专利名称：吸入器的制作方法
技术领域：
本发明涉及干粉吸入器，尤其涉及但不限于采用反向气旋的干粉吸入器，如本申请人的在先申请W02006/061637中所教示的例子。
背景技术：
在该篇文献所揭露的系统中，一般使用药物微粒与较粗制的、非可呼吸性的乳糖载剂颗粒混合的粉状制剂，外侧剪切力使得“自由”涡流向下螺旋移动而内侧的剪切力使得 “强制”涡流向上螺旋移动(并且，更具体地，旋流室的壁会碰撞)，用以使得颗粒解聚(即， 具体是为了从非可呼吸性的载剂颗粒中去除可呼吸性药物颗粒)。对于干粉吸入器，使得旋流室的尺寸为最小是有利的，例如，制造具有多剂的吸入器，各剂具有自己的旋流室，如WO 2006/061637所揭露的，各旋流室的最大尺寸就能确定在可接受尺寸装置中能够设置多少剂。WO 2006/061637所揭露的发明能够制造尺寸小效率高的吸入器。然而，发明人现在认识到对其中的旋流室的尺寸减小还有其他的限制。若旋流室变得过小，特别是当初始填充入其中的粉末占据旋流室的相当一部分体积时，就存在这样的趋势，即，粉末会在形成旋流之前被快速抛出旋流室，特别是在吸入一开始的时候。即使旋流已经形成，在如此小的旋流室中仍然有将粉末推动至旋流正中心的趋势，而在这一正中心，粉末具有较快的轴向速度，但并不承受涡流区的剪切力(即，粉末在这一位置不会趋向于从中心强制涡流区向外抛出而回到围绕强制涡流区的自由涡流区中)。这会导致离开旋流室时仍然粘附在乳糖载剂颗粒上的药物颗粒的数量不令人满意，因此体积过大而不能吸入。
发明内容
然而，申请人业已提出了某些方法来减少上述的限制，并且本发明的第一方面提供了一种带有旋流室的干粉吸入器，包括至少一个空气进口和出口，其中所述空气进口的构造和所述旋流室的形状设置为使用中在所述旋流室中形成逆流旋流，其中所述旋流室还包括流干扰器机构，设置所述流干扰器机构以在使用中限制来自所述旋流室的底部的轴向空气流动。本发明的第二方面提供了一种带有旋流室的干粉吸入器，包括至少一个空气进口和出口，其中所述空气进口的构造和所述旋流室的形状设置为使用中在所述旋流室中形成逆流旋流，其中所述旋流室还包括流干扰器机构，设置所述流干扰器机构以在使用中限制来自所述旋流室的底部的中心区域的朝向所述出口的空气流动。由此，本领域的技术人员可清楚，根据本发明，在旋流室中设置了物理障碍，以限制主漩涡流到达旋流室的底部。这又防止了还未与其乳糖载剂颗粒解聚并且趋向于朝向底部移动的药物粉粒因为这一大致为轴向的流(即，以大致沿着或平行于所述旋流室轴线的方向)或运动的实质轴向分量而被过早地推出旋流室。这样允许旋流室的整体尺寸得以减小并且/或者增加了其中所容纳的药剂尺寸，但又不会对精细颗粒分数(FPF)造成不利影响，即存在于吸嘴中的那部分颗粒足够小，而能被吸入。流干扰器机构可采用多种不同的形式。一组较佳实施例中，流干扰器机构包括延伸横穿所述旋流室的中心轴线的表面，所述表面限制轴向流动并且促使大部分的所述空气流动在所述流干扰器处发生逆向，而不是延伸至所述旋流室的底部。这使得旋流结构有效地在流干扰器表面终止。然而，申请人发现通过适当地选择所述表面的尺寸，可形成足够的循环空气流以将旋流室底部的粉末拖入主气流。有意将根据本发明至少某些较佳实施例的流干扰器配置为限制主涡流流动至流干扰器表面上方的区域，如前所述。这与W02006/061637的图7所示的实施例相反，该实施例中，旋流室的底部与环形室表面的一部分大致相一致，以增强逆旋流流动图形，特别是该区域中的图形。该旋流底部处的抬高的内部件因此具有大致倾斜的侧壁，以帮助大颗粒移动到所述抬高内部件上并且朝向旋流的中心轴向流移动。