电离室位置校准装置制造方法
【专利摘要】本实用新型涉及一种电离室位置校准装置，电离室位置校准装置具体包括：X射线管，发射X射线光束，固定在校准平台上；第一导轨，固定在校准平台上，与X射线光束方向平行；移动平台，滑设在第一导轨上，沿第一导轨移动，移动平台上具有第二导轨，与第一导轨垂直；测量装置，滑设在第二导轨上，沿第二导轨移动，具有放置基准电离室的第一平台和放置待校准电离室的第二平台；其中，调节测量装置和第一平台，对基准电离室检测得到第一检测结果；调节测量装置和第二平台，对待校准电离室检测得到第二检测结果，根据第一检测结果和第二检测结果得到待校准电离室的刻度因子。本实用新型电离室位置校准装置，实现了简单的位置调节和方便的校准。
【专利说明】电离室位置校准装置
【技术领域】
[0001 ] 本实用新型涉及一种校准装置，尤其涉及一种电离室位置校准装置。
【背景技术】
[0002]电离室的校准，就是利用基准电离室的测量数据和待校准电离室的测量数据进行比较和处理，从而可以给待校准电离室一个刻度因子，从而完成校准。
[0003]现有的电离室位置校准装置需要分别放置基准电离室和待校准电离室，从而获取数字，但是这样的方式需要每次测量的时候均进行位置调节，检测时间长，检测复杂。
实用新型内容
[0004]本实用新型的目的是针对现有技术的缺陷，提供一种电离室位置校准装置，从而实现简单的位置调节和方便的校准。
[0005]为实现上述目的，本实用新型提供了一种电离室位置校准装置，所述电离室位置校准装置具体包括:
[0006]X射线管，发射X射线光束，固定在校准平台上；
[0007]第一导轨，固定在所述校准平台上，与所述X射线光束方向平行；
[0008]移动平台，滑设在所述第一导轨上，沿所述第一导轨移动，所述移动平台上具有第二导轨，与所述第一导轨垂直；
[0009]测量装置，滑设在所述第二导轨上，沿所述第二导轨移动，具有放置基准电离室的第一平台和放置待校准电离室的第二平台；
[0010]其中，调节所述测量装置和第一平台，使得所述X射线管对应的激光器发射的激光十字中心从所述基准电离室的X光出光孔中心射入所述基准电离室的X光进光孔中心，所述激光器的激光十字中心与所述X射线主束中心相同，对所述基准电离室检测得到第一检测结果；调节所述测量装置和第二平台，使得所述激光十字中心对准所述待校准电离室的灵敏体积中心，对所述待校准电离室检测得到第二检测结果，根据所述第一检测结果和第二检测结果得到所述待校准电离室的刻度因子。
[0011]进一步的，所述X射线管具体为钥靶X光机。
[0012]进一步的，所述电离室位置校准装置还包括滤过装置，所述X射线管发射的X射线光束透过所述滤过装置过滤。
[0013]进一步的，所述第二平台具有高度调节装置。
[0014]本实用新型电离室位置校准装置，实现了简单的位置调节和方便的校准。
【专利附图】
【附图说明】
[0015]图1为本实用新型电离室位置校准装置的示意图。
【具体实施方式】
[0016]下面通过附图和实施例，对本实用新型的技术方案做进一步的详细描述。
[0017]图1为本实用新型电离室位置校准装置的示意图，如图所示，本实用新型具体包括:x射线管1、第一导轨2、移动平台3、测量装置4。
[0018]X射线管I发射X射线光束，并且固定在校准平台9上；第一导轨2固定在校准平台9上，与X射线光束方向平行；移动平台3滑设在第一导轨2上，可以沿第一导轨2移动，移动平台3上具有第二导轨30，与第一导轨2垂直；测量装置4滑设在第二导轨30上，沿第二导轨30移动，具有放置基准电离室的第一平台41和放置待校准电离室的第二平台42。
[0019]调节测量装置4和第一平台41，使得X射线管对应的激光器发射的激光十字中心从基准电离室的X光出光孔中心射入所述基准电离室的X光进光孔中心，激光器的激光十字中心与X射线主束中心相同，对所述基准电离室检测得到第一检测结果；调节测量装置4和第二平台42，使得激光十字中心对准所述待校准电离室的灵敏体积中心，对待校准电离室检测得到第二检测结果，根据第一检测结果和第二检测结果得到所述待校准电离室的刻度因子。
[0020]具体的，X射线管I可以为钥靶X光机，并且还包括滤过装置5，X射线管I发射的X射线光束透过滤过装置5过滤。
[0021]具体的，第一导轨2固定在校准平台9上，方向与X射线光束方向平行，而移动平台3可以在移动平台3右侧的伺服电机的控制下沿着第一导轨2移动，从而实现X轴方向(即是沿着X射线光束方向)上的精确位移。
