气体管线防堵塞装置的制作方法

本实用新型涉及一种在含有氯硅烷以及惰性气体的微量气体流通的气体管线出口，防止因氯硅烷水解生成二氧化硅，导致气体管线堵塞的装置。

背景技术：

三氯硅烷和四氯化硅等的氯硅烷会和空气中的水分发生水解，产生氯化氢和二氧化硅。因此，例如设置在含有氯硅烷储槽中的搅拌装置上，大部分会使用机械密封、轴封。一般在机械密封部，作为密封气体会导入氮气等的惰性气体，防止氯硅烷等的物质流入到轴封部。但从轴封部会有微量的氯硅烷流入密封气体，上述密封气体流通的气体管线出口会含有微量的氯硅烷。因此，像上述密封气体就需要和连接了除害设备的气体吸引管线连接。

但如果将流通密封气体的气体管线和气体吸引管线直接连接，机械密封部会减压，内部的氯硅烷容易混入到密封气体中。因此，通常气体管线的出口和气体吸引管线入口会拉开距离安装，使密封气体能够维持正压。

上述连接方法，气体管线出口附近是空气氛围，因此密封气体中的氯硅烷和空气中的水分会反应，在气体管线出口会产生二氧化硅。存在生成的二氧化硅堆积在气体管线出口，最终导致堵塞，密封气体无法流通，机械密封破损的问题。

为了防止堵塞，也可以扩大气体管线的直径，但因气体管线出口的密封气体流速变慢，和空气的接触时间增加，二氧化硅生成量会更多，所以虽然可以延长到发生堵塞时的时间，但不能根本的解决问题。另外增设管线需要很大的空间，且还有费用高等问题。

因此，在含有氯硅烷气体和惰性气体的微量气体排放的气体管线出口，最好有能够防止因氯硅烷水解产生二氧化硅，而导致管线堵塞的装置。

技术实现要素：

本实用新型提供了一种气体管线防堵塞装置，设置在排放含有氯硅烷气体和惰性气体的微量气体的气体管线出口的管线防堵塞装置，包括以下几个部分：

气体管线的出口向上设计的气体出口Ａ；

惰性气体保有室Ｂ，其上端和气体管线的出口A有间隙，其下端设置在气体管线的出口A的下方，其内部为在氯硅烷和惰性气体氛围；

气体防扩散室Ｃ，从外部完全包覆惰性气体保有室Ｂ，其上部和气体吸引管线E连接。

在含有氯硅烷气体和惰性气体的微量气体排放的气体管线出口，通过安装本发明中的管线防堵塞装置，在气体管线出口，气体中含有的氯硅烷不会和空气中的水分接触，气体管线出口不会生成二氧化硅，可以防止气体管线出口堵塞。

惰性气体保有室Ｂ的外侧和气体防扩散室Ｃ内侧的一部分，通过支柱F来连接。

所述气体管线防堵塞装置的入口，通过连接器D与气体管线连接。可以进行分解，方便清扫。

附图说明

图1为气体管线防堵塞装置主视示意图；

图2为气体管线防堵塞装置的俯视示意图；

图3为现有技术示意图。

符号说明：Ａ．气体管线的出口、Ｂ．惰性气体保有室、Ｃ．气体防扩散室、Ｄ．连接器、Ｅ．气体吸引管线、Ｆ．支柱。

具体实施方式

下面结合具体实施方式和附图对本实用新型作进一步详细的说明，应理解，这些实施形态仅用于对本实用新型进行进一步说明，不能理解为对本实用新型保护范围的限制。

本实用新型涉及一种设置在含有氯硅烷气体和惰性气体的微量气体排出气体管线的出口的管线防堵塞装置。

具体有以下几个部分组成：

气体管线的出口向上设计的气体出口A；

上端和气体管线的出口有间隙，下端设置在气体管线的出口的下方，内部在氯硅烷和惰性气体氛围中的惰性气体保有室B；

从外部完全包覆惰性气体保有室，上部和吸引管线连接的气体防扩散室C。

是一种气体管线防堵塞装置。

气体管线是通机械密封气体的气体管线，一般在φ６～１２ｍｍ左右。气体管线的出口A是向上的，在本实用新型中所述的气体管线防堵塞装置的入口，通过连接器D连接，可以进行分解，方便清扫。

气体管线的出口A被惰性气体保有室Ｂ所包覆。惰性气体保有室的上端和气体管线出口的距离一般是２０～１００ｍｍ，惰性气体保有室下端和气体管线出口A的距离是１００～２００ｍｍ。惰性气体保有室会一直充满含有氯硅烷以及氮气的密封气体，不存在空气。因此，在气体管线出口，不会因氯硅烷和空气中的水分反应生成二氧化硅，所以气体管线出口也不会因二氧化硅而发生堵塞。

气体防扩散室Ｃ，将密封气体导入气体吸引管线时所需要。如果没有气体防扩散室，氯硅烷和空气中的水分反应生成的氯化氢，就不能充分的被吸引除害装置吸引。

氯硅烷分解生成的二氧化硅是堵塞的原因，但本实用新型所述的装置中，二氧化硅粉体会粘附在惰性气体保有室Ｂ的下部以及气体防扩散室Ｃ。为了能对上述的二氧化硅粘附场所进行清扫，留有充足的空间，且通过目视就能确认粘附状况，所以可以根据需要进行清扫。

另外，惰性气体保有室Ｂ的外侧和气体防扩散室Ｃ内侧的一部分，通过支柱来连接。

通过使用本实用新型中的装置，在将含有氯硅烷以及氮气的氯硅烷密封气体作为流体的管线出口，可以防止因氯硅烷水解生成二氧化硅，而导致的管线堵塞。