与此相反，在本发明的较佳实施例中，流干扰器部件的侧壁具有大致比较陡峭的边(由此，例如在某些实施例中，流干扰器体积的至少40%位于其中点之上)，以防止大颗粒移入更靠近旋流室轴线的距离，直到这些大颗粒到达或接近到达流干扰器顶部的高度。尽管某些实施例可包括带有非平面突起抬升顶部的流干扰器表面，在这些情况下，在粉末能够开始向内朝向旋流室轴线移动之前，将粉末推动至靠近流干扰器的顶部的高度。申请人:发现，为了达成根据本发明的最大效益，应这样支撑所述表面，S卩，使得支撑件不延伸进入所述旋流室的壁与正对所述表面下方的区域之间的区域中，或者至少不明显进入。这可以多种方式达成。例如，一组可能的实施例中，由一或多根连接至所述旋流室的一或多个壁的支架进行支撑。所述支架可为水平的、垂直的、对角线的，或者它们的组合。 在此类实施例的一部分中，所述一或多根支架连接至所述旋流室的上部的侧壁。此类实施例的另一部分中，通过轴向延伸的支架支撑所述表面。另一组实施例中，所述表面由从所述底部伸出的一或多个凸部从下方进行支撑。 所述凸部具有平行或大致平行的侧边，所述侧边从所述表面到所述底部向下变窄，或者为任何其它在所述表面下方具有减小体积的形状。所述凸部可为单独的支撑部件，以支撑单独的干扰器表面，或者更方便的是，所述表面简单地包括凸部的上表面。一组实施例中，所述干扰器表面安装在可旋转底座上。通过允许所述干扰器表面旋转，在某些情况下可减小摩擦能量损耗。本发明的第三方面提供了一种带有旋流室的干粉吸入器，所述旋流室包括延伸横穿所述旋流室轴线的轴向流干扰器表面，利用不延伸进入所述旋流室的壁与正对所述表面下方的区域之间的区域中的支撑件设置或支撑所述轴向流干扰器表面。所述流干扰器表面可基本垂直于所述轴线地延伸。本发明的第四方面提供了一种带有旋流室的干粉吸入器，所述旋流室具有一或多个从所述旋流室的底部开始延伸的凸部，其中由所述凸部或所述凸部的包膜所包围之体积的至少40%位于所述凸部或包膜的高度中点的上方。这一标准保证了所述凸部可提供这样的流干扰器表面，即，其下方的凸部不会显著地延伸超出所述表面的下方。在上述的本发明第三和第四方面中，旋流室最好具有空气进口，并且所述空气进口的构造和所述旋流室的形状最好设置为使用中可在所述旋流室中形成逆流旋流。一组较佳的旋流室实施例中，所述旋流室包括从所述底部轴向向上延伸的圆柱形
6凸部。本领域的技术人员会认识到，即使是名义上的圆柱形凸部实际上也会至少稍微地扩张以允许取回相应模型工具，例如，当由注塑成型而形成时。所述流干扰器机构基本垂直地延伸横穿所述旋流室的中心轴线。一组实施例中， 通过凸部设置这一表面。然而，所述流干扰器机构可采用其它形式。例如，所述凸部的近侧端可为开口端部，例如，形成中空管。作为单个凸部的代替，可，例如间隔紧密地设置多个凸部，以作为有效尺寸与所述凸部包膜接近的单个“实际上”的凸部。较佳实施例中，流干扰器表面是连续的，但这并不是必须的；所述表面可为不连续的，例如，在其中界定有带有穿孔、槽、孔等。所述表面可为光滑的或形成纹理/图形。穿孔可具有平面的上表面，或至少具有大致平面的上表面。其它实施例中，一或多个穿孔可采用其它形式，例如，圆锥形或金字塔形(金字塔塔面的数量不重要)并且可为凸形或凹形。某些情况下，此类形式的有利之处在于有助于对在所述表面上终止的旋流进行稳定和定位。较佳实施例中，旋流室包括涡流探测器。如本领域的技术人员所公知的，涡流探测器系围绕旋流室出口的凸部，所述凸部用以在使用时仅允许排出循环达到由涡流探测器的尺寸所界定的最大半径的颗粒。根据此类实施例，逆流旋流的有效长度为涡流探测器的底部与流干扰器的顶部之间的轴向距离。下文将所述轴向距离称为“涡流核心长度”。