用此作为流体通路，可减少流体通路4的内部容积。
[0078]虽然希望压力检测室4b的内部容积也尽可能地小，但是构成压力传感器Pl的受压面的隔膜由不锈钢等形成，成为高温时膨胀，在凹部5d的内底面侧因膨胀而突出隆起，因此，必须形成为压力传感器Pl的隔膜的热膨胀获得压力检测室4b的容许的程度的深度尺寸。例如，某种压力传感器的隔膜是在100°C有0.13mm左右的隆起，则压力检测室4b的深度尺寸，即凹部5d的内底面与压力检测面Pla(非变形时)的距离为例如0.13?0.30mm。环形垫圈16由不锈钢等形成，施以镜面加工、在真空炉的固溶化热处理等，高精度地进行加工。
[0079]环形垫圈16为了保证作为垫圈的密封性，密封面有必要确保一定以上的面压，但是如果密封面的面积变大，压力传感器Pl固定需要的扭矩也变大。为了实现即使压力检测室Pla的内部容积稍微变小也可能保护所需面积的密封面，并且不增加材料费用，如图3所示，使两侧的密封面16a、16b偏向内周面16c—侧而形成。
[0080]在图示例中，环形垫圈16的内周面16c与两侧的密封面16a、16b之间的内侧锥形面16(1、166小于外周面16;1^与两侧的密封面163、1613之间的外侧锥形面168、1611。也可以不要内侧锥形面16d、16e，将内周面16c与两侧的密封面16a、16b设成直角。
[0081 ] 如上所述形成密封面16a、16b偏向内周面16c—侧的截面形状，与以往的环形垫圈(参照图10)相比，可使压力检测室4b的内部容积变小。
[0082]图4是比较的柱状图表，使用图1所示构造的压力式流量控制装置与图8所示的以往类型的压力式流量控制装置，与流体出口的真空腔室连接，在以规定流量控制氮气的途中关闭压力控制用控制阀，从各个内部容积计算出流量从100%到I %为止的下降时间。在图4的图表中，横轴是流量范围，是越往右侧控制流量越大的类型，纵轴是下降时间。从这个柱状图表即可得知本发明的压力式流量控制装置与以往的压力式流量控制装置比较，可大幅地缩短下降时间。并且，在本发明的压力式流量控制装置中，在几乎所有的流量范围中，认为可以使下降时间缩短为I秒以下。
[0083]图5为表示本发明涉及的压力式流量控制装置的第二实施方式的截面图。与图1的实施方式同样的构成部分使用相同的符号，且省略重复说明。
[0084]第二实施方式的压力式流量控制装置I与上述第一实施方式的不同在于:具备与第一通路部4a连接的第三通路部4f替代上述第一实施方式的第二通路部4c，其他的结构与上述第一实施方式相同。在第二实施方式中，压力控制用控制阀CV与压力传感器Pl的配置及第一通路部4a的配置结构与第一实施方式相同，由此，可以减小与下降时间相关的流体通路4的内部容积。
[0085]本发明不是由上述实施方式限定解释的发明，在不脱离本发明的宗旨的范围下能够进行各种变更。
【主权项】
1.一种压力式流量控制装置，其特征在于，具备: 主体，所述主体设置有连通流体入口与流体出口之间的流体通路； 压力控制用控制阀，所述压力控制用控制阀固定于该主体，且开闭所述流体通路； 流孔，所述流孔插入设置于所述压力控制用控制阀的下游侧的所述流体通路;和压力传感器，所述压力传感器固定于所述主体，且检测所述压力控制用控制阀与所述流孔之间的所述流体通路的内压， 所述流体通路具备:第一通路部，所述第一通路部连接所述压力控制用控制阀与所述压力传感器的压力检测面上的压力检测室;及第二通路部，所述第二通路部与该第一通路部分离，且连接所述压力检测室与所述流孔，所述流体通路以经由所述压力检测室的方式构成。2.根据权利要求1所述的压力式流量控制装置，其特征在于，在所述压力控制用控制阀的下方配设有所述压力传感器，所述第一通路部以从所述压力控制用控制阀下垂至所述压力检测室的方式构成。3.根据权利要求2所述的压力式流量控制装置，其特征在于，所述压力控制用控制阀具备金属制隔膜阀体，所述第一通路部以从所述压力控制用控制阀的所述金属制隔膜阀体的中心部下垂的方式构成。4.根据权利要求2所述的压力式流量控制装置，其特征在于，所述第一通路部连接于所述压力检测室的端部。5.