1.一种反应釜，包括釜体(1)、设置于釜体(1)顶部的釜盖(2)，其特征是：所述釜体(1)内设置有冷却盘管(3)，所述冷却盘管(3)包括进水段(31)、螺旋段(32)、出水段(33)，所述进水段(31)和出水段(33)均贯穿釜盖(2)设置，所述釜体(1)外壁的上半部环绕设置有上加热盘管(4)，所述上加热盘管(4)上设置有上热水进口(5)和上热水出口(6)，所述釜体(1)外壁的下半部环绕设置有下加热盘管(7)，所述下加热盘管(7)上设置有下热水进口(8)和下热水出口(9)。
2.根据权利要求1所述的反应釜，其特征是：所述釜盖(2)朝向釜体(1)的端面上设置有第一密封圈(10)，所述釜体(1)朝向釜盖(2)的端面上开设有第一密封槽(11)，所述第一密封槽(11)与第一密封圈(10)嵌接配合。
3.根据权利要求1所述的反应釜，其特征是：所述釜盖(2)的内壁上设置有上隔热陶瓷层(12)，所述上隔热陶瓷层(12)朝向釜盖(2)的端面上开设有多个上螺纹孔(13)，所述釜盖(2)的外壁上开设有多个上导孔(14)，所述上导孔(14)与上螺纹孔(13)对齐，所述上导孔(14)内穿设有用于与上螺纹孔(13)螺纹连接的上固定螺钉(15)，所述进水段(31)和出水段(33)均贯穿上隔热陶瓷层(12)设置。
4.根据权利要求3所述的反应釜，其特征是：所述上隔热陶瓷层(12)为保温隔热陶瓷。
5.根据权利要求3所述的反应釜，其特征是：所述釜体(1)的内壁上设置有下导热陶瓷层(16)，所述下导热陶瓷层(16)朝向釜体(1)的端面上开设有多个下螺纹孔(17)，所述釜体(1)的外壁上开设有多个下导孔(18)，所述下导孔(18)与下螺纹孔(17)对齐，所述下导孔(18)内穿设有用于与下螺纹孔(17)螺纹连接的下固定螺钉(19)。
6.根据权利要求5所述的反应釜，其特征是：所述下导热陶瓷层(16)为氧化铍陶瓷。
7.根据权利要求5所述的反应釜，其特征是：所述上隔热陶瓷层(12)朝向下导热陶瓷层(16)的端面上设置有第二密封圈(20)，所述下导热陶瓷层(16)朝向上隔热陶瓷层(12)的端面上开设有第二密封槽(21)，所述第二密封槽(21)与第二密封圈(20)嵌接配合。