尽管申请人发现涡流核心长度可为更短，但在较佳实施例中，所述涡流核心长度为至少5mm。例如，其可为5mm 12mm，或6mm 11mm，或7mm 10mm，或8mm 9mm，例如，8. 5mm。同样地,涡流核心长度可为5mm 9mm，或 6mm 9mm,或 7mm 9mm。可适当选择流干扰器表面或部件的宽度，以达成这样的平衡，即大到足以充分地限制其下方的轴向流动，但也不会太大而使得流至底部以拖动粉末的螺旋流动不足。一组较佳实施例中，所述旋流室设有一或多倾斜的空气进口槽，以帮助沿着所述凸出的流干扰器部件向下对漩涡移动的空气进行导向，从而有助于更好地拖动靠近旋流室底部的粉末。 另一个考量是，在所述流干扰器部件包括圆柱形或类似形状的从所述底部伸出的凸部的情况下，若所述凸部太宽，所述凸部与所述旋流室之间用以容纳粉末或允许粉末被分散的空间就不足。一组较佳实施例中，所述流干扰器表面或凸部的“包膜”宽度(下文称为“干扰器宽度”)小于涡流探测器的孔径。更具体地，申请人发现，干扰器表面或凸部的最优宽度、 涡流核心长度、及涡流探测器的孔径之间有联系。因此，一组最佳实施例中，干扰器宽度小于涡流探测器的孔径，它们之间的差为涡流核心长度的X倍，其中X为0. 2 0. 35，较佳为 0. 25 0. 31，较佳为0. 27 0.四，较佳为约0. 28。然而，其它比例也是适当的(例如，根据空气进口与出口的构造，粉末装载等)。旋流室的内部可具有任何适当的具有所需空气流动特性的形式。较佳实施例中， 旋流室的截面积沿远离所述空气进口的方向减小；这促使形成实施例中理想的逆流旋流。 较佳地，所述截面积的减小至少持续到所述流干扰器或所述流干扰器凸部的顶部。这一情况下，由于有意使得主涡流结构不延伸到流干扰器的下方，旋流室的截面积可继续减小，但同样可保持不变或者甚至在变大。一些实施例中，所述旋流室的底部设有这样的结构，即其用于形成涡流并且藉此增强位于所述旋流室的底部的湍流。这一湍流有助于拖动气流中的粉末，特别是在流动刚刚开始的时候。所述结构可包括多个凸部，例如，齿状凸部。可根据应用变化旋流室的尺寸。一组较佳实施例中，旋流室的整体高度(从旋流室的出口到底部进行测量)小于20mm，最佳小于15mm。一小部分实施例中，所述高度为8 12mm。在设置涡流探测器的情况下，作为较佳的情况，可认为出口为涡流探测器的下端。一些实施例中，还包括旁路气流以允许通过所述吸入器吸入所述空气的一部分以绕过所述旋流室。这可减小吸入系统的总压降(并因此改进患者的舒适感和耐受力)。然而，旁路气流不是必须的。同样地，旋流室的最大宽度取决于应用。一组较佳实施例中，所述最大宽度小于 10mm，较佳为小于8mm。一小部分实施例中，所述最大宽度为5 7mm。在设置的情况下，流干扰器表面或凸部包膜的宽度也类似地取决于应用，但在一组较佳实施例中所述宽度为0. 5 3mm，较佳为1 2mm。一部分实施例中，所述宽度为 1. 25 1. 75mm在设置的情况下，所述凸部的高度，或所述多个凸部的最大或平均高度为小于 5mm，例如，为2mm 4mm。一组实施例中，所述高度为2. 5 3. 5mm。另一组实施例中，所述高度为0. 5mm 2. 5mm，例如为Imm 2mm，此类较短的凸部用以在允许使用低旋流负载的情况下减小摩擦壁损失。为了在给定的旋流中达成更大的粉末负载，可能需要更高的流干扰器凸部，以抑制粉末移动至粉末在其处可能过早丢失的中心轴线。所述流干扰器表面离开所述旋流室底部的高度大于等于所述旋流室高度的20%， 最佳为20% 40%，例如20% 30%或25% 30%。本文中，当称为上/下、顶部/底部等方向时，应理解是相对于具有垂直轴线并且空气出口位于顶部的旋流室而言。