专利名称：可发光辅助校准的定位装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种晶圆制程的定位装置，尤其涉及一种可发光辅 助校准的定位装置。
背景技术：
传统应用于晶圆制程的定位装置(例如中国台湾申请案号第5210816 号专利)，是如
图1及图2所示，其于一机台71上设置一反应室壁72， 于该反应室壁72内再设一工作承座73;该工作承座73上则设一定位结 构74;该定位结构74用以固定一晶圆75，该晶圆75上具有一晶圆定位 标记751。
传统定位装置存在如下缺点
1、 无辅助背光的标号设计定位较不准确。如图2所示，传统定位装 置可能以可程序控制机械手臂76移动该晶圆75至该定位结构74的预定 位置，其上再放置一光罩77，并通过一影像处理装置(图中未示)来判断 该光罩77上的光罩定位标记771与该晶圆75上的晶圆定位标记751是 否对齐， 一旦完全对齐时，才算是定位完毕，否则需要进行位置的微调。 由于该晶圆75下方并无光源来辅助照明，因此，影像处理装置于定位过 程中进行取像时，取得的影像较暗，处理时的失误机率较高，故，定位 较不准确。
2、 工作气体供应部相当复杂。传统定位装置需于机台上设置反应室 壁，而工作承座则设于该反应室壁内，当需要于预定气体(例如氮气)中 进行作业以避免氧化时，工作承座/定位结构本体并无法放出预定气体， 必需由机台上的工作气体供应部放出预定气体，并使工作气体充满于反 应室壁内，才能进行作业，这样的设计，工作承座与反应室壁间必有预 定距离，欲使预定气体散布于工作承座旁，则需大量的预定气体(气体会 消散，相当浪费)，且机台上另设反应室壁及工作气体供应部则使装置复 杂化。因此，有必要研发新技术以解决上述缺点。
实用新型内容
本实用新型所要解决的主要技术问题在于，克服现有技术存在的上 述缺陷，而提供一种可发光辅助校准的定位装置，其具有辅助背光的标 号设计定位较准确，使定位结构与工作气体供应部合一结构简单，其真 空吸引部使工件可轻易定位。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是
一种可发光辅助校准的定位装置，其特征在于包括 一机台； 一工 作承座，设于该机台上； 一定位结构，设于该工作承座上；该定位结构 具有一第一面及一第二面；至少一发光部，设于该定位结构上，其可朝 该第二面的方向发光； 一真空吸引部，设于该定位结构上，其包括一 吸引槽道，内凹分布于该定位结构的第二面上； 一第一气孔，开设于该 定位结构的第二面上，且连通该吸引槽道； 一第二气孔，开设于该定位 结构的第一面上； 一通气道，设于该定位结构内部，且连通该第一气孔 及该第二气孔，借此，使该真空吸引部产生预定吸引力； 一工作气体供 应部，设于该定位结构内部，其包括多个第三气孔，开设于该定位结 构的第二面上，且大体围绕于该吸引槽道外周； 一第四气孔，开设于该 定位结构的第一面上，且连通该多个第三气孔，借此，使该工作气体供 应部可发出预定气体以围绕该吸引槽道。
前述的可发光辅助校准的定位装置，其中真空吸引部又包括一真空 产生装置，该真空产生装置连通该第二气孔；所述工作气体供应部又包 括一气压源，该气压源连通该第四气孔。
前述的可发光辅助校准的定位装置，其中定位结构的第二面用以设 置一第一工件，该第一工件至少具有一可辅助背光的第一标号，该第一 标号对准该发光部发出的光线而呈辅助背光状；所述真空产生装置产生 一吸力，并经该通气道、该第一气孔，而通过该吸引槽道吸引该第一工 件，使该第一工件附着于该定位结构的第二面；借此，使一第二工件可 于该第一工件上移动，该第二工件上对应该第一标号而具有至少一个可 辅助背光的第二标号，借该发光部的光线，使呈辅助背光状的第二、第 一标号易于对准，使第一、第二工件达到校准定位；所述气压源经该第
5四气孔而朝该第三气孔输出预定气体；使被吸附于该吸引槽道上的第一、 第二工件于该预定气体中进行作业；所述预定气体为氮气。
前述的可发光辅助校准的定位装置，其中定位结构由一第一结构及 一第二结构组成；所述发光部、所述真空吸引部与所述工作气体供应部 分别设置于该第一、第二结构上；所述工作气体供应部包括多个上气 道，对应该多个第三气孔而设于该定位结构内部；多个中气道，对应该 上气道而设于该定位结构内部；多个下气道，对应该中气道而设于该定 位结构内部；又，该第四气孔连通该多个下气道。
