冲频率300Hz，占空比10%，电解液7 的温度20°C，在阳极4表面得到氧化物陶瓷涂层。
[0035] 本实施例所制氧化物陶瓷涂层的成分数据见表1。
[0036] 表1涂层成分对比结果（质量百分比，wt % )
[0038] 由表1可知，本实施例采用反渗透技术和微弧氧化技术相结合的方法，在有色金 属表面制备氧化物陶瓷涂层，利用反渗透膜对电解液中的离子进行定向选择，有效的实现 了涂层成分的选择性调控，涂层成分及含量调控方法简便且容易实现，使用设备简单且投 入成本低。
[0039] 实施例2
[0040] 本实施例采用反渗透技术和微弧氧化技术相结合的方法，在有色金属表面制备氧 化物陶瓷涂层，所述有色金属为铝合金。结合图1，本实施例有色金属表面制备氧化物陶瓷 涂层成分可控的微弧氧化方法包括以下步骤：
[0041] 步骤一、选择第一反渗透膜2-1和第二反渗透膜2-2 ;所选择的第一反渗透膜2-1 的孔径Di满足：2R D # 2. 2R x，所选择的第二反渗透膜2-2的孔径D2满足：D 2< 2R x，所 述Rx为待沉积元素的可溶性盐的离子半径，Rx的单位为埃；本实施例中待沉积元素为硅，硅 酸盐离子半径Rx= 3. 5埃，故选择的第一反渗透膜2-1的孔径为7埃，选择的第二反渗透 膜2-2的孔径为3埃；
[0042] 具体操作过程中，可将第一反渗透膜2-1和第二反渗透膜2-2设计为多层结构，采 用层层过滤的方法提高离子选择的准确率和选择效率。
[0043] 步骤二、利用步骤一中所选择的第一反渗透膜2-1和第二反渗透膜2-2将微弧氧 化槽分隔为三个工作区：第一非氧化工作区1-1、氧化工作区1-2和第二非氧化工作区1-3， 所述氧化工作区1-2位于第一反渗透膜2-1和第二反渗透膜2-2之间，所述第一非氧化工 作区1-1位于第一反渗透膜2-1的左侧，所述第二非氧化工作区1-3位于第二反渗透膜2-2 的右侧；
[0044] 步骤三、采用管路6将步骤二中所述第一非氧化工作区1-1和第二非氧化工作区 1-3连通，并在管路6上设置压力栗5,然后将电解液7加入微弧氧化槽中，将阳极4、第一 阴极3-1和第二阴极3-2插设于氧化工作区1-2内并浸入电解液7中，之后利用压力栗5 使电解液7发生定向流动，利用第一反渗透膜2-1和第二反渗透膜2-2对电解液7进行离 子选择；所述离子选择的时间为30min，所述阳极4的材质为铝合金，所述第一阴极3-1和 第二阴极3-2的材质均为不锈钢，所述第一阴极3-1和第二阴极3-2均与阳极4平行相对 设置；所述电解液7由氢氧化钠、无机盐和去离子水混合均匀而成，其中氢氧化钠的浓度为 l〇g/L，无机盐的浓度为15g/L，所述无机盐为娃酸钠；
[0045] 步骤四、在保持步骤三中所述电解液7定向流动的条件下，通电进行微弧氧化处 理15min，微弧氧化处理的工艺参数为：电压350V，脉冲频率500Hz，占空比10%，电解液7 的温度18°C，在阳极4表面得到氧化物陶瓷涂层。
[0046] 本实施例所制氧化物陶瓷涂层的成分数据见表2。
[0047] 表2涂层成分对比结果（质量百分比，wt % )
[0049] 由表2可知，本实施例采用反渗透技术和微弧氧化技术相结合的方法，在有色金 属表面制备氧化物陶瓷涂层，利用反渗透膜对电解液中的离子进行定向选择，有效的实现 了涂层成分的选择性调控，涂层成分及含量调控方法简便且容易实现，使用设备简单且投 入成本低。
[0050] 实施例3
[0051] 本实施例采用反渗透技术和微弧氧化技术相结合的方法，在有色金属表面制备氧 化物陶瓷涂层，所述有色金属为钛合金。结合图1，本实施例有色金属表面制备氧化物陶瓷 涂层成分可控的微弧氧化方法包括以下步骤：
[0052] 步骤一、选择第一反渗透膜2-1和第二反渗透膜2-2 ;所选择的第一反渗透膜2-1 的孔径Di满足：2R D # 2. 2R x，所选择的第二反渗透膜2-2的孔径D2满足：D 2< 2R x，所 述Rx为待沉积元素的可溶性盐的离子半径，Rx的单位为埃；本实施例中待沉积元素为锆，氟 锆酸盐离子半径Rx= 5埃，故选择的第一反渗透膜2-1的孔径为11埃，选择的第二反渗透 膜2-2的孔径为5埃；
[0053] 具体操作过程中，可将第一反渗透膜2-1和第二反渗透膜2-2设计为多层结构，采 用层层过滤的方法提高离子选择的准确率和选择效率。