然而，这种参考是任意的，因为旋流室在使用时无需处于垂直的定向。所述空气进口最好设为对空气进行导向，以使所述空气绕所述旋流室的边缘螺旋地进入，从而形成逆流旋流。可设置单个或多个进口。如前所述，一组较佳实施例中，所述一或多个进口是倾斜的。流干扰器表面或凸部可为任何的形状或截面，例如，椭圆形或任何多边形，但较佳实施例中，为圆形。这种情况下，本文所称的表面或凸部的宽度应为其直径。旋流室可一体形成为吸入器的一部分，例如，作为有意再次使用的单旋流室，或者作为一次性吸入器的一部分。或者，其可设为一般含有所需的药粉的单独包装，以插入吸入器中。所述包装可仅包括单个旋流室或多个旋流室。一组较佳实施例中，以单个环或多个环的结构或者一阵列的形式，在不可填充的多剂吸入器中提供如前所述的带有流干扰器部件或表面的多个旋流。应理解，本发明的有益特征系由旋流室本身提供，而与其如何结合入吸入器或如何与其一起使用无关。由此，本发明的另一方面提供了一种用于干粉吸入器的旋流室，包括至少一个空气进口和出口，其中所述旋流室的形状设置为使用中可在所述旋流室中形成逆流旋流，其中所述旋流室还包括流干扰器机构，设置所述流干扰器机构以在使用中限制来自所述旋流室的底部的沿轴向的空气流动。本发明的另一方面还提供了一种用于干粉吸入器的旋流室，所述旋流室具有延伸横穿所述旋流室轴线的轴向流干扰器表面，利用不延伸进入所述旋流室的壁与正对所述表面下方的区域之间的区域中支撑件来支撑所述轴向流干扰器表面。所述流干扰器表面基本垂直于所述轴线地延伸。本发明的另一方面还提供了一种带有旋流室的干粉吸入器，所述旋流室具有一或多个从所述旋流室的底部伸出的凸部，其中由所述凸部或所述凸部的包膜所包围之体积的至少40%位于所述凸部或包膜的高度中点的上方。本文所描述的与本发明的吸入器方面有关的所有优选及较佳特征同样可应用于本发明的相应旋流室方面。
结合附图，下文仅以示例的方式描述本发明的某些实施例，其中图Ia为根据本发明实施例的旋流室的简化图；图Ib为与图Ia类似的图，其中示出了使用中的旋流室中空气流动；图2 23示出了本发明代替实施例的多种示意性表示；且图M仅示意性地并且仅为了说明，示出了不带本文所述之流干扰器机构的逆旋流器中的大载剂颗粒的某些二级流动。
具体实施例方式为了有助于理解本发明实施例的操作，首先参考图M描述并不根据本发明进行配置的逆流旋流室的功能。图M为用一种方式显现可在逆流旋流室中发生的某些粉粒运动的示意图。旋流室中的自由涡流的漩涡运动使得空气(及颗粒)趋于向外朝旋流室的外壁抛出100，从而形成准静态压力场，其中局部的伪静态压力沿旋流室的中心轴随半径增大，即，靠近旋流顶部 102(半径较大)的局部压力大于靠近旋流底部104(半径较小)的局部压力，从而导致沿旋流室的外壁向下的压力梯度，因此保持在气流边界层并因此不太能够跟随漩涡状的旋流式流动的较大粉粒(例如，乳糖载剂颗粒)沿着所述压力梯度向下缓慢行进106。达到旋流室底部时，在加入大致轴向110的循环二级流运动之前，局部压力梯度向内推动108这些较大颗粒，如图M所示。然而，若这些颗粒沿大致的轴向离开旋流室底部的中心区域，在到达旋流室顶部之前没有足够的横向运动或螺旋运动将它们抛离内侧的强制涡流区的情况下，则它们会过早地从旋流室丢失(例如，还未通过暴露至旋流室内的旋流流动而使得药物颗粒与它们解聚)。这会导致非可呼吸性药物的排出水平不令人满意。图1示出了根据本发明的用作干粉吸入器一部分的旋流室的简化示意图。旋流室 2的形状为大致的截头圆锥形，因此具有圆形截面并且带有向下变细的壁4。