拌装置适用于在大型反应釜的底部伸入，通过在反应釜本体6的底部中央设置开孔，使同轴的下层搅拌器3和上层搅拌器4的搅拌轴11穿过，来与反应釜本体6下方通过联轴器2与搅拌装置中的搅拌电机I连接。由于搅拌器设置在反应釜内部的下方，所以搅拌轴11的长度得以减小，从而提高其转动时的稳定性，避免反应釜发生振动，保证了反应釜内的产品质量不受影响。此外，本实用新型实施例通过将轴封设置在开孔和搅拌轴11的间隙中，提高了密封效果。
[0056]更具体地，通过第二支架8使导流筒5固定在反应Il本体6内部。从而通过导流筒5对上层搅拌器所搅拌的物料进行强制循环，使物料混合更加均匀，减少物料之间的温差，进一步保证了反应釜内产品的质量。通过将轴封9设置在反应釜底部的开孔和搅拌轴11的间隙中，来保证反应釜的密封性。通过第一支架7使搅拌电机I固定在反应釜本体6下方，不仅能提高搅拌器的运转精度，提高搅拌稳定性，且保证了搅拌电机I的转动轴和搅拌器的搅拌轴11的同轴性，进一步提高搅拌稳定性，且更利于后续的检修。
[0057]作为优选，本实用新型实施例中，下层搅拌器3为叶轮式搅拌器，上层搅拌器4为轴流式搅拌器。通过将下层搅拌器3设置成叶轮式搅拌器，能够充分搅拌沉积在反应釜底部的物料，使其混合均匀。通过将上层搅拌器4设置成轴流式搅拌器，能够使混合均匀的物料得以向上翻滚，进一步保证了物料混合均匀，减少其温差。
[0058]具体地，本实用新型实施例中，搅拌电机I为电机减速机一体机，从而不仅能为上层搅拌器4和下层搅拌器3提供搅拌动力，还能根据实际需求对其搅拌速度进行调节。
[0059]进一步地如附图1所示，为了既能提高反应釜内物料之间的换热效率，降低能耗，又不影响搅拌效果，本实用新型实施例中的反应釜还包括至少2个换热器10，该至少2个换热器10均匀分布在反应釜本体6内的侧部。
[0060]更进一步地，为了在保证反应釜密封性的前提下，同时实现对轴封处的密封空间进行清洗，以防止其被沉积物堵塞，该反应釜还包括具有冲洗功能的机械密封12，该具有冲洗功能的机械密封12设置在轴封9的外部。可以理解的是，此处“具有冲洗功能的机械密封”为本领域现有技术，其可以为具有冲洗功能的双端面机械密封，例如，如附图2所示，该具有冲洗功能的机械密封12包括用于使高压清水通过的通道121以及冲洗空间122，由在冲洗空间122内所通入的高压清水对该机械密封进行冲洗。
[0061]具体地，本实用新型实施例中，上述导流筒5为上下开口的筒体。为了提高物料的混合度，进一步地，该筒体的本体直径可以为变化的，例如从下至上，其直径逐渐减小。或者为了减少物料在导流筒5内上升的阻力，该筒体还可以设置成螺旋状筒体，该螺旋状筒体的螺旋方向与搅拌轴11的搅拌方向一致。
[0062]具体地，为了使搅拌电机I和反应釜稳固结合，上述第一支架7包括4个等高的支撑轴，该4个支撑轴均匀地固定在反应釜本体6和搅拌电机I之间，用于将搅拌电机I连接在反应釜本体上。
[0063]具体地，第二支架8包括2个等高的支撑轴，该2个支撑轴分别固定在反应釜本体6内相对的侧部，并与导流筒5相连接，从而使导流筒5固定在反应釜本体6的内部，并罩装在上层搅拌器4上。为了便于安装的稳固性，这2个支撑轴优选等高。
[0064]更具体地，该反应釜本体6包括圆柱形主体，该圆柱形主体的直径大于2.2米，例如，该直径可以为2.3米、2.5米、2.8米、3.0米、3.2米、3.4米、3.6米、3.8米等等。可以理解的是，该圆柱形主体不包含反应釜本体6的两个端部。可见，本实用新型实施例提供的搅拌装置不仅适用于小型反应釜，更适用于大型反应釜，其适用性更强，商业应用前景更广。