前述的可发光辅助校准的定位装置，其中发光部设多个。 本实用新型的有益效果是，其具有辅助背光的标号设计定位较准确， 使定位结构与工作气体供应部合一结构简单，其真空吸引部使工件可轻 易定位。以下结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。 图1是现有装置的示意图 图2是现有装置的部分结构放大示意图 图3是本实用新型的外观示意图 图4是本实用新型的部分结构一的外观示意图 图5是本实用新型的部分结构二的外观示意图 图6是本实用新型的真空吸引部与工作气体供应部于该定位结构内 部的分布示意图
图7是本实用新型的发光部及真空吸引部的动作示意图 图8是本实用新型的工作气体供应部发出预定气体的示意图 图9是本实用新型的实施例的平面示意图 图中标号说明
10、 71机台 20、 73工作承座
30、 74定位结构 30A第一结构
30B第二结构 31第一面 32第二面 40发光部
50真空吸引部 51吸引槽道52第一气孔53第二气孔
54通气道55真空产生装置
60工作气体供应部61第三气孔
62上气道63中气道
64下气道65第四气孔
66气压源67预定气体
72反应室壁75晶圆
751晶圆定位标记76机械手臂
77光罩771光罩定位标记
91第一工件911第一标号
92第二工件921第二标号
具体实施方式
本实用新型是为一种可发光辅助校准的定位装置，参阅图3至图6, 其包括-
一机台10;
一工作承座20，设于该机台10上；
一定位结构30，设于该工作承座20上；该定位结构30具有一第一 面31及一第二面32;
至少一发光部40，设于该定位结构30上，其可朝该第二面32的方
向发光；
一真空吸引部50，设于该定位结构30上，其包括 一吸引槽道51，是内凹分布于该定位结构30的第二面32上； 一第一气孔52，开设于该定位结构30的第二面32上，且连通该吸 引槽道51;
一第二气孔53，开设于该定位结构30的第一面31上； 一通气道54，设于该定位结构30内部，且连通该第一气孔52及该 第二气孔53;
一工作气体供应部60，设于该定位结构30内部(与该通气道54不相 通)，其包括
多个第三气孔61，开设于该定位结构30的第二面32上，且大体围绕于该吸引槽道51外周围；
多个上气道62，对应该多个第三气孔61而设于该定位结构30内部;
多个中气道63，对应该上气道62而设于该定位结构30内部；
多个下气道64，对应该中气道63而设于该定位结构30内部；
一第四气孔65，开设于该定位结构30的第一面31上，且连通该多 个下气道64。
此为本实用新型的可发光辅助校准的定位装置。
实际上，该定位结构30是由一第一结构30A及一第二结构30B组成 (如图7及图8所示)，其中，该发光部40、该真空吸引部50与该工作气 体供应部60分别设置于该第一、第二结构30A与30B上。
该发光部40设多个。
该真空吸引部50又包括一真空产生装置55(如图7所示)，该真空产 生装置55连通该第二气孔53。
该工作气体供应部60又包括一气压源66 (如图8所示)，该气压源 66连通该第四气孔65。
参阅图7至图9，为本实用新型应用于晶圆的校准定位装置的示意图， 该定位结构30的第二面32，是用以设置一第一工件91 (例如为晶圆)， 该第一工件91至少具有一可辅助背光的第一标号911，该第一标号911 是对应于该发光部40;启动该发光部40，该发光部40发出光线而使该 第一标号911呈辅助背光状。
启动该真空产生装置55，该真空产生装置55产生一股吸力，并从该 第二气孔53经该通气道54、该第一气孔52，而通过该吸引槽道51吸引 该第一工件91，使该第一工件91附著于该定位结构30的第二面32上。
将一个第二工件92移至该第一工件91上，因该第一工件91被吸附 于该定位结构30的第二面32上；故使其第一标号911定位于该发光部 40上呈辅助背光状而不会移动；该第二工件92上对应该第一标号911而 具有至少一个可辅助背光的第二标号921，借该发光部40发出的光线， 使呈辅助背光状的第二标号921与该第一标号911更容易对准，如此借 由可辅助背光的第一标号911与第二标号921，使第一、第二工件91与 92达到精确的校准定位。启动该气压源66，该气压源66朝该第四气孔65输入一预定气体 67(例如为氮气)；该预定气体67经该下气道64、该中气道63、该上气 道62，而由该多个第三气孔61输出，由于该多个第三气孔61是大体围 绕于该吸引槽道51外周围，故使被吸附于该吸引槽道51上的第一、第二 工件91与92可被该预定气体67包围，而于预定的气体围绕中进行作业。
本实用新型的优点及功效可归纳为
1、 辅助背光的标号设计定位较准确。本实用新型于定位结构上设有 发光部，只要工件的标号对准该发光部，即可由发光部发光而使标号呈