尽管未予以图示，朝向旋流室2的顶部设有一或多个方向大致切向并且部分向下的进口 6，这样，在使用过程中，空气以螺旋漩涡的方向进入旋流室。旋流室的顶部设有向下凸出的围绕旋流室出口 10的环状壁部8。业界亦将环状壁部8称为涡流探测器(vortex finder)。到此为止所描述的图1所示的旋流室基本类似于WO 2006/061637所描述和讨论的相同原理并据其操作。然而，这一旋流室的不同之处在于其具有从旋流室的底部13向上垂直延伸的圆柱形凸部12，所述凸部12的顶部或末端界定出圆形的轴向流干扰器表面14。 由此，干扰器表面14由从旋流室底部13开始延伸的圆柱形凸部12进行支撑。应注意，干扰器表面14和相应凸部12的直径小于涡流探测器8的孔径。示范性结构中，流干扰器表面14的直径为1. 5mm，而涡流探测器8的孔径为3. 18mm。这两个尺寸之间的差为涡流探测器8的底部与干扰器表面14之间距离(本实施例中为6mm)的观％。下文将后一尺寸称为涡流核心长度。使用中，旋流室2形成干粉吸入器的一部分。在吸入器中设置药物粉粒和乳糖载剂颗粒以使得使用者能吸入药物粉粒。可将粉末直接设在旋流室2，或者设在合适的前腔中并由进入空气进口 6的空气拖动。使用者经由吸嘴(未示出)吸入空气，这样就从旋流室的出口 10吸出空气并且在旋流室中形成负压，所述负压经由空气进口 6吸出空气(并且可能带有粉末)。起初，空气进入旋流室2，并且以不太规则的流动图形经由出口 10离开。然而，随着进入旋流室2的空气气流逐渐增强时，其开始以螺旋运动绕旋流室2的边缘循环。如WO 2006/061637所描述的，旋流室2的锥形截面促使旋流的流动方向发生反向，这样，就有强力的反向旋转流沿旋流室2的中心轴向上前进，并且离开出口 10。由于存在流干扰器表面14，这就意味着，对于大部分气体，流动方向的反向发生在干扰器表面14，而不是发生在旋流室底部13。这意味着旋流室的绕凸部12边缘的底部中所收集的粉末仅经受较慢的螺旋旋流运动，而不是中心涡流的快速向上轴向运动。干扰器表面14因此可视为有效地迫使主涡流结构在该表面处终结而非继续前进至旋流室的底部。这就显著地减小了药物与乳糖仍然凝聚的大颗粒被扫入位于中心的向上轴向气流中并且被扫出出口 10的趋势。相反，仅允许到达旋流室底部的大颗粒回到流干扰器上方、离开旋流室的轴线有较大距离的高速漩涡旋转区域，藉此使得大颗粒获得实质性的横向及/或螺旋运动，并且使得大颗粒向后抛出以进行下一步的漩涡运动、壁碰撞、及循环。因此，旋流室2中的所有粉末有较大的机会进行适当解聚，并且仅有足够小的颗粒才能经由涡流探测器8离开，如WO 2006/061637所述。图Ib示出了气流，并且示出了从旋流室的计算机流体力学模型获得的阴影图。一般地，灰色的较淡形状16代表漩涡速度最大的区域，示出了如何仅在流干扰器表面14的高度上方而非其下方存在空气快速移动的中心涡流芯。如本文所述，流干扰器的存在限制了旋流底部的颗粒在局部压力梯度的干扰下向内移动。具体地，其抑制了颗粒一直移动到旋流室底部的中心区域。因此，颗粒无法加入靠近旋流室的中心轴线的、大致为轴向的二级流动，而是保持为远离中心轴线。一旦颗粒到达流干扰器的顶部，颗粒就进入仅存在于流干扰器顶部上方的高速漩涡运动区域，但颗粒离中心足够远(与流干扰器机构的半径相关的最小距离)以获得实质性的横向/螺旋运动， 并且颗粒被向外抛出并且进行循环的可能性更大，而不是过早地跟随主气流经由出口离开旋流室。较之不带有凸部12和流干扰器表面14的结构，上述结构允许旋流室2的整体尺寸得以减小，但不会牺牲高的精细颗粒分数(FPF)-即旋流室中所存在颗粒中小到足以(一般为小于等于5微米)被吸入肺的深处的占高比例。其余的图示出了能够达到类似效果的可能的代替实施例的多种示意实例。图2中的实施例与图Ia和Ib所示的实施例非常类似(简明起见未示出空气进口和涡流探测器)， 其不同之处仅在于图1中的旋流室与中空的凹槽一起成型而形成凸部12，此处则是将凸部 12'固定至截头圆锥旋流室的底部。CN 102548663 A
