专利名称：移栽容器的遮蔽式入出气结构的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种光掩膜移载容器技术领域的移载容器，特别是涉及一 种避免气流伤害光掩膜的移载容器，并且可长时间维持与控制移载容器内 部洁净度与环境条件的移载容器的遮蔽式入出气结构。
背景技术：
目前受到电子产品不断朝向轻薄短小、高频、高效能等特性发展的影 响，用于电子产品中的核心晶片就必须更进一步的微小化与高效能化，而欲 使晶片微小化与具有高效能则需要使晶片上的集成电路线径微细化，以容
入更多的集成电路及元件，因此现有的集成电路线径已由早期的0. 25微米 向90 45奈米等制程发展，而晶片上集成电路线径微细化的成败关键主要 在于半导体制程中的黄光微影制程技术，而其关键设备是在扫描步进机
(Scanner)与光掩膜(Reticle,光掩膜即光罩，本文均称为光掩膜)的使用。
而以其中的光掩膜为例，当光掩膜表面附着微粒或产生雾化时，其会直 接影响到晶圆的优良率，因此其制程需要在极高等级的无尘室中进行。但是 在半导体的无尘室中，不论是清洗、制作、溅镀、黄光微影或蚀刻等，其均 需要使用到很多的溶剂，而这些有害物质在经过制程加热或曝光等的动作 时，会与环境中的水气等产生化合作用，而在晶圆或光掩膜的表面附着或产 生其他影响优良率的附加物，为解决这些问题，业界则开发有如美国专利第 US 4， 532， 970号与美国专利第US 4， 534, 389号的晶圆、光掩膜密闭移转系 统，以确保微粒、水气等有害物质不致进入紧邻光掩膜与晶圆的环境中。
但是前述的密闭移转系统并无法克服残留于容器内的有害物质所产生 的问题。以光掩膜为例，造成光掩膜污损的原因除了微粒外，更进一步包 含环境中的水气、有毒气体、塑胶制移载容器所释出的硫化物和制作光掩 膜制程中残留或是光掩膜上图形材质本身释出的氨(NH/)、以及光掩膜清洗 过程中残留的化学分子等有害物质，以结晶为例，其化学式为(丽丄S04，此 一结晶物由前述不同原因释出的氨(NH4+)及硫酸根离子(S042—)经高能量光源 与环境水气等化合而成，因此经常发生光掩膜在清洗后，再经一段时间的储 存后，只要一经黄光微影制程中的紫外线照射曝光就会产生结晶的现象。
造成此一问题的主要原因来自于储存容器的气密性不足，使移载容器 外的环境空气中的微粒、水分子不断的渗入，进而提供其化学反应所需的元 素。再者该移载容器主要是以塑胶制成，塑胶材料会不断释出硫化物等有害
3物质，且外部气体会渗透进入光掩膜，和光掩膜图形材质本身或是移载容器 内氨气产生反应，造成有害物质附着于光掩膜正反两面与光掩膜护膜表面。
为了解决这些问题，业界开发有在光掩膜的移载容器内加设不锈钢内 罩.除了能产生静电导出的功效外，并可用以吸收塑胶材质所释出的硫化 物，同时在移载容器上加装充、填气结构，用以将干净的惰性气体注入该移 载容器内，并挤出移载容器内的有害气体，同时进一步提升该移载容器的
气密性，以防止外部微粒进入，如中国台湾专利公告第223680号及第 1262164号等，其均在通过该移载容器结构的改变，来提高移载容器的气密 性。惟气密性的改良是一项重大的工程，不仅需要增加开发、制模与组装 的成本，且受到材质、盖合力量与盖合接触面积等因素的影响，移载容器并 无法达到完全气密的效果，因此移载容器内的气体仍然会渐渐向外流失，由 于微粒与水分子极小，因此移载容器在经长时间储存后，外部环境中如微粒 与水分子等有害物质仍会渐渐渗入该移载容器内部，而失去维持光掩膜洁 净度的作用，其同样会造成光掩膜与光掩膜护膜的污损、雾化与结晶等，而 进一步影响到后续晶圓加工的优良率、产量与成本。