[0022]而与第一导轨2垂直的第二导轨30的方向是Y轴方向。第一平台41和第二平台42底部通过螺钉固定在测量装置4上，且两平台间距离是固定的。
[0023]第一平台的高度由X射线主束中心距离第一平台的高度H1，和基准电离室进光孔中心与电离室底面距离L决定。(即是该第一平台高度得近似满足X射线主束中心和基准电离室X光入射口中心等高。
[0024]由于待校准电离室的大小型号的不确定性，例如指型电离室即是像手指大小的一个电离室)，因此第二平台的高度也即是一定范围可调装置平台。采用手动剪形升降支撑，精研丝杠驱动，上下两面多孔位设计升降台，配有锁紧手轮。待校准电离室通过夹具固定在该升降台上。
[0025]具体工作过程如下:
[0026]1、第一个步骤是安装固定和位置调节校准工作
[0027]安放基准电离室在第一平台上，通过正对X光机光学平台末端激光器实现基准电离室的精确定位(该激光器的激光十字中心已经调整好为X射线主束中心)，通过微调电离室的高度和水平位置，需保证激光十字中心能从基准电离室的X光出光孔中心射入电离室的X光进光孔中心，则完成了基准电离室的安放和位置调节校准，之后测量就不需要再次进行位置校准。
[0028]然后，由夹具夹持住待校准电离室，通过螺钉固定夹具于校准台面上，在Y轴方向移动台面，调节升降台高度，使得激光器十字中心对准该电离室的灵敏体积中心。完成带校准电离室的安放，和位置调节校准，之后测量就不需要再次进行位置校准。
[0029]2、第二个步骤是具体检测和校准工作
[0030]因为基准电离室和带校准电离室已经进行了位置校准，所以在具体检测的时候只需要控制测量装置在第二导轨上，即沿Y轴方向移动即可。
[0031]工作时:控制室打开X光机，转动过滤装置于工作位，控制移动平台在第一导轨上与X轴方向移动到工作位，控制测量装置沿着第二导轨与Y轴方向移动，使得基准电离室处于激光十字中心到达工作位置，再打开基准电离室测量系统开始测量计数，完成测量，得到第一检测数据。再沿Y轴移动测量装置，切换待校准电离室于激光十字中心到达工作位，开始测量，完成计数，得到第二检测数据。
[0032]然后，改变X光机参数，转动过滤装置于下一个工作位置，重复第二个步骤。直至完成所有规范的测量。对基准电离室的测量数据和校准电离室的测量数据进行处理，从而可以根据基准值，给待校准电离室一个刻度因子。完成校准工作。
[0033]以上所述的【具体实施方式】，对本实用新型的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明，所应理解的是，以上所述仅为本实用新型的【具体实施方式】而已，并不用于限定本实用新型的保护范围，凡在本实用新型的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
【权利要求】
1.一种电离室位置校准装置，其特征在于，所述电离室位置校准装置具体包括: X射线管，发射X射线光束，固定在校准平台上； 第一导轨，固定在所述校准平台上，与所述X射线光束方向平行； 移动平台，滑设在所述第一导轨上，沿所述第一导轨移动，所述移动平台上具有第二导轨，与所述第一导轨垂直； 测量装置，滑设在所述第二导轨上，沿所述第二导轨移动，具有放置基准电离室的第一平台和放置待校准电离室的第二平台； 其中，调节所述测量装置和第一平台，使得所述X射线管对应的激光器发射的激光十字中心从所述基准电离室的X光出光孔中心射入所述基准电离室的X光进光孔中心,所述激光器的激光十字中心与所述X射线主束中心相同，对所述基准电离室检测得到第一检测结果；调节所述测量装置和第二平台，使得所述激光十字中心对准所述待校准电离室的灵敏体积中心，对所述待校准电离室检测得到第二检测结果，根据所述第一检测结果和第二检测结果得到所述待校准电离室的刻度因子。
2.根据权利要求1所述的电离室位置校准装置，其特征在于，所述X射线管具体为钥靶X光机。
3.根据权利要求1所述的电离室位置校准装置，其特征在于，所述电离室位置校准装置还包括滤过装置，所述X射线管发射的X射线光束透过所述滤过装置过滤。
4.根据权利要求1所述的电离室位置校准装置，其特征在于，所述第二平台具有高度调节装置。
【文档编号】G01B15/00GK204007555SQ201420378643
【公开日】2014年12月10日 申请日期:2014年7月9日 优先权日:2014年7月9日
【发明者】吴金杰, 蒋伟, 郭彬, 杨元第, 陈法君 申请人:中国计量科学研究院