图3示出了这样的实施例，利用位于圆形-圆柱形包膜中的多个窄小且间隔紧密的凸部18代替前述实施例中的单个凸部。该凸部的包膜的尺寸与所述实心凸部相同，并且以完全相同的方式工作。图4和5示出了如何利用碟部件20设置流干扰器表面，而不是由凸出旋流室底部的凸部进行设置或支撑，所述碟部件由分别来自侧壁4或涡流探测器8的水平或垂直支架 22和M支撑，例如，通过三根水平的支架22。这些实施例说明干扰器表面不必从旋流室底部进行支撑。尽管这些实施例可能成本更高及/或制造难度更大，但它们的优点是可使得干扰器表面之下的旋流室体积20为最大，而这也使得可容纳入其中的粉末量为最大。实际上，这一结构甚至可将旋流室的整体尺寸减小得更小。图6示出了带有从旋流室底部开始延伸的圆形截面、端部开口的管状凸部沈的实施例。具体可见图6下部的旋流室的平面图。这一实施例中，凸部沈用作流干扰器。图7示出了流干扰器表面观由从旋流室底部开始延伸的支撑部件30进行支撑的实施例，支撑部件30的宽度小于流干扰器表面观的宽度。这说明圆柱形的凸部不是必须的。这一实施例的有利之处在于，可在流干扰器表面观的下方容纳较大体积的粉末。图8示出了图7实施例的变化，其中支撑部件30并不位于旋流室的中心轴线上。 更具体地，可以任何方便的形状或形式实现流干扰器表面的支撑，尽管较佳实施例中所述支撑并未显著地侧向延伸至流干扰器表面的垂直投影或所占据空间的外侧。图9示出了流干扰器表面观由多个连接至底部的支撑件32进行支撑的实施例。图10和11的实施例示出了从底部设置的各凸部34和36，但它们的截面形状并非圆形。图10中，截面形状为椭圆形，而图11中的截面形状为六边形。当然，可采样其它任何合适的规则或不规则形状。图12的实施例中，设有大致圆柱形的凸部38，其表面具有螺旋形的轮廓线40，这有助于旋流室中在形成于凸部顶部的流干扰器表面42之下的区域中形成所需的粉末拖动螺旋气流。图13示出了凸部44的另一实例，凸部44的末端面46上设有流干扰器表面，并且凸部44并不是圆柱形的。图17也示出了此类实例。这一情况下，凸部48是截头锥形的。图14示出了流干扰器表面为非平面的两个实例。图14a中，流干扰器表面50是圆锥形的，而图14b中，流干扰器表面52是穹顶形的。然而，这两种情况下，支撑部件观是圆柱形的，并且保持在各流干扰器表面50和52的垂直投影内。图15示出的实施例中，位于凸部56的顶部的流干扰器表面M是凹形(例如，凹形的圆锥面或凹形的金字塔形面)，而不是图Ha和14b中的凸形或者其他实施例中的平面形。图16示出的实施例中，旋流室4'的侧壁并不是均勻地变窄，而是具有直部58，直部58在垂直方向上的范围接近凸部。如前所述，在凸部12的顶部且位于流干扰器表面14 的下方，没有逆流旋流结构。图18示出的实施例中，呈现为薄碟20'形式的流干扰器表面由纤细的轴向支架或线23进行支撑，所述支架或线从旋流室的底部延伸至空气出口的中心。这种类型实施例的一个变化中，碟20'可在线23上随着涡流的发展而自由转动，藉此减小系统中的摩擦能
量损耗。