根据权利要求1所述的压力式流量控制装置，其特征在于，所述第二通路部连接于所述压力检测室的端部。6.根据权利要求4所述的压力式流量控制装置，其特征在于，所述第二通路部连接于所述压力检测室的与所述第一通路部相反侧的端部。7.根据权利要求1所述的压力式流量控制装置，其特征在于，所述压力传感器经由环形垫圈插接于在所述主体的底面形成的凹部，所述压力检测室被所述凹部的内底面与所述环形垫圈以及所述压力传感器的压力检测面所包围，所述环形垫圈使两侧的密封面偏向内周面侧而形成。8.根据权利要求7所述的压力式流量控制装置，其特征在于，所述压力检测室的所述凹部的内底面与所述压力检测面的距离是0.13?0.30mm。9.一种压力式流量控制装置，其特征在于，具备: 主体，所述主体设置有连通流体入口与流体出口之间的流体通路； 压力控制用控制阀，所述压力控制用控制阀固定于该主体，且开闭所述流体通路； 流孔，所述流孔插入设置于所述压力控制用控制阀的下游侧的所述流体通路;和压力传感器，所述压力传感器固定于所述主体，且检测所述压力控制用控制阀与所述流孔之间的所述流体通路的内压， 所述压力传感器配设在所述压力控制用控制阀的下方， 所述流体通路具备:第一通路部，所述第一通路部从所述压力控制用控制阀下垂至所述压力传感器的压力检测面上的压力检测室；及第三通路部，所述第三通路部连接该第一通路部与所述流孔。10.根据权利要求9所述的压力式流量控制装置，其特征在于，所述压力传感器经由环形垫圈插接于在所述主体的底面形成的凹部，所述压力检测室被所述凹部的内底面与所述环形垫圈以及所述压力传感器的压力检测面所包围，所述环形垫圈使两侧的密封面偏向内周面侧而形成。11.根据权利要求10所述的压力式流量控制装置，其特征在于，所述环形垫圈具备:两侧的密封面、内周面、外周面、所述内周面与两侧的密封面之间的内侧锥形面、及所述外周面与两侧的密封面之间的外侧锥形面，所述内侧锥形面比所述外侧锥形面小。12.根据权利要求10所述的压力式流量控制装置，其特征在于，所述压力检测室的所述凹部的内底面与所述压力检测面的距离是0.13?0.30mm。13.一种压力式流量控制装置，其特征在于，具备:主体，所述主体设置有连通流体入口与流体出口之间的流体通路;压力控制用控制阀，所述压力控制用控制阀固定于该主体，且开闭所述流体通路;压力传感器，所述压力传感器固定于所述主体且检测该压力控制用控制阀的下游侧的所述流体通路的内压;和流孔，所述流孔插入设置于所述压力传感器的下游侧的所述流体通路， 所述压力传感器经由环形垫圈插接于在所述主体底面形成的凹部，所述压力检测室被所述凹部的内底面与所述环形垫圈以及所述压力传感器的压力检测面所包围，所述环形垫圈使两侧的密封面偏向内周面侧而形成。14.根据权利要求13所述的压力式流量控制装置，其特征在于，所述压力检测室的所述凹部的内底面与所述压力检测面的距离是0.13?0.30mm。
【专利摘要】本发明提供一种可谋求流量切换时的下降响应时间缩短、可提高下降响应特性的压力式流量控制装置。本发明的压力式流量控制装置具备：主体(5)，设置有连通流体入口(2)与流体出口(3)之间的流体通路(4)；压力控制用控制阀(CV)，固定于主体(5)且开闭流体通路(4)；流孔(OL)，插入设置于压力控制用控制阀(CV)的下游侧的流体通路(4)；压力传感器(P1)，固定于主体(5)且检测压力控制用控制阀(CV)与流孔(OL)之间的流体通路(4)的内压，流体通路(4)具备：第一通路部(4a)，连接压力控制用控制阀(CV)与压力传感器(P1)的压力检测面(P1a)上的压力检测室(4b)，及第二通路部(4c)，与第一通路部(4a)分离且连接压力检测室(4b)与流孔(OL)。
【IPC分类】G05D7/06, F16K27/00
【公开号】CN105556411
【申请号】CN201480049537
【发明人】广濑隆, 吉田俊英, 松本笃谘, 平田薰, 池田信一, 西野功二, 土肥亮介, 杉田胜幸
【申请人】株式会社富士金
【公开日】2016年5月4日
【申请日】2014年11月25日
【公告号】WO2015083343A1