1.一种触控基板，其特征在于，包括：衬底基板以及设置于所述衬底基板上的触控层，所述触控层在所述触控基板的触控区域为一完整的膜层，所述触控层包括触控电极的图形和绝缘图形。
2.根据权利要求1所述的触控基板，其特征在于，所述触控电极的图形和绝缘图形由同一透明半导体薄膜层形成，所述触控电极的图形由所述透明半导体薄膜层的一部分通过导体化处理形成，所述绝缘图形由所述透明半导体薄膜层的一部分通过绝缘化处理形成。
3.根据权利要求2所述的触控基板，其特征在于，所述透明半导体薄膜层由透明金属氧化物半导体材料形成。
4.根据权利要求3所述的触控基板，其特征在于，所述透明金属氧化物半导体材料为InGaZnO、InGaO、ITZO或AlZnO。
5.根据权利要求3所述的触控基板，其特征在于，由所述透明半导体薄膜层通过导体化处理形成的导体材料中，氧原子的含量为15％～30％，由所述透明半导体薄膜层通过绝缘化处理形成的绝缘材料中，氧原子的含量为70％～85％。
6.根据权利要求3所述的触控基板，其特征在于，所述触控电极的图形的电导率为大于103(Ωcm)-1，所述绝缘图形的电导率小于10-10(Ωcm)-1。
7.根据权利要求1所述的触控基板，其特征在于，所述触控基板为彩膜基板，所述衬底基板为所述彩膜基板的衬底基板。
8.根据权利要求7所述的触控基板，其特征在于，所述触控电极的图形和所述绝缘图像设置于所述衬底基板的出光侧。
9.根据权利要求1-8任一项所述的触控基板，其特征在于，所述触控层还包括半导体图形。
10.一种触控显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-9任一项所述的触控基板。