再者，前述具有充、填气结构的光掩膜盒，主要是将其充气阀件设置于 光掩膜盒的底座或壳罩上，使其直接连通光掩膜盒的内部，如此当充气设备 通过充气阀件注气时，其气流会直接冲击光掩膜表面，造成气体中残留的 微粒直接撞击光掩膜表面的图形材质，甚至强力的气流也会伤及图形，使光 掩膜图形受损，进而在晶圆制造时形成不良品，故亦有待进一步的改良。
由此可见，上述现有的移载容器在结构与使用上，显然仍存在有不便 与缺陷，而亟待加以进一步改进。为解决上述存在的问题，相关厂商莫不 费尽心思来谋求解决之道，但长久以来一直未见适用的设计被发展完成，而 一般产品又没有适切结构能够解决上述问题，此显然是相关业者急欲解决 的问题。因此如何能创设一种新型的移载容器的遮蔽式入出气结构，实属当 前重要研发课题之一，亦成为当前业界极需改进的目标。
有鉴于上述现有的移载容器存在的缺陷，为了克服前述移载容器的充 气气流容易伤及光掩膜图形的问题，并且配合长时间保持内部洁净度的需 求，本发明人基于从事此类产品设计制造多年丰富的实务经验及其专业知 识，并配合学理的运用，积极加以研究创新，以期创设一种新型的移载容器 的遮蔽式入出气结构，能够改进一般现有的移载容器，使其更加具有实用 性。经过不断的研究、设计，并经过反复试作样品及改进后，终于创设出确 具实用价值的本发明移载容器的遮蔽式入出气结构，而能克服现有的移载
容器在充气时容易伤及光掩膜图形的困扰，同时可以进一步维持移载容器 内部的洁净度与控制环境条件。
发明内容
本发明的主要目的在于，克服现有的移载容器存在的缺陷，而提供一种 新型的移载容器的遮蔽式入出气结构，所要解决的技术问题是使其可以防 止伤害光掩膜图形，藉以延长光掩膜的使用寿命，非常适于实用。
本发明的另一目的在于，提供一种新型的移载容器的遮蔽式入出气结 构，所要解决的技术问题是使其可以长时间维持内部的洁净度，以避免微粒 或水气等有害物质进入，并可以加速移载容器中有害物质的释出，而减少 光掩膜清洗与重新制作的次数，能够有效的降低营运成本，从而更加适于 实用。
本发明的还一目的在于，提供一种新型的移载容器的遮蔽式入出气结 构，所要解决的技术问题是使其可以控制环境条件，能够改变移载容器内部 的环境条件，以节省后续制程的时间，并降低后续制程的成本，从而更加 适于实用。
本发明的目的及解决其技术问题是采用以下技术方案来实现的。依据 本发明提出的一种移载容器的遮蔽式入出气结构，该移载容器是用于容置
一光掩膜，其包含有 一底座，其顶面设有由两承托件与一抵持件围绕形 成的支撑体，供支撑光掩膜及光掩膜侧边贴靠，其中承托件底面形成有一中 空的回气空间，两承托件相异的外侧分别形成有复数连通内部与外部的通 气孔； 一壳罩，其供选择性相对前述底座盖合与开启，该壳罩可盖合于底座 上形成一容置光掩膜的容置空间；至少两入出气元件，其设置于前述底座 上，该两入出气元件并设置于底座两承托件的下方，且与承托件回气空间相 连通；藉此，当移载容器置于一装置时，可通过装置上相对入出气元件的 启闭元件，选4奪性同时开启入出气元件，令气体可注入与排出移载容器，而 利用两入出气元件可使气体经由回气空间注入或排出移栽容器的设计，使 得气流可沿光掩膜上、下表面水平流动，而组构成一气流不致损及光掩膜图 形、且可长时间保持洁净度的移载容器的遮蔽式入出气结构。
