，提高除氧剂的除氧效率，相对于在主流通道出口处设置过滤网的现有技术，本发明既能吸收主流流体的氧气，又不增加主流流体的附加流体阻力及压损，具有结构简单、操作方便、除氧效果好的特点。
附图说明
图1为本发明的结构示意图。
其中，1为主进气管、2为主排气管、3为除氧腔、4为进料口、5为进料腔、6为出料腔、7为出料口、8为除氧剂支撑网、91为第一阀门、92为第二阀门、93为第三阀门、94为第四阀门、95为第五阀门、96为第六阀门。
具体实施方式
下面结合附图对本发明做进一步详细描述：
参考图1，本发明所述的闭式循环除氧装置包括主进气管1、除氧腔3、主排气管2、进料口4、进料腔5、出料腔6及出料口7；主进气管1的出口与除氧腔3侧面的进气口相连通，主排气管2的入口与除氧腔3侧面的出气口相连通，进料口4经进料腔5与除氧腔3顶部的除氧剂入口相连通，除氧腔3底部的除氧剂出口依次经出料腔6与出料口7相连通，除氧腔3内设有除氧剂支撑网8，其中，除氧剂支撑网8位于除氧腔3的底部，除氧剂支撑网8的顶部开口正对除氧腔3顶部的除氧剂入口，除氧剂支撑网8的底部开口正对除氧腔3底部的除氧剂出口。
主进气管1上设有第一阀门91，主排气管2上设有第二阀门92；进料口4与进料腔5之间设有第三阀门93，进料腔5与除氧腔3之间设有第四阀门94，除氧腔3与出料腔6之间设有第五阀门95，出料腔6上设有第六阀门96；沿除氧剂流通的方向，进料腔5横截面的面积先逐渐增大再逐渐缩小；除氧剂为铁颗粒或铜颗粒；沿除氧剂流通的方向，出料腔6横截面的面积先逐渐缩小再逐渐增大；沿气体流通的方向，主进气管1与除氧腔3相连通位置横截面的面积逐渐增大，且除氧腔3与主排气管2相连接位置横截面的面积逐渐减小，使主流流体呈现先减速后加速的流动特点。
除氧腔3内不包含除氧剂支撑网8的空间形成一个环形通道，可使除氧腔3内的主流流体形成大尺度旋涡，增大气体与除氧剂接触的时间，提高除氧剂的除氧效率。所述除氧剂的形态呈大颗粒状，不能穿过除氧剂支撑网8，不与主流流体发生化学反应，同时除氧剂与氧气发生反应生产的氧化物仍不能穿过除氧剂支撑网8。
本发明所述的闭式循环除氧装置的工作原理如下：
主流流体依次通过主进气管1、除氧腔3及主排气管2，主流流体的流动使除氧腔3内产生绕着除氧剂支撑网8旋转的旋涡，增大主流流体与除氧剂的接触表面，除氧剂的装填是除氧剂在以重力及流体阻力的作用下经进料口4、进料腔5进入除氧剂支撑网8中，并在除氧剂支撑网8中与主流流体中的氧气发生氧化还原反应，再经出料腔6从出料口7排出，在实际操作时，通过第三阀门93、第四阀门94、第五阀门95及第六阀门96的通断实现除氧剂颗粒进出除氧腔3的全过程，避免外界气体进入除氧腔3中。
本发明的技术方案不限于上述具体实施例的限制，凡是根据本发明的技术方案做出的技术变形，均落入本发明的保护范围之内。