1.一种单晶样片制样机，其特征在于，包括载物平台、研磨驱动机构、升降机构；载物平台边缘设置三组用于固定样片的卡爪和压片；研磨驱动机构设置在载物平台上方，该研磨驱动机构上设有五个研磨头，相对于安装在载物平台上的样片，其中一个研磨头设置在样片的中心位置，其余四个研磨头均匀分布在样片的边缘位置；通过升降机构调节研磨头的上下位置。
2.根据权利要求1所述的单晶样片制样机，其特征在于，所述升降机构由手轮和齿条组合控制，该手轮外缘设有多个加重点，用来加载砝码，控制研磨压力。
3.根据权利要求1所述的单晶样片制样机，其特征在于，所述研磨头的直径为1-2cm，研磨加工面积大于四探针测试探头面积。
4.根据权利要求1所述的单晶样片制样机，其特征在于，所述研磨头的材质可以为球墨铸铁或刚玉。
5.根据权利要求1所述的单晶样片制样机，其特征在于，所述研磨头表面设有开槽，用于浸润研磨液，槽口宽度为1-2mm。
6.根据权利要求1所述的单晶样片制样机，其特征在于，所述研磨头的转速从0-50转/分可调。
7.根据权利要求1所述的单晶样片制样机，其特征在于，所述研磨驱动机构内部设有一系列齿轮传动，并设有适合多组直径样片的研磨头连杆的安装孔，同一组研磨头的位置距离样片中心的距离相等，距离符合半导体行业标准。
8.根据权利要求1所述的单晶样片制样机，其特征在于，位于载物平台边缘的三组卡爪和压片可以独立调节位置，适用于不同外形单晶样片。