本发明的目的及解决其技术问题还可采用以下技术措施进一步实现。 前述的移载容器的遮蔽式入出气结构，其中所述的移载容器的底座具 有一连通承托件的承座，该承座的下段埋设有一螺帽件，供入出气元件由 移载容器外部螺锁于底座承座上，使得入出气元件可便于由移载容器外部 组装与拆解。
前述的移载容器的遮蔽式入出气结构，其中所述的底座上设有一由承 托件与抵持件压掣的金属板，且金属片在对应承座处形成有对应透孔，让金 属板可获得限位作用。
前述的移载容器的遮蔽式入出气结构，其中所述的移转容器的入出气 元件具有一管体及一活动件，该管体内部中段是形成有一供气体流经的中空隔片，又该活动件的两端分别形成有 一较大径的抵顶端与 一较小径的闭 合端，使活动件可以闭合端穿套一复位弹簧后、穿经隔片，并利用一活塞垫 圈嵌套于该闭合端上，使活动件可在管体内受复位弹簧提供的弹性偏压力 产生浮动，供利用活动件的活塞垫圈相对远离或靠近管体隔片，供阻隔气体 或4吏气体连通。
前述的移载容器的遮蔽式入出气结构，其中所述的移转容器用作注气 的入出气元件在出气端压设有一滤片与一压抵垫圏，供进一步过滤由入出 气元件所导入的气体。
本发明与现有技术相比具有明显的优点和有益效果。借由上述技术方
案，本发明移载容器的遮蔽式入出气结构至少具有下列优点及有益效果
1、 本发明移载容器的入出气元件是设置于承托件内部，使上沖的气流 受到遮蔽，并经适当引导后，让气流沿着光掩膜上、下的水平表面流动，而 并非以垂直方向冲击光掩膜表面的图形，故不致伤害光掩膜图形，且可将 有害物质顺利带走，能够有效延长光掩膜的使用寿命，并且可以加速移载 容器中有害物质的释出，而减少光掩膜清洗与重新制作的次数，能有效降低
营运成本。
2、 本发明的移载容器利用入出气元件的设计，使移载容器内部可保持 正压状态，可以防止外部的微粒、水分子等无法进入，以长时间维持移转 容器内部环境的洁净度，并且可以解决现有的移载容器需要不断提升气密 度的困扰与不便。
3、 本发明的移载容器可通过不断注入与排出的气体，形成一种循环气 流，不致发生现有技术长时间储存后，正压消失的状况，并且能将移载容器 与光掩膜所释出的有害物质排出，使该移载容器的内部环境能长时间维持 洁净度，减少光掩膜表面的微粒附着与雾化、结晶等现象，而能提升晶圆 制作的优良率。
4 、本发明的移载容器内部可以长时维持其洁净度，故在储存光掩膜时 不需受限于早进早出的原则，能增进光掩膜管理的便利性。
5、本发明的移载容器可以对移载容器提供循环流动的干净气体，其进 一步可因应不同制程的需要，预先通过入出气元件注入所需材料，以控制其 内部环境，如改变湿度、温度、乃至特殊制程气体或物质等，可以减少后续 制程处理的时间与成本。
综上所述，本发明是有关一种移载容器的遮蔽式入出气结构，尤指一种 可提升洁净度、且避免伤害光掩膜的移载容器的遮蔽式入出气结构。该移 载容器，包含有可相对盖合的一底座与一壳罩，且底座顶面设有一由两承托 件与一抵持件所组成的"n"型支撑体，以支撑光置；而入出气结构，是在 底座上设有至少两个可选择性产生气密作用的入出气元件，该两入出气元件是设置于中空的承件件范围内，使得移载容器置在对应装置时，可通过设
合的移转容器内部注入干净气体，并将移转容器内部的气体导出，使得气体 可在该移转容器内部形成进、出的循环流动状态，能够长时间维持移转容 器内部环境的洁净度，同时由于入出气结构是设置于承托件的下方，可以避 免气流直接沖击光掩膜表面，不致发生伤害光掩膜表面的现象。本发明可
以防止伤害光掩膜图形，藉以延长光掩膜的使用寿命；另可以长时间维持