[0054] 步骤二、利用步骤一中所选择的第一反渗透膜2-1和第二反渗透膜2-2将微弧氧 化槽分隔为三个工作区：第一非氧化工作区1-1、氧化工作区1-2和第二非氧化工作区1-3， 所述氧化工作区1-2位于第一反渗透膜2-1和第二反渗透膜2-2之间，所述第一非氧化工 作区1-1位于第一反渗透膜2-1的左侧，所述第二非氧化工作区1-3位于第二反渗透膜2-2 的右侧；
[0055] 步骤三、采用管路6将步骤二中所述第一非氧化工作区1-1和第二非氧化工作区 1-3连通，并在管路6上设置压力栗5,然后将电解液7加入微弧氧化槽中，将阳极4、第一 阴极3-1和第二阴极3-2插设于氧化工作区1-2内并浸入电解液7中，之后利用压力栗5 使电解液7发生定向流动，利用第一反渗透膜2-1和第二反渗透膜2-2对电解液7进行离 子选择；所述离子选择的时间为40min，所述阳极4的材质为钛合金，所述第一阴极3-1和 第二阴极3-2的材质均为不锈钢，所述第一阴极3-1和第二阴极3-2均与阳极4平行相对 设置；所述电解液7由氢氧化钠、无机盐和去离子水混合均匀而成，其中氢氧化钠的浓度为 l〇g/L，无机盐的浓度为10g/L，所述无机盐为氟锆酸钾；
[0056] 步骤四、在保持步骤三中所述电解液7定向流动的条件下，通电进行微弧氧化处 理20min，微弧氧化处理的工艺参数为：电压3050V，脉冲频率300Hz，占空比8%，电解液7 的温度15°C，在阳极4表面得到氧化物陶瓷涂层。
[0057] 本实施例所制氧化物陶瓷涂层的成分数据见表3。
[0058] 表3涂层成分对比结果（质量百分比，wt % )
[0060] 由表3可知，本实施例采用反渗透技术和微弧氧化技术相结合的方法，在有色金 属表面制备氧化物陶瓷涂层，利用反渗透膜对电解液中的离子进行定向选择，有效的实现 了涂层成分的选择性调控，涂层成分及含量调控方法简便且容易实现，使用设备简单且投 入成本低。
[0061] 实施例4
[0062] 本实施例采用反渗透技术和微弧氧化技术相结合的方法，在有色金属表面制备氧 化物陶瓷涂层，所述有色金属为钽合金。结合图1，本实施例有色金属表面制备氧化物陶瓷 涂层成分可控的微弧氧化方法包括以下步骤：
[0063] 步骤一、选择第一反渗透膜2-1和第二反渗透膜2-2 ;所选择的第一反渗透膜2-1 的孔径Di满足：2R D # 2. 2R x，所选择的第二反渗透膜2-2的孔径D2满足：D 2< 2R x，所 述Rx为待沉积元素的可溶性盐的离子半径，Rx的单位为埃；本实施例中待沉积元素为铝，铝 酸盐离子半径Rx= 2. 5埃，故选择的第一反渗透膜2-1的孔径为5埃，选择的第二反渗透 膜2-2的孔径为3埃；
[0064] 具体操作过程中，可将第一反渗透膜2-1和第二反渗透膜2-2设计为多层结构，采 用层层过滤的方法提高离子选择的准确率和选择效率。
[0065] 步骤二、利用步骤一中所选择的第一反渗透膜2-1和第二反渗透膜2-2将微弧氧 化槽分隔为三个工作区：第一非氧化工作区1-1、氧化工作区1-2和第二非氧化工作区1-3， 所述氧化工作区1-2位于第一反渗透膜2-1和第二反渗透膜2-2之间，所述第一非氧化工 作区1-1位于第一反渗透膜2-1的左侧，所述第二非氧化工作区1-3位于第二反渗透膜2-2 的右侧；
[0066] 步骤三、采用管路6将步骤二中所述第一非氧化工作区1-1和第二非氧化工作区 1-3连通，并在管路6上设置压力栗5,然后将电解液7加入微弧氧化槽中，将阳极4、第一 阴极3-1和第二阴极3-2插设于氧化工作区1-2内并浸入电解液7中，之后利用压力栗5 使电解液7发生定向流动，利用第一反渗透膜2-1和第二反渗透膜2-2对电解液7进行离 子选择；所述离子选择的时间为20min，所述阳极4的材质为钽合金，所述第一阴极3-1和 第二阴极3-2的材质均为不锈钢，所述第一阴极3-1和第二阴极3-2均与阳极4平行相对 设置；所述电解液7由氢氧化钠、无机盐和去离子水混合均匀而成，其中氢氧化钠的浓度为 5g/L，无机盐的浓度为20g/L，所述无机盐为铝酸钠；
[0067] 步骤四、在保持步骤三中所述电解液7定向流动的条件下，通电进行微弧氧化处 理30min，微弧氧化处理的工艺参数为：电压350V，脉冲频率500Hz，占空比10%，电解液7 的温度20°C，在阳极4表面得到氧化物陶瓷涂层。
[0068] 本实施例所制氧化物陶瓷涂层的成分数据见表4。
[0069] 表4涂层成分对比结果（质量百分比，wt % )
[0071] 由表4可知，本实施例采用反渗透技术和微弧氧化技术相结合的方法，在有色金 属表面制备氧化物陶瓷涂层，利用反渗