专利名称：晶体硅太阳能电池扩散炉的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及太阳能电池生产设备，尤其是一种晶体硅太阳能电池扩散炉。
背景技术：
扩散炉管是半导体器件及大规模集成电路制造过程中用于对硅片进行扩 散、氧化、退伙、合金及烧结等工艺的一种热加工设备。在晶体硅太阳能电池
生产过程中，扩散是制备PN结的重要工艺过程。 一般的太阳能电池扩散炉设
备包括扩散炉炉管和尾部连接的用于提供气源的石英管。但是这种设备存在
一些不足之处由于扩散炉管为单端开放式结构，在处理硅片的工艺过程中不
可避免地装片、卸片都要从一个口子进出，时间较长，生产效率低，且硅片进
出时间会影响高浓度浅结扩散的均匀性。
为了提高生产效率，应合硅片尺寸扩大的趋势，逐渐采用连续式扩散工艺，
连续式的清洗工艺和扩散工艺可以很好地配合，清洗烘干后的硅片可以直接进
入到扩散系统中，节省了很多如装片、卸片等环节，提高了生产效率。但是连
续式系统常常采用隧道式结构，结构复杂，增加了扩散的不均匀性。
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题是为了克服现有的扩散炉结构复 杂、扩散均匀性差等的问题，提供一种晶体硅太阳能电池扩散炉，可对 扩散源进行充分混合，以提高产品的扩散均匀性。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是 一种晶体硅太阳 能电池扩散炉，具有扩散炉管，扩散源和扩散炉管之间设置有气体缓冲装置，气体缓冲装置的相对两侧分别设有进气孔和出气孔，出气孔通过
连接管与扩散炉管的进气口连通。
进一步地，气体缓冲装置可为长方体或圆柱体或椭球状的空心容器。 进一步地，气体缓冲装置底部设置有恒温保护装置，保证整个气体
缓冲装置内的气体在同一温度。
本实用新型的有益效果是；通过气体缓冲装置对扩散源进行充分混
合，以提高通入到扩散炉管内扩散源的饱和蒸汽压，从而提高扩散炉管
的扩散的掺杂均匀性，且该设备结构简单，安装方便，安全性好。以下结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。
图1是本实用新型的优选实施例的结构示意其中l.扩散炉管，2.气体缓冲装置，3.进气孔，4.出气孔，5.连接 管，6.恒温保护装置。
具体实施方式
如图1所示， 一种晶体硅太阳能电池扩散炉，具有扩散炉管l,扩散 源和扩散炉管1之间设置有气体缓冲装置2，气体缓冲装置2的相对两 侧分别设有进气孔3和出气孔4，出气孔4通过连接管5与扩散炉管1 的进气口连通，气体缓冲装置2底部设置有恒温保护装置6。
气体缓冲装置2可为长方体或圆柱体或椭球状的空心容器。如图1 所示，该气体缓冲装置2形状为长方体。
通过该气体缓冲装置2的气体可以是大流量氮气、携带源的小流量氮气和 氧气中的一种气体或几种气体的混合气体；小流量氮气携带的液态扩散源可包 括磷扩散源和硼扩散源；通过该气体缓冲装置2内的气体在该气体缓冲装置2内要停留一定的时间以进行充分混合，再从气体缓冲装置2的出气孔4流出。 通过该气体缓冲装2可以使大流量氮气、氧气及携带液态扩散源的小流 量氮气及磷源在此气体缓冲装置2内充分混合，然后再通过扩散炉管1的进气 口进入扩散炉管1内。通过本装置的使用，可以提高通入到扩散炉管1内扩散 源的饱和蒸汽压，从而提高晶体硅太阳电池管式扩散的掺杂均匀性。
权利要求1.一种晶体硅太阳能电池扩散炉，具有扩散炉管(1)，其特征是扩散源和扩散炉管(1)之间设置有气体缓冲装置(2)，气体缓冲装置(2)的相对两侧分别设有进气孔(3)和出气孔(4)，出气孔(4)通过连接管(5)与扩散炉管(1)的进气口连通。
2. 根据权利要求l所述的晶体硅太阳能电池扩散炉，其特征是所述的气体缓冲装置(2)可为长方体或圆柱体或椭球状的空心容器。
3. 根据权利要求1所述的晶体硅太阳能电池扩散炉，其特征是所述的气体缓冲装置(2)底部设置有恒温保护装置(6)。
专利摘要本实用新型涉及太阳能电池生产设备，尤其是一种晶体硅太阳能电池扩散炉。它具有扩散炉管，在扩散炉管和扩散源之间设置有气体缓冲装置，气体缓冲装置的相对两侧分别设有进气孔和出气孔，出气孔通过连接管与扩散炉管的进气口连通。通过气体缓冲装置对扩散源进行充分混合，以提高通入到扩散炉管内扩散源的饱和蒸汽压，从而提高扩散炉管的扩散的掺杂均匀性，且该设备结构简单，安装方便，安全性好。
文档编号H01L31/18GK201408773SQ200920041708
公开日2010年2月17日 申请日期2009年4月1日 优先权日2009年4月1日
发明者军 张, 焦云峰, 键 盛, 亮 陈, 强 黄 申请人:常州天合光能有限公司