内部的洁净度，以避免^l粒或水气等有害物质进入，并可加速移载容器中 有害物质的释出，而减少光掩膜清洗与重新制作的次数，能有效的降低营
运成本；还可以控制环境条件，能改变移载容器内部的环境条件，以节省 后续制程的时间，并降低后续制程的成本。本发明具有上述诸多优点及实 用价值，其不论在产品结构或功能上皆有较大改进，在技术上有显著的进 步，并产生了好用及实用的效果，且较现有的移载容器具有增进的突出多 项功效，从而更加适于实用，诚为一新颖、进步、实用的新设计。
上述说明仅是本发明技术方案的概述，为了能够更清楚了解本发明的 技术手段，而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本发明的上述和 其他目的、特征和优点能够更明显易懂，以下特举较佳实施例，并配合附 图，详细说明如下。
图l是本发明移载容器的外观立体示意图。
图2是本发明的底座俯视分解立体示意图，用以说明该移载容器入出气 元件的构成及其相对关系。
图3是本发明的底座仰视分解立体示意图。
图4是本发明移载容器的组合结构剖面示意图。
图5是本发明移载容器实际运用的装置外观立体示意图。
图6是本发明的移载容器与装置接合前的局部平面剖视图。
图7是本发明的移载容器与装置接合后的局部平面剖视图。
图8是本发明移载容器在实际使用时的气流示意图。
1:移载容器 10 承座 12 金属板 14
11 13 15
底座
螺帽件
透孔
承托件 150:回气空间
151:通气孔 16 20:壳罩 21 22:储存元件 25
抵持件
外壳
内衬26:压抵件3:入出气元4牛
30:管体300:隔片301第一槽孔302:第二槽孔303螺紋段32:活动件
33:抵顶端34:闭合端
35:复位弹簧36.活塞垫圏
37:滤片38 压抵垫圈
50:光掩膜60装置
61:承板62定位元件
63:读取元件644企知元件
80:启闭元件81管体
810:隔片811:第一槽孔812:第二槽孔83'活动件
84:抵顶端85:闭合端
86:复位弹簧87:活塞垫圏
88:才氐顶凸柱
具体实施例方式
为更进一步阐述本发明为达成预定发明目的所采取的技术手段及功 效，以下结合附图及较佳实施例，对依据本发明提出的移载容器的遮蔽式入 出气结构其具体实施方式
、结构、特征及其功效，详细说明如后。
有关本发明的前述及其他技术内容、特点及功效，在以下配合参考图 式的较佳实施例的详细说明中将可清楚呈现。通过具体实施方式
的说明，当
;了解，然而所附图式仅是提供参考与说明之用，并非用来对本发明;以限制。
本发明是一种用于储存或运输制程中的光掩膜的移载容器，请参阅图
1、图2所示，图l是本发明的移载容器的外观立体示意图，图2是本发明 的底座俯视分解立体示意图，用以说明该移载容器入出气元件的结构构成 及其相对关系。该移载容器l，包含有一承置光掩膜50的底座10、 一供盖 合底座IO形成密合空间的壳罩20、以及至少二个可对容置空间注气或排气 的入出气元件3。
关于本发明较佳实施例的详细构成，请同时结合参阅图2、图3及图4 所示，图3是本发明的底座仰视分解立体示意图，图4是本发明移载容器 的组合结构剖面示意图。其中，上述的底座IO,其顶面设有一金属板13，再 者底座10上并设有两承托件15与一抵持件16;该承托件15与抵持件16,可将金属板13压掣于底座10顶面，又两承 托件15与抵持件16并在金属板13围绕形成n型支撑体，供支撑光掩膜50 及光掩膜50侧边贴靠，且各承托件15的底面形成有一回气空间150，再者 两承托件15相异的外侧顶缘分别形成设有复数连通内部与外部的通气孔 151，且底座10形成有至少两个凸出顶面与底面的^R座11;