"辅助背光状"，使两个工件的标号因呈"辅助背光状"更容易对准，而 达到准确定位的效果。
2、 定位结构与工作气体供应部合一结构简单。本实用新型直接于该 定位结构上设一工作气体供应部，该工作气体供应部设多个大体围绕于 该定位结构外围的第三气孔，借由多个第三气孔放出预定气体(例如氮 气)，使定位结构上的工件(例如晶圆)，可于预定气体围绕的环境下作 业，无需将工件再从定位结构上移至具有预定气体的密闭空间内作业， 可使工件在定位结构上，直接让预定气体围绕(这样的设计，跟在具有预 定气体的密闭空间内是一样的)着进行作业。
3、 真空吸引部使工件可轻易定位。本实用新型于第一工件定位在该 定位结构上，且其上的第一标号对准该发光部而呈辅助背光状后，即可 由该真空吸引部的真空吸引，使第一工件附著于该定位结构的第二面上， 即使第二工件需在第一工件上移动以使第二标号与第一标号校准定位， 仍不会造成第一工件移动(第一标号不会离开发光部)，可迅速的校准定 位。
以上所述，仅是本实用新型的较佳实施例而已，并非对本实用新型 作任何形式上的限制，凡是依据本实用新型的技术实质对以上实施例所 作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本实用新型技术方案的 范围内。
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权利要求1.一种可发光辅助校准的定位装置，其特征在于包括一机台；一工作承座，设于该机台上；一定位结构，设于该工作承座上；该定位结构具有一第一面及一第二面；至少一发光部，设于该定位结构上，其可朝该第二面的方向发光；一真空吸引部，设于该定位结构上，其包括一吸引槽道，内凹分布于该定位结构的第二面上；一第一气孔，开设于该定位结构的第二面上，且连通该吸引槽道；一第二气孔，开设于该定位结构的第一面上；一通气道，设于该定位结构内部，且连通该第一气孔及该第二气孔，借此，使该真空吸引部产生预定吸引力；一工作气体供应部，设于该定位结构内部，其包括多个第三气孔，开设于该定位结构的第二面上，且围绕于该吸引槽道外周；一第四气孔，开设于该定位结构的第一面上，且连通该多个第三气孔。
2. 根据权利要求1所述的可发光辅助校准的定位装置，其特征在于所述真空吸引部又包括一真空产生装置，该真空产生装置连通该第 二气孔；所述工作气体供应部又包括一气压源，该气压源连通该第四气孔。
3. 根据权利要求2所述的可发光辅助校准的定位装置，其特征在于所述定位结构的第二面用以设置一第一工件，该第一工件至少具有 一可辅助背光的第一标号，该第一标号对准该发光部发出的光线而呈辅 助背光状；所述真空产生装置产生一吸力，并经该通气道、该第一气孔，而通过该吸引槽道吸引该第一工件，使该第一工件附着于该定位结构的第二面；借此，使一第二工件可于该第一工件上移动，该第二工件上对应该 第一标号而具有至少一个可辅助背光的第二标号；所述气压源经该第四气孔而朝该第三气孔输出预定气体；所述预定气体为氮气。
4. 根据权利要求1所述的可发光辅助校准的定位装置，其特征在于所述定位结构由一第一结构及一第二结构组成； 所述发光部、所述真空吸引部与所述工作气体供应部分别设置于该 第一、第二结构上；所述工作气体供应部包括多个上气道，对应该多个第三气孔而设于该定位结构内部； 多个中气道，对应该上气道而设于该定位结构内部； 多个下气道，对应该中气道而设于该定位结构内部； 又，该第四气孔连通该多个下气道。
5. 根据权利要求4所述的可发光辅助校准的定位装置，其特征在 于:所述发光部设多个。
专利摘要一种可发光辅助校准的定位装置，包括一机台；一工作承座设于机台上；一定位结构设于工作承座上；定位结构具有一第一及一第二面；至少一发光部；一真空吸引部设于定位结构上，其包括一吸引槽道，内凹分布于定位结构的第二面上；一第一气孔开设于定位结构的第二面上，且连通吸引槽道；一第二气孔开设于定位结构的第一面上；一通气道设于定位结构内部，且连通第一及第二气孔；一工作气体供应部，设于定位结构内部，其包括多个第三气孔，开设于定位结构的第二面上；一第四气孔开设于定位结构的第一面上，连通多个第三气孔。本实用新型具有辅助背光的标号设计定位较准确，使定位结构与工作气体供应部合一结构简单，其真空吸引部使工件可轻易定位。
文档编号H01L21/68GK201153119SQ20082000014
公开日2008年11月19日 申请日期2008年1月4日 优先权日2008年1月4日
发明者林宪维, 罗世虎, 谢柏弘 申请人:科毅科技股份有限公司