一种化合物均匀喷射装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种化合物均匀喷射装置。
【背景技术】
[0002]喷射装置主要应用于各行业真空吸气工艺:如物料吸收输送、冷凝、蒸馏蒸发、浓缩、脱色除味、供氧除氧、干燥结晶过滤、化学吸收、尾(废)气体中和、真空抽水、真空造型等工艺。广泛应用于轻工、化工、化学、制药、真空冶炼、制糖、制盐、味精、化纤、造纸、食品、塑料橡胶、陶瓷、大中型医院及厂矿企业的真空站、真空制砖、建筑基坑降水、排水、石油、环保等行业。
[0003]喷射器由器体、器盖、喷咀、喷咀座板、导向盘、扩压管及单向阀等部件组成，喷咀采用多喷咀的结构形式，以便得到较大的水蒸气接触面积，有利于热交换的进行，获得较好的真空效果。喷咀座板加工精密，精度较高，以便喷射水流偏斜，降低抽射效能。整个装置结构紧凑精密，强度亦较高，用于真空蒸发系统中，由于能把冷凝器的冷凝作用与真空栗的抽气作用合并在一个设备中同时完成，大大地简化了工艺流程，比之原来用真空栗与旧式冷凝器的装置，可以节省去真空栗、冷凝器、分水器等设备，水力喷射器水力射喷器是一种具有抽真空、冷凝、排水等三种有效能的机械装置。它是利用一定压力的水流通对称均布成一定倾斜度的喷咀喷出，聚合在一个焦点上。由于喷射水流速度很高，于是周围形成负压使壳体内产生真空，另外由于二次蒸汽与喷射水流直接接触，进行热交换，绝大部分的蒸汽冷凝成水，少量未被冷凝的蒸汽与不凝结的气体亦由于与高速喷射的水流互相摩擦，混合与挤压，通过扩压管被排除，使壳体内形成更高的真空。目前现有的化合物喷射装置结构复杂，喷射效果一般，造成喷射不均匀，安装不方便。
【实用新型内容】
[0004]本实用新型要解决的技术问题是提供一种构紧凑，安装方便，喷射压力大，喷射效果好的化合物均匀喷射装置。
[0005]为解决上述问题，本实用新型采用如下技术方案:
[0006]—种化合物均匀喷射装置，包括扩散管、壳体、喷咀和止逆阀阀体，所述扩散管设在壳体下方，所述止逆阀阀体设在壳体一侧，所述扩散管和止逆阀阀体分别与壳体无缝连接，所述止逆阀阀体内设置有阀板，所述喷咀设在壳体内，所述喷咀下方设置有导向盘，所述导向盘设有一个以上，所述喷咀通过导向盘与扩散管连通，所述喷咀外侧设置有喷咀座，所述喷咀座上设置有护盖，所述护盖与喷咀座卡持连接。
[0007]作为优选，所述扩散管底部设置有法兰，方便扩散管的安装。
[0008]作为优选，所述扩散管呈锥形设置，能够蒸汽流入的压力。
[0009]作为优选，所述止逆阀阀体上设置有转盘，方便操控。
[0010]作为优选，所述转盘与阀板转动连接，方便调节开闭。
[0011]本实用新型的有益效果为:设置的导向盘可以减慢蒸汽的流速，使蒸汽均匀地导入壳体内以免喷射水流偏斜，降低抽射效能，保持喷射均匀，护盖能够在不使用时，防护喷咀，止逆阀阀体能够防止流体从壳体内逆流，保持喷射效率高，法兰保持安装方便可靠。
【附图说明】
[0012]图1为本实用新型一种化合物均匀喷射装置的结构示意图。
【具体实施方式】
[0013]如图1所示，一种化合物均匀喷射装置，包括扩散管1、壳体2、喷咀3和止逆阀阀体4，所述扩散管I设在壳体2下方，所述止逆阀阀体4设在壳体2 —侧，所述扩散管I和止逆阀阀体4分别与壳体2无缝连接，所述止逆阀阀体4内设置有阀板5，所述喷咀3设在壳体2内，所述喷咀3下方设置有导向盘6，所述导向盘6设有一个以上，所述喷咀3通过导向盘6与扩散管I连通，所述喷咀3外侧设置有喷咀座7，所述喷咀座7上设置有护盖8，所述护盖8与喷咀座7卡持连接。
[0014]所述扩散管I底部设置有法兰9。
[0015]所述扩散管I呈锥形设置。
[0016]所述止逆阀阀体4上设置有转盘10。
[0017]所述转盘10与阀板5转动连接。
[0018]在使用时，将扩散管I通过法兰安装到蒸汽机上，止逆阀阀体4与化合物管道连通，蒸汽经过导向盘6带动止逆阀阀体4内的化合物流体经过喷咀3喷出。
[0019]本实用新型的有益效果为:设置的导向盘可以减慢蒸汽的流速，使蒸汽均匀地导入壳体内以免喷射水流偏斜，降低抽射效能，保持喷射均匀，护盖能够在不使用时，防护喷咀，止逆阀阀体能够防止流体从壳体内逆流，保持喷射效率高，法兰保持安装方便可靠。
[0020]以上所述，仅为本实用新型的【具体实施方式】，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何不经过创造性劳动想到的变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。
【主权项】
1.一种化合物均匀喷射装置，其特征在于:包括扩散管、壳体、喷咀和止逆阀阀体，所述扩散管设在壳体下方，所述止逆阀阀体设在壳体一侧，所述扩散管和止逆阀阀体分别与壳体无缝连接，所述止逆阀阀体内设置有阀板，所述喷咀设在壳体内，所述喷咀下方设置有导向盘，所述导向盘设有一个以上，所述喷咀通过导向盘与扩散管连通，所述喷咀外侧设置有喷咀座，所述喷咀座上设置有护盖，所述护盖与喷咀座卡持连接。2.根据权利要求1所述的化合物均匀喷射装置，其特征在于:所述扩散管底部设置有法兰。3.根据权利要求2所述的化合物均匀喷射装置，其特征在于:所述扩散管呈锥形设置。4.根据权利要求3所述的化合物均匀喷射装置，其特征在于:所述止逆阀阀体上设置有转盘。5.根据权利要求4所述的化合物均匀喷射装置，其特征在于:所述转盘与阀板转动连接。
【专利摘要】本实用新型公开一种化合物均匀喷射装置，包括扩散管、壳体、喷咀和止逆阀阀体，所述扩散管设在壳体下方，所述止逆阀阀体设在壳体一侧，所述扩散管和止逆阀阀体分别与壳体无缝连接，所述止逆阀阀体内设置有阀板，所述喷咀设在壳体内，所述喷咀下方设置有导向盘，所述导向盘设有一个以上，所述喷咀通过导向盘与扩散管连通，所述喷咀外侧设置有喷咀座，所述喷咀座上设置有护盖，所述护盖与喷咀座卡持连接，该化合物均匀喷射装置结构紧凑，安装方便，喷射压力大，喷射效果好。
【IPC分类】B05B7/04
【公开号】CN204892179
【申请号】CN201520682614
【发明人】曾秀仪
【申请人】广州市威士环保科技有限公司
【公开日】2015年12月23日
【申请日】2015年9月7日