该金属板13，形成有对应的透孔14，使该两承座11可分别对应连通 前述的承托件15回气空间150(如图4所示)，且供金属板13限位之用，再 者承座11下段内缘可形成一螺紋段或埋设有一螺帽件12,本发明以埋设螺 帽件12为主要实施例，以供锁设前述的入出气元件3，能便于使用者由移 载容器1外部组装或拆解该入出气元件3。
上述的壳罩20，是由一外壳21与一金属制内衬25所组成，其中
该外壳21，周缘设有一储存元件22,该储存元件22是以无线射频识 别系统(RFID)为实施例，储存元件22供记录移载容器1内光掩膜50的相 关资讯；
该内衬25，是锁设于外壳21内缘，该内衬25内设有若干压抵件26,压 抵件26可压掣及推抵于光掩膜50的顶面与侧面，使得光掩膜50可定位于 底座10的n型支撑体上。
上述的入出气元件3，具有选择性启闭的功能，该入出气元件3并设置 于底座10的承座11内，入出气元件3是由一管体30及一选择性启闭管体 30的活动件32所组成，其中
该管体30，内部中段分别形成有一供气体流经的中空隔片300，使管体 30内部在隔片300两侧分别形成一第一槽孔301与一第二槽孔302，且入出 气元件3的管体30在对应第二槽孔302的外缘形成有一螺紋段303，供入 出气元件3将管体30锁设于前述承座11的螺帽件12上。
该活动件32，两端分别形成有一较大径的抵顶端33与一较小径的闭合 端34，该活动件32的闭合端34可穿经一复位弹簧35后，由管体30第一槽 孔301经隔片300进入第二槽孔302，并在该开合端34上套设有一活塞垫 圈36，使活动件32在管体30内选择性移动。让复位弹簧35可提供一弹性 偏压力，以推抵活动件32在位移后自动复位，使活动件32上的活塞垫圈 36相对开启或密闭该管体30的隔片300，供阻隔气体在第一槽孔301与第 二槽孔302之间流动，且当活动件32受外力推抵时，可让活动件32的活 塞垫圈36远离隔片300，使得气体可由管体30的第一槽孔301向第二槽孔 302流动。
再者，用于注气的入出气元件3由移载容器1外部锁设于底座10承座 11时，可依序压掣一压抵垫圈38与一滤片37,以进一步过滤进入移载容 器1内的干净气体，防止樣i粒或有害物质进入移载容器1内。藉此，通过移载容器1两入出气元件3的设计，使注入移载容器1内 部的气流可沿光掩膜50表面水平流动，而不致直接沖击光掩膜50表面图 形，且让移载容器l内部的气体产生循环流动，令干净气体可不断的注入移 载容器1内形成正压，以避免外部微粒与有害物质进入，同时将释出的有 害物质利用流动气体不断的带出，而组构成一不伤及光掩膜图形、且可长 时间维持洁净度与控制内部环境条件的移载容器的遮蔽式入出气结构。
请参阅图5所示，是本发明的移载容器实际运用的装置的外观立体示 意图。通过上述的设计，本发明在实际运用时，则是如图5所示，本发明 移载容器1可运用于各式容置或运输的装置60中，其中装置60可为光掩 膜管理系统储存拒、光掩膜充气拒、光掩膜运输设备、以及制程设备的光 掩膜进、出单元(Load、 Unload)等，该装置60至少包含有一置设移载容器 1的承板61及两具有充、排气作用的启闭元件80,其中
