通过取出并倒空该容器被简单除去。当然，这样的容器也可以被有利地用在本发明的其它实施方式中。
[0020]这里公开了一种基材的辐射处理设备，它在腔室内在用于装设待处理基材的基材座上方包括至少一个辐射源，该腔室包括用于在腔室内维持气流的机构，其具有至少一个气体入口和至少一个气体出口，其特征是，所述至少一个气体入口如此设置在基材座的区域内，即，经所述至少一个气体入口流入的气体首先流经该基材座，随后它直接和/或在流经所述至少一个辐射源之后经该气体出口又离开该腔室。
[0021 ]在该设备中，该气体出口可以如此设置在所述至少一个辐射源的区域内，即，所述气体在流经该基材座之后流经所述至少一个辐射源，随后经气体出口离开该腔室。
[0022]气体出口可以设置在基材座和至少一个辐射源之间的高度上。
[0023]在所述至少一个辐射源的区域内，可以如此设有第二气体入口，即通过第二气体入口流入的气体首先流经所述至少一个辐射源，随后遇到从基材座流来的气体并随之经气体出口流出该腔室。
[0024]在下腔室壁上可以如此设有凹部，S卩，流动在凹部区域中减少并且凹部与此相应地发挥了集尘器的作用。
[0025]可以在所述凹部内设置可取出的容器。
[0026]根据本发明的尤其优选的第三实施方式如图4所示。在这里，腔室401(其具有设于基材11、11‘上方的辐射源9、9 ‘、9 “)在基材11、11‘的下方通过在腔室下部区域内的入口421、421‘接受气流。一股或多股气体流经该基材11、11‘，并且一部分经过在该腔室下部区域内的气体出口423，一部分经过在该腔室的上部区域内的气体出口405流出。根据本实施方式，气体输入装置和/或气体输出装置421、421‘或423按如下方式包括就尺寸而言在流动方向上缩小、但后续在流动方向上又扩宽的流道:即，基本至少在该气体流动机构处存在层流，因而不会因为紊流而出现沉积(例如灰尘和污垢)。该流道在本实施方式的一个特别优选的变型中由可成形的板材如金属板形成。它们如图4中所示分别呈双壁状，其中，所述两个壁通过一道如20毫米的缝隙S相互间隔地构成。该缝隙决定了绝热，之所以这是尤其有利的，是因为在该腔室内因为在干燥时所采用的灼热空气而肯定会出现100°C或更高的温度。所述气体经过气体输入装置421、421‘的圆形开口 21、21‘流入并且一部分经过气体输出装置423的圆形开口 23流出。
[0027]根据第三变型的一个优选实施方式，若干独立的气体流动机构在上部具有凸起，该凸起允许各两个气体流动机构借助例如夹子轨道或盖板30、30‘结合在一起，由此例如也允许在此区域内维持层流。
[0028]尤其是，本发明公开了一种基材的辐射处理设备401，它在腔室内在用于装设待处理基材的基材座11、11 ‘上包括至少一个辐射源9、9 ‘、9 “，该腔室包括用于在该腔室内维持气流的机构，其具有包括至少一个气体入口421、421‘和至少一个气体出口423、405的气体流动机构，其中，该气体流动机构设置在该基材座11、11‘下方的区域内且如此构成，即，气体入口 421、421‘和气体出口 423、405包括下述构件:“其在流向上形成缩小的、且进一步在下游又扩宽的流道”，由此一来，在设备运行时基本上至少在该气体流动机构处存在层流且因而不会因为紊流而出现沉积。
[0029]辐射处理设备401的构成流道的构件最好由可塑形的板、最好是金属板形成。
[0030]在上部区域中的形成该流道的构件中的至少两个最好借助轨道、夹子和或盖板30、30‘结合在一起，由此允许简单的安装和或拆卸。
[0031 ]形成该流道的构件最好至少是双壁的，其中，所述至少两个壁是间隔的，由此形成绝热的缝隙S。
【主权项】
1.一种基材的辐射处理设备(401)，它在腔室内在用于装设待处理基材的基材座(11，11‘)上方包括至少一个辐射源(9，9 ‘，9 “)，该腔室包括用于在该腔室内维持气流的机构，其具有包括至少一个气体入口(421，421 ‘)和至少一个气体出口(423，405)的气体流动机构， 其特征是， 该气体流动机构设置在该基材座(11，11‘)下方的区域内且如下构成:气体入口(421，421‘)和气体出口(423，405)包括下列构件:所述构件形成在流向上缩小的、且进一步在下游又扩宽的流道，由此在该设备运行时基本上至少在该气体流动机构处存在层流且因而不会因为紊流而出现沉积。2.根据权利要求1的设备，其特征是，形成该流道的所述构件由可成形的板、最好是金属板形成。3.根据权利要求2的设备，其特征是，形成该流道的所述构件中的至少两个在上部区域(30，30‘)内借助轨道、夹子和或盖板被结合起来，由此实现简单的安装和或拆卸。4.根据权利要求3的设备，其特征是，形成该流道的所述构件至少是双壁的，其中，所述至少两个壁相互间隔，由此形成绝热缝隙(S)。
【专利摘要】本发明涉及基材的辐射处理设备，它在腔室内在用于装设待处理基材的基材座上包括至少一个辐射源，并且该腔室包括用于在该腔室内维持气流的机构，其包括具有至少一个气体入口和至少一个气体出口的气体流动机构，其特征是，该气体流动机构设置在该基材座下方的区域内且如此构成，经至少一个气体入口流入的气体首先环绕基材座流动，随后它直接和/或在流经所述至少一个辐射源之后经气体出口又离开该腔室。
【IPC分类】B29C35/08, B29C71/04, B29C37/00, F26B3/28, B05D3/06, B29B13/06, B29C35/04
【公开号】CN105555423
【申请号】CN201480051470
【发明人】卡洛斯·里贝罗
【申请人】欧瑞康表面处理解决方案股份公司普费菲孔
【公开日】2016年5月4日
【申请日】2014年9月5日
【公告号】CA2924785A1, DE102013015580A1, EP3046686A1, WO2015039732A1