[0065]通过利用本实用新型实施例提供的反应釜进行味精生产的实施，发现反应物料之间的温差小于0.5 °C，所制备得到的产品颗粒的粒径均匀，颜色洁白，其收率达到70 %，制备效率提高了 I倍以上。
[0066]以上所述仅为本实用新型的较佳实施例，并不用以限制本实用新型的保护范围，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
【主权项】
1.一种带有底伸式搅拌装置的反应釜，包括反应釜本体、搅拌装置、导流筒、轴封、第一支架和第二支架； 所述搅拌装置包括:搅拌电机、联轴器、同轴的下层搅拌器和上层搅拌器； 所述搅拌电机、所述联轴器均设置在所述反应釜本体下方，所述同轴的下层搅拌器和上层搅拌器均设置在所述反应釜本体内部； 所述反应釜本体的底部中央设置有开孔，所述同轴的下层搅拌器和上层搅拌器的搅拌轴从所述反应釜本体内部穿过所述开孔至所述反应釜本体下方，并在所述反应釜本体下方通过所述联轴器与所述搅拌电机连接； 所述导流筒罩装在所述上层搅拌器上方； 所述轴封设置在所述开孔和所述搅拌轴的间隙中； 所述第一支架设置在所述反应釜本体的下方，并与所述搅拌电机固定连接； 所述第二支架设置在所述反应釜本体的内部，并与所述导流筒固定连接。
2.根据权利要求1所述的反应釜，其特征在于，所述反应釜还包括至少2个换热器，所述至少2个换热器均匀地设置在所述反应釜本体内的侧部。
3.根据权利要求2所述的反应釜，其特征在于，所述反应釜还包括具有冲洗功能的机械密封，所述机械密封设置在所述轴封的外部。
4.根据权利要求3所述的反应釜，其特征在于，所述具有冲洗功能的机械密封为具有冲洗功能的双端面机械密封。
5.根据权利要求3所述的反应釜，其特征在于，所述下层搅拌器为叶轮式搅拌器，所述上层搅拌器为轴流式搅拌器。
6.根据权利要求5所述的反应釜，其特征在于，所述搅拌电机为电机减速机一体机。
7.根据权利要求5所述的反应釜，其特征在于，所述导流筒为上下开口的筒体。
8.根据权利要求7所述的反应釜，其特征在于，所述第一支架包括4个等高的支撑轴，所述4个等高的支撑轴均匀地固定在所述反应釜本体和所述搅拌电机之间。
9.根据权利要求8所述的反应釜，其特征在于，所述第二支架包括2个支撑轴，所述2个支撑轴分别固定在反应釜本体内相对的侧部，并与所述导流筒相连接。
10.根据权利要求1-9任一项所述的反应釜，其特征在于，所述反应釜本体包括圆柱形主体，所述圆柱形主体的直径大于2.2米。
【专利摘要】本实用新型公开了一种带有底伸式搅拌装置的反应釜，属于化工设备领域。该反应釜包括反应釜本体、搅拌装置、导流筒、轴封、第一支架和第二支架；搅拌装置包括搅拌电机、联轴器、同轴的下层搅拌器和上层搅拌器；搅拌电机、联轴器设置在反应釜本体下方，同轴的下层搅拌器和上层搅拌器设置在反应釜本体内部；反应釜本体的底部中央设有开孔，下层搅拌器和上层搅拌器的搅拌轴从反应釜本体内部穿过该开孔至反应釜本体下方，通过联轴器与搅拌电机连接；导流筒罩装在上层搅拌器上方；轴封设置在开孔和搅拌轴的间隙中；第一支架设置在反应釜本体的下方，与搅拌电机固定连接；第二支架设置在反应釜本体的内部，与导流筒固定连接。该反应釜运行时不易振动。
【IPC分类】B01J19-18
【公开号】CN204485846
【申请号】CN201520013956
【发明人】田克勤, 王千祥
【申请人】淄博三田化工装备有限公司
【公开日】2015年7月22日
【申请日】2015年1月9日