专利名称：改善晶圆对准中显微镜自然偏差的方法
技术领域：
本发明涉及半导体制造工艺方法,尤其涉及一种改善晶圆对准中显微 镜自然偏差的方法。
背景技术：
在对晶圆目检出货时，常常会遇到一些特殊的目检要求，目检晶粒任 意分布，很难在实际晶圆上准确找到需要进行目检的晶粒，但是在系统的
图上很容易标记出哪些晶粒需要做目检。CP实用系统能将电性测试的结 果CP图显示在界面中，而显微镜移动到对应位置后会有光标在该CP图 上指示出看到的是哪个晶粒，若有缺陷便可在CP实用系统图上直接标记
成不合格芯片，因此在半导体产品显微镜检査的过程中，通过显微镜和
CP实用系统之间的连接来指示当前检查的晶圆(见图l)。
在连接显微镜和CP实用系统前需要进行晶圆对准，使显微镜的移动
和光标在晶圆图上的移动同步，以指出当前检查的晶粒，但是显微镜在宏
观检査的时候会以实际晶圆中心为轴心进行旋转，如图2所示，当晶圆从 第一背面目检旋转到第二背面目检时，可能会产生5度角的旋转偏差，造 成系统上的晶圆对准失败。
发明内容
本发明要解决的技术问题是提供一种改善晶圆对准中显微镜自然偏 差的方法，能有效弥补晶圆对准过程中显微镜产生的旋转偏差。
为了解决上述技术问题，本发明改善晶圆对准中显微镜自然偏差的方
法，包括在连接显微镜和CP实用系统前，进行晶圆对准，所述晶圆对准
包括以晶圆凹槽为一个固定点C，设晶圆上最靠外侧的任意不重叠的两
个完整方格为A点和B点，通过计算A和B、 B和C、 A和C之间的距离确 定晶粒的位置。
本发明改善晶圆对准中显微镜自然偏差的方法,使晶圆目检的周期时 间縮短90%，且能完全避免目检误差。
图1是现有通过显微镜和CP实用系统的连接来指示检查的晶圆的示 意图2是现有晶圆对准中显微镜产生旋转偏差的示意图； 图3是本发明一个实施例的示意图4是应用本发明的方法使晶圆图正确指示实际晶圆上的晶粒的示 意图。
具体实施例方式
下面结合附图和具体实施方式
对本发明作进一步详细说明。 本发明的改善晶圆对准中显微镜自然偏差的方法,通过一种特殊的对 准理论来弥补显微镜的自然偏差，包括在连接显微镜和CP实用系统前，
进行晶圆对准，所述晶圆对准包括以晶圆凹槽为一个固定点C，设晶圆
上最靠外侧的任意不重叠的两个完整方格为A点和B点，通过计算A和B、 B和C、 A和C之间的距离确定晶粒的正确位置。由于C点的位置固定， 可根据A、 B两点的坐标值计算出A和B、 B和C、 A和C三段的距离，由
该三段的距离可计算出A、 B、 C三点构成的三角形的角的大小。在本发 明方法的一个优选实施例中，A、 B、 C三点之间形成直角三角形(见图3)， 由计算出的A和B、 B禾n C、 A禾n C三段的距离计算B-C偏离C点垂直方向 的角度，从而在CP实用系统显示晶圆图时，通过计算程序消除显微镜旋 转产生的自然角度偏差，使晶圆图正确指示实际晶圆上的晶粒，如图4 所示，当实际晶圆移动到目检晶粒时，晶圆图上的红色标记同时移到相应 的位置。
本发明的改善晶圆对准中显微镜自然偏差的方法，由于作为C点的晶 圆凹槽位置固定，所有通过计算3点的位置来确认晶圆图中心点的方式， 可以保证即使实际晶圆旋转一定角度，也可以确保晶圆在显微镜下检查时 光标移动点对应正确。
权利要求
1.一种改善晶圆对准中显微镜自然偏差的方法，包括在连接显微镜和CP实用系统前，进行晶圆对准，其特征在于，所述晶圆对准包括以晶圆凹槽为一个固定点C，设晶圆上最靠外侧的任意不重叠的两个完整方格为A点和B点，通过计算A和B、B和C、A和C之间的距离确定晶粒的位置。
2. 如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述A、 B、 C三点构成 直角三角形。
全文摘要
本发明公开了一种改善晶圆对准中显微镜自然偏差的方法，包括在连接显微镜和CP实用系统前，进行晶圆对准，所述晶圆对准包括以晶圆凹槽为一个固定点C，设晶圆上最靠外侧的任意不重叠的两个完整方格为A点和B点，通过计算A和B、B和C、A和C之间的距离确定晶粒的位置。本发明改善晶圆对准中显微镜自然偏差的方法，使晶圆目检的周期时间缩短90％，且能完全避免目检误差。
文档编号H01L21/67GK101202238SQ20061014732
公开日2008年6月18日 申请日期2006年12月15日 优先权日2006年12月15日
发明者吕秋玲, 王明珠, 俊 许, 娟 陈 申请人:中芯国际集成电路制造(上海)有限公司