射器6连通，所述液压缸2、连通管5和注射器6的连通空间中充满液压油23;所述注射器6设置有用于读取所述量测板4的上表面与所述底板1的下表面之间的高度差的刻度61。
[0039]由于液压油23的体积保持不变，量测板4上下移动将带动注射器6的第二活塞62运动，两者的位移量满足如下公式:
[0040]s*L = s*l
[0041 ]其中，S为液压缸2的内部横截面积，L为第一活塞21的位移量，s为注射器6的内部横截面积，1为第二活塞62的位移量;已知第一活塞21的位移量和量测板的上表面与底板的下表面之间的高度差，即可求解量测板的上表面与底板的下表面之间的高度差。将量测板处于不同位置时，量测板的上表面与底板的下表面之间的高度差的数值转换为注射器上的刻度，便可从注射器上直接读取此刻量测板的上表面与底板的下表面之间的高度差。
[0042]优选，所述液压缸2的内部横截面积大于所述注射器6的内部横截面积。
[0043]优选，所述刻度61设置于所述注射器6的第二活塞62的侧壁上。
[0044]优选，所述注射器6的空筒63的端口631作为指针，用于指示所述刻度61中表示所述量测板(4)的上表面与所述底板(1)的下表面之间的高度差的数值。
[0045]优选，所述第二活塞62的侧壁上设置有多个所述刻度61。
[0046]优选，所述连杆22为L型结构;所述连杆22的一端与所述底板1平行设置，并与所述第一活塞21固定连接;所述连杆22的另一端垂直向下指向所述底板1，并与所述量测板4的一端固定连接。
[0047]如图3、图4和图5所示，一种测量显影液喷嘴高度的方法，包括如下步骤:
[0048]步骤1，将晶元7加载到显影单元中的真空吸盘8上；
[0049]步骤2，将权利要求1至6任一所述一种用于测量高度的装置放置于所述晶元7的上表面，并使所述底板1的下表面紧贴于所述晶元7的上表面；
[0050]步骤3，将显影液喷嘴9移动到喷吐位置；
[0051]步骤4，推动所述第二活塞62，使所述量测板4的上表面紧贴于所述显影液喷嘴9的下端，并从所述刻度61读取所述量测板4的上表面与所述底板1的下表面之间的高度差，所述高度差即为所述显影液喷嘴9相对所述晶元7的高度。
[0052]优选，所述步骤2与步骤3之间，还包括步骤23;
[0053]所述步骤23，按压所述第一活塞21，使所述量测板4下移至其可移动范围的最下方。
[0054]以上所述仅为本发明的较佳实施例，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
【主权项】
1.一种用于测量高度的装置，其特征在于，包括底板(1)，所述底板(1)的一端垂直安装有液压缸(2)，所述液压缸(2)的第一活塞(21)顶部设置有连杆(22);所述底板(1)的另一端垂直安装有线性导轨(3)，所述线性导轨(3)上设置有可沿竖直方向移动的滑块(31);还包括与所述底板(1)平行的量测板(4);所述量测板(4)的一端固定于所述连杆(22)上，另一端固定于所述滑块(31)上;所述液压缸(2)通过连通管(5)与注射器(6)连通，所述液压缸(2)、连通管(5)和注射器(6)的连通空间中充满液压油(23);所述注射器(6)设置有用于读取所述量测板(4)的上表面与所述底板(1)的下表面之间的高度差的刻度(61)。2.根据权利要求1所述一种用于测量高度的装置，其特征在于，所述液压缸(2)的内部横截面积大于所述注射器(6)的内部横截面积。3.根据权利要求1所述一种用于测量高度的装置，其特征在于，所述刻度(61)设置于所述注射器(6)的第二活塞(62)的侧壁上。4.根据权利要求3所述一种用于测量高度的装置，其特征在于，所述注射器(6)的空筒(63)的端口(631)作为指针，用于指示所述刻度(61)中表示所述量测板(4)的上表面与所述底板(1)的下表面之间的高度差的数值。5.根据权利要求3所述一种用于测量高度的装置，其特征在于，所述第二活塞(62)的侧壁上设置有多个所述刻度(61)。6.根据权利要求1所述一种用于测量高度的装置，其特征在于，所述连杆(22)为L型结构;所述连杆(22)的一端与所述底板(1)平行设置，并与所述第一活塞(21)固定连接;所述连杆(22)的另一端垂直向下指向所述底板(1)，并与所述量测板(4)的一端固定连接。7.—种测量显影液喷嘴高度的方法，其特征在于，包括如下步骤: 步骤1，将晶元(7)加载到显影单元中的真空吸盘(8)上； 步骤2，将权利要求1至6任一所述一种用于测量高度的装置放置于所述晶元(7)的上表面，并使所述底板(1)的下表面紧贴于所述晶元(7)的上表面； 步骤3，将显影液喷嘴(9)移动到喷吐位置； 步骤4，推动所述第二活塞(62)，使所述量测板(4)的上表面紧贴于所述显影液喷嘴(9)的下端，并从所述刻度(61)读取所述量测板(4)的上表面与所述底板(1)的下表面之间的高度差，所述高度差即为所述显影液喷嘴(9)相对所述晶元(7)的高度。8.根据权利要求7所述一种测量显影液喷嘴高度的方法，其特征在于，所述步骤2与步骤3之间，还包括步骤23; 所述步骤23，按压所述第一活塞(21)，使所述量测板(4)下移至其可移动范围的最下方。
【专利摘要】本发明涉及一种用于测量高度的装置及测量显影液喷嘴高度的方法，将此装置放置于晶元的上表面，并使底板的下表面紧贴于晶元的上表面；将显影液喷嘴移动到喷吐位置；推动第二活塞，使量测板的上表面紧贴于显影液喷嘴的下端；并从刻度读取量测板的上表面与底板的下表面之间的高度差，即为显影液喷嘴相对晶元的高度，使显影液喷嘴相对晶元高度的测量，操作方便，结果精确。
【IPC分类】G01B5/06
【公开号】CN105444646
【申请号】CN201510765774
【发明人】詹云
【申请人】武汉新芯集成电路制造有限公司
【公开日】2016年3月30日
【申请日】2015年11月11日