该承板61，其上具有复数防止微粒沉积的网孔，供进一步保持装置60 内部的洁净度，又承板61上设有至少一定位元件62，使得对应的移载容器 1可稳固定位于该承板61上；再者，承板61并设有至少一检知元件64，供 感应移载容器1是否定位置设置于承板61上，再者装置6Q上并具有一典 型无线射频识别系统(RFID)的读取元件63，该读取元件63可以对应移载容 器1的储存元件22，读取元件63供传输与读取移载容器1内光掩膜50相 关资讯；
该装置60的两启闭元件80，是与移载容器1的两入出气元件30对应 连接，而前述启闭元件80可选择性启闭前述的入出气元件3,该启闭元件 80具有一管状的管体81与一选择性密闭管体81的活动件83;其中
该管体81，其内部中段是形成有一供气体流经的中空隔片810，使管体 81内部在隔片810两侧分别形成一第一槽孔811与一第二槽孔812，且启闭 元件80的管体81第一槽孔811是对应前述的移载容器1;
该活动件83，两端分别形成有一较大径的4氐顶端84与一较小径的闭合 端85，使活动件83可以闭合端85穿套一复位弹簧86后，由管体81第一槽 孔811穿经隔片810进入第二槽孔812,并利用一活塞垫圈87嵌套于该闭 合端85上，使活动件83可在管体81内浮动。该复位弹簧86将提供一弹 性偏压力，以推抵活动件83上的活塞垫圈87密闭该管体81隔片810,供阻 隔气体在第一槽孔811与第二槽孔812间流动，且当活动件83受外力推抵 时，可让活动件83活塞垫圈87远离隔片810,使得管体81的第一槽孔811 与第二槽孔812相互连通，再者活动件83的抵顶端84对应移载容器1的 表面凸伸有一抵顶凸柱88。
本发明在实际操作上，请参阅图6、图7、图8所示，图6是本发明的 移载容器与装置接合前的局部平面剖视图，图7是本发明移载容器与装置接合后的局部平面剖视图，图8是本发明移载容器在实际使用时的气流示 意图。本发明在实际操作时，时将容置有光掩膜50的移载容器1置入装置 60内，当装置60的检知元件64感应移载容器1定位后，可启动读取元件 63对应存取该移载容器1的储存元件22内的光掩膜50相关资讯，同时令 移载容器1的两入出气元件3与装置60的两启闭元件80同时相对插接，而 如图6、图7所示，使得入出气元件3的管体30可推抵启闭元件80的活动 件84，而启闭元件80活动件84的抵顶凸柱88可同步推抵入出气元件3的 活动件32，使两启闭元件80与两入出气元件3可以同步开启，让干净气体 可以在移载容器1的底座10与壳罩20之间的空间内流动。并且由于干净 气体在注入时，是由启闭元件80经入出气元件3注入底座10的承托件15 回气空间150内，该干净气体进一步由承托件15外侧顶缘的通气孔151进 出，使气流是沿着光掩膜50的表面流动，而不致直接沖击光掩膜50表面的 图形，避免造成图形的伤害，能够有效的延长光掩膜50的使用寿命，并且 可以将有害物质顺利带走，而加速移载容器l中有害物质的释出，而减少光 掩膜50清洗与重新制作的次数，能够有效的降低营运成本。
再者，通过移载容器1内部气体可不断的注入与排出，使移载容器1内 部环境产生一气体的循环流动状态，如此可以使移载容器1内部环境形成 正压，有效的防止了移载容器1外部的微粒、水气等有害物质进入。更甚 者，可以依后续制程的需要，通过循环流动的气体，预先控制移载容器l内 部的环境条件，如湿度、温度等，而可以节省后续制程的时间与成本。