图19示出的实施例中，流干扰器部件由旋流室底部的环形齿状部件66支撑，所述环形齿状部件66形成漩涡并且促使在流干扰器表面下方的粉末保持区域中的气流中形成较大的湍流。这一湍流有助于拖动气流中的粉末，特别是在流动刚刚开始的时候。图20示出的实施例中，流干扰器表面68包括多个穿孔70。图21示出的实施例中，流干扰器部件包括圆柱形的支撑件观以及金字塔形的顶部64。图22示出的实施例中，旋流室4'的侧壁并不是均勻地形成锥形，而是具有底部 58'，其朝向旋流室的底部向外扩张并且具有接近凸部的垂直方向上的范围。最后，图23示出的实施例中，流干扰器表面60为穹顶形并且其外径大于其支撑件 62的直径。本领域的技术人员应理解，所示实施例仅是根据本发明可采用形成流干扰器部件或流干扰器表面的多种方法中的少数实例。还有多种方法可在旋流室中设置具有相同效果并且依据前述相同原理的此类表面或部件。
权利要求
1.一种带有旋流室的干粉吸入器，包括至少一个空气进口和出口，其中所述空气进口的构造和所述旋流室的形状设置为使用中在所述旋流室中形成逆流旋流，其中所述旋流室还包括流干扰器机构，所述流干扰器机构设置成在使用中限制来自所述旋流室的底部的轴向空气流动。
2.一种带有旋流室的干粉吸入器，包括至少一个空气进口和出口，其中所述空气进口的构造和所述旋流室的形状设置为使用中在所述旋流室中形成逆流旋流，其中所述旋流室还包括流干扰器机构，所述流干扰器机构设置成在使用中限制来自所述旋流室的底部的中心区域朝向所述出口的空气流动。
3.如权利要求1或2所述的吸入器，其中所述流干扰器机构包括延伸横穿所述旋流室的中心轴线的表面，所述表面限制轴向流动并且促使大部分的所述空气流动在所述流干扰器处发生逆向，而不是延伸至所述旋流室的底部。
4.如权利要求1、2或3所述的吸入器，其中所述流干扰器机构包括被这样支撑的表面， 艮口，一或多个支撑件基本上不延伸进入所述旋流室的壁与正对所述表面下方的区域之间的区域中。
5.如前述权利要求中任一项所述的吸入器，其中所述流干扰器机构包括由一或多根连接至所述旋流室的一或多个壁的支架进行支撑。
6.如权利要求5所述的吸入器，其中所述一或多根支架连接至所述旋流室的上部的侧壁。
7.如权利要求5或6所述的吸入器，其中通过轴向延伸的支架支撑所述表面。
8.如前述权利要求中任一项所述的吸入器，其中所述流干扰器机构包括由从所述底部伸出的一或多个凸部从下方进行支撑的表面。
9.如权利要求8所述的吸入器，其中所述表面包括所述一或多个凸部的上表面。
10.如前述权利要求中任一项所述的吸入器，其中所述流干扰器机构包括安装在可旋转底座上的表面。
11.一种带有旋流室的干粉吸入器，所述旋流室包括延伸横穿所述旋流室轴线的轴向流干扰器表面，利用不延伸进入所述旋流室的壁与正对所述表面下方的区域之间的区域中的支撑件设置或支撑所述轴向流干扰器表面。
12.如权利要求11所述的吸入器，其中所述流干扰器表面基本垂直于所述轴线地延伸。
13.一种带有旋流室的干粉吸入器，所述旋流室具有一或多个从所述旋流室的底部伸出的凸部，其中由所述凸部或所述凸部的包膜所包围之体积的至少40%位于所述凸部或包膜的高度中点的上方。
14.如前述权利要求11 13中任一项所述的吸入器，其中所述旋流室具有空气进口， 并且所述空气进口的配置和所述旋流室的形状设置为使用中在所述旋流室中形成逆流旋流。
15.如前述权利要求中任一项所述的吸入器，其中所述旋流室包括从所述底部轴向向上延伸的圆柱形凸部。
16.如前述权利要求1 10中任一项所述的吸入器，其中所述流干扰器机构包括基本垂直地延伸横穿所述旋流室的中心轴线的表面。
17.如权利要求16所述的吸入器，其中通过凸部设置所述表面。
18.如前述权利要求中任一项所述的吸入器，其中所述旋流室包括涡流探测器。
19.如权利要求18所述的吸入器，其中涡流核心长度为5mm 12mm。