以上所述，仅是本发明的较佳实施例而已，并非对本发明作任何形式 上的限制，虽然本发明已以较佳实施例揭露如上，然而并非用以限定本发 明，任何熟悉本专业的技术人员，在不脱离本发明技术方案范围内，当可利 用上述揭示的技术内容作出些许更动或修饰为等同变化的等效实施例，但 凡是未脱离本发明技术方案的内容，依据本发明的技术实质对以上实施例 所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本发明技术方案的范围 内。
权利要求
1、一种移载容器的遮蔽式入出气结构，该移载容器是用于容置一光掩膜，其特征在于其包含有一底座，其顶面设有由两承托件与一抵持件围绕形成的支撑体，供支撑光掩膜及光掩膜侧边贴靠，其中承托件底面形成有一中空的回气空间，两承托件相异的外侧分别形成有复数连通内部与外部的通气孔；一壳罩，其供选择性相对前述底座盖合与开启，该壳罩可盖合于底座上形成一容置光掩膜的容置空间；至少两入出气元件，其设置于前述底座上，该两入出气元件并设置于底座两承托件的下方，且与承托件回气空间相连通；藉此，当移载容器置于一装置时，可通过装置上相对入出气元件的启闭元件，选择性同时开启入出气元件，令气体可注入与排出移载容器，而利用两入出气元件可使气体经由回气空间注入或排出移载容器的设计，使得气流可沿光掩膜上、下表面水平流动，而组构成一气流不致损及光掩膜图形、且可长时间保持洁净度的移载容器的遮蔽式入出气结构。
2、 根据权利要求1所述的移载容器的遮蔽式入出气结构，其特征在于 其中所述的移载容器的底座具有一连通承托件的承座，该承座的下段埋设 有一螺帽件，供入出气元件由移载容器外部螺锁于底座承座上，使得入出 气元件可便于由移载容器外部组装与拆解。
3、 根据权利要求2所述的移载容器的遮蔽式入出气结构，其特征在于 其中所述的底座上设有 一 由承托件与抵持件压掣的金属板，且金属片在对 应承座处形成有对应透孔，让金属板可获得限位作用。
4、 根据权利要求1或2所述的移载容器的遮蔽式入出气结构，其特征在于其中所述的移转容器的入出气元件具有一管体及一活动件，该管体内 部中段是形成有一供气体流经的中空隔片，又该活动件的两端分别形成有 一较大径的抵顶端与 一较'J 、径的闭合端，使活动件可以闭合端穿套一复位 弹簧后、穿经隔片，并利用一活塞垫圈嵌套于该闭合端上，使活动件可在 管体内受复位弹簧提供的弹性偏压力产生浮动，供利用活动件的活塞垫圈 相对远离或靠近管体隔片，供阻隔气体或使气体连通。
5、 根据权利要求4所述的移载容器的遮蔽式入出气结构，其特征在于 其中所述的移转容器用作注气的入出气元件在出气端压设有一滤片与一压 抵垫圈，供进一步过滤由入出气元件所导入的气体。
全文摘要
本发明是有关一种移载容器的遮蔽式入出气结构，该移载容器，包含相对盖合的一底座与一壳罩，底座顶面设有一由两承托件与一抵持件组成的门型支撑体，以支撑光置；该入出气结构，在底座上设有至少两个可选择性产生气密作用的入出气元件，设于中空承件件范围内，使移载容器置在对应装置时，可通过设于装置上的对应启闭元件选择性开启移载容器的两入出气元件，而对密合移转容器内部注入干净气体，并将移转容器内部气体导出，使气体可在移转容器内部形成进、出循环流动状态，能长时间维持移转容器内部环境洁净度，同时由于入出气结构是设置于承托件下方，可避免气流直接冲击光掩膜表面，不致发生伤害光掩膜表面的现象，而可以提升洁净度，并且能避免伤害光掩膜。
文档编号H01L21/677GK101609260SQ20081012520
公开日2009年12月23日 申请日期2008年6月16日 优先权日2008年6月16日
发明者卢诗文, 蔡铭贵, 陈俐殷 申请人:亿尚精密工业股份有限公司