20.如权利要求18或19所述的吸入器，其中所述干扰器宽度小于所述涡流探测器的孔径。
21.如权利要求18、19或20所述的吸入器，其中所述干扰器宽度小于所述涡流探测器孔径，所述干扰器宽度与所述涡流探测器孔径之间的差为所述涡流核心长度的0. 2 0. 35倍。
22.如前述权利要求中任一项所述的吸入器，其中所述旋流室的截面积沿远离所述空气进口的方向减小。
23.如权利要求22所述的吸入器，其中所述截面积的减小至少持续到所述流干扰器或所述流干扰器凸部的顶部。
24.如前述权利要求中任一项所述的吸入器，其中所述旋流室的底部设有这样的结构， 即其用于形成涡流并且藉此增强位于所述旋流室的底部的湍流。
25.如权利要求M所述的吸入器，其中所述结构包括多个凸部。
26.如前述权利要求中任一项所述的吸入器，其中所述旋流室的总体高度小于20mm。
27.如前述权利要求中任一项所述的吸入器，还包括旁路气流以允许通过所述吸入器吸入的所述空气的一部分以绕过所述旋流室。
28.如前述权利要求中任一项所述的吸入器，其中所述旋流室的最大宽度为小于 IOmm0
29.如前述权利要求中任一项所述的吸入器，其中所述干扰器宽度为0.5 3mm。
30.如前述权利要求中任一项所述的吸入器，其包括一或多个从所述旋流室的底部伸出的凸部，其中所述凸部的高度，或所述多个凸部的最大或平均高度为小于5mm。
31.如前述权利要求中任一项所述的吸入器，其包括流干扰器表面，所述流干扰器表面离开所述旋流室底部的高度大于等于所述旋流室高度的20%。
32.如前述权利要求中任一项所述的吸入器，其包括空气进口，所述空气进口设为对空气进行导向，以使所述空气绕所述旋流室的边缘螺旋地进入，从而形成逆流旋流。
33.如前述权利要求中任一项所述的吸入器，其中所述旋流室设有一个或多个倾斜的空气进口槽。
34.如前述权利要求中任一项所述的吸入器，其中所述流干扰器表面或凸部具有圆形截面。
35.一种用于干粉吸入器的旋流室，包括至少一个空气进口和出口，其中所述旋流室的形状设置为使用中在所述旋流室中形成逆流旋流，其中所述旋流室还包括流干扰器机构， 所述流干扰器机构设置为在使用中限制来自所述旋流室的底部的沿轴向的空气流动。
36.一种用于干粉吸入器的旋流室，所述旋流室具有横穿所述旋流室轴线的轴向流干扰器表面，利用不延伸进入所述旋流室的壁与正对所述表面下方的区域之间的区域中的支撑件来支撑所述轴向流干扰器表面。
37.如权利要求36所述的旋流室，其中所述流干扰器表面基本垂直于所述轴线地延伸。
38.一种用于干粉吸入器的旋流室，所述旋流室具有一或多个从所述旋流室的底部伸出的凸部，其中由所述凸部或所述凸部的包膜所包围之体积的至少40%位于所述凸部或包膜的高度中点的上方。
39.一种用于插入包括如权利要求35 38所述的一或多个旋流室的吸入器的包装。
全文摘要
一种带有旋流室(4)的干粉吸入器，包括至少一个空气进口(6)和出口(10)，其中所述空气进口(6)的构造和所述旋流室(4)的形状设置为在使用中可在所述旋流室(4)中形成逆流旋流。所述旋流室(4)还包括流干扰器机构，例如从所述底部伸出的凸部(12)的上表面(14)，所述流干扰器机构设置成在使用中限制来自所述旋流室(4)的底部的轴向空气流动。
文档编号B04C5/103GK102548663SQ201080038356
公开日2012年7月4日 申请日期2010年8月24日 优先权日2009年8月24日
发明者大卫·斯图亚特·哈里斯, 大卫·格林利夫, 彼得·霍德森, 瑞秋·斯特瑞比格, 阿曼达·简·富勒, 马修·艾伦, 马雷克·米兹克 申请人:剑桥顾问医师有限公司