专利名称：晶片清洗及干燥花篮的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及晶片加工技术领域，尤其涉及一种用于清洗及干燥晶片的花篮。
背景技术：
众所周知，在晶片的加工过程中需要对其进行清洗及干燥，以便冲洗掉晶片上残留的药液并使其干燥，而在清洗时，特别是在对多个晶片同时进行清洗时，通常需要将晶片置于花篮中。如图1-2所示，为现有技术晶片清洗及干燥花篮的结构及原理示意图。其中， 图2中的箭头方向为冲水方向。该晶片清洗及干燥花篮相对设有一对侧杆1’，该侧杆1’的相对面上排列多个锯齿2’，晶片3’置于相向的锯齿2’之间。现有技术所使用的花篮中锯齿2’对晶片3’表面的遮挡太多、接触面大，接触部位为线面接触，从而造成药液不能完全地、均勻地与晶片表面作用，同时在清洗时也很容易残留药液，在干燥过程中容易存水，导致干燥不均勻。因此，存在冲水时花篮对晶片的阻挡面积大，不利于清洗干净，也不利于晶片干燥的缺点。
实用新型内容(一)要解决的技术问题本实用新型的目的是，提供一种新型的晶片清洗及干燥花篮，以便在晶片的加工处理中能够使药液均勻地对其进行腐蚀，并在清洗过程中能够有效地将晶片清洗干净及干
O( 二)技术方案为了解决上述技术问题，本实用新型提供了一种晶片清洗及干燥花篮，其包括底杆，用于从底部支撑所述晶片；侧杆，用于从侧面支撑所述晶片；侧板，与所述底杆和所述侧杆连接，用于固定所述底杆和所述侧杆；所述底杆和侧杆的表面上具有槽，用于定位所述
曰曰/Τ。优选地，所述底杆为一个，设置于所述花篮的下侧；所述侧杆为两个，分别设置于所述花篮的左、右两侧。优选地，所述底杆和所述侧杆相互平行。优选地，所述底杆和所述侧杆的表面上具有槽，用于定位所述晶片。优选地，所述底杆和所述侧杆的横截面为圆形、三角形或矩形。优选地，所述槽的横截面为梯形、矩形或圆弧形。优选地，所述侧板与所述底杆和所述侧杆的两端可拆卸地连接。优选地，所述侧板与所述底杆和所述侧杆的两端使用螺栓连接。优选地，所述底杆与所述侧杆的间距以及所述侧杆之间的间距取决于所述晶片的尺寸。(三)有益效果本实用新型提出的晶片清洗及干燥花篮，由于与晶片的支撑结构采用了点接触的方式，因此具有与晶片的接触面积小的特点，使得在药液腐蚀处理中以及清洗过程中花篮对晶片的阻挡面积小，有利于药液腐蚀的均勻性，以及冲洗干燥的完全性和快速性。
图1示出了现有技术的的晶片清洗及干燥花篮的结构示意图；图2示出了现有技术的晶片清洗及干燥花篮的结构及原理示意图；图3示出了本实用新型的晶片清洗及干燥花篮的示例性结构图。图4示出了本实用新型的晶片清洗及干燥花篮的结构及原理示意图；图5示出了本实用新型的晶片清洗及干燥花篮结构俯视图；图6示出了本实用新型的晶片清洗及干燥花篮结构侧视图；图7示出了本实用新型的晶片清洗及干燥花篮中槽。其中1、底杆；2、侧杆；3、侧板；4、槽；5、晶片；1’、侧杆；2’、锯齿；3’、晶片。
具体实施方式
以下结合附图和实施例，对本实用新型的具体实施方式
作进一步详细描述。以下实施例用于说明本实用新型，但不用来限制本实用新型的范围。如图3-6所示，本实用新型的晶片清洗及干燥花篮的整体造型分为底杆1、侧杆2、 以及侧板3三部分。其中，图4中箭头方向为冲水方向。其中，底杆1设置于花篮的下侧，对晶片5起底部支撑作用。底杆1可以为一个， 也可以为多个，为了既能满足支撑晶片5的需要，又能减少与晶片5的接触面积，底杆1的数量较好的为一个。如图所示，底杆1为长杆状，其横截面可以是圆形、三角形或矩形，也可以是其它形状。底杆1的表面上可以开设多个相互平行的槽4，每个槽4中放置一个晶片 5，这样可以更好地卡住晶片5。如图7所示，槽4的横截面可以是梯形、矩形或圆弧形，也可以是其它形状。其中图7仅示出了槽4为矩形形状。侧杆2设置于花篮的左右两侧，对晶片起侧面支撑作用。侧杆2可以为两个，也可以为多个，为了既能满足支撑晶片5的需要，又能减少与晶片5的接触面积，底杆1的数量较好的为两个。如图所示，与底杆1类似，侧杆2为长杆状，其横截面可以是圆形、三角形或矩形，也可以是其它形状，侧杆2可以与底杆1相同，也可以与底杆1不同。与底杆1类似， 侧杆2的表面上可以开设多个相互平行的槽4，每个槽4中放置一个晶片5，这样可以更好地卡住晶片。槽4的横截面可以是梯形、矩形或圆弧形，也可以是其它形状，侧杆2的槽4 可以与与底杆1相同，也可以与底杆1不同。如图所示，两个侧杆2之间以及其与底杆1之间相互平行，并且，两个侧杆2之间的间距以及其与底杆的间距取决于晶片5的尺寸，例如， 当晶片分别为2寸、3寸等不同尺寸大小时，杆的间距是不同的。根据本实施例，由于晶片清洗及干燥花篮采用三杆支撑结构，晶片与支撑结构全为点接触，因此减少了在干燥过程中接触点残留的液体，便于快速均勻地干燥，有利于晶片质量。并且，每根杆均采用圆型、三角形或矩形结构，晶片5被遮挡的面积约为现有技术中普通花篮的1/20左右，增加了冲水时的清洗能力，也增加了清洗的均勻性。本实施例中的侧板3为两个相同的左、右侧板，分别设置于底杆1和侧杆2的左、右两端，并与其连接，用于固定底杆1和侧杆2，这样形成了完整的花篮结构。侧板3与底杆1和侧杆2的两端连接方式有多种，可以是可拆卸地连接的连接方式，例如，侧板与底杆和侧杆的两端可以使用螺栓进行连接，这种连接方式的好处是便于底杆和侧杆从侧板上拆卸下来进行清洗和更换。在本实用新型中，花篮的各组成部分可以采用相同的材料制成，材料的选取可以有多种。由于花篮要与药液接触，需要考虑其耐酸碱性，因此优选化学性质稳定的材料。另外，由于花篮要与晶片相接触，为了不损伤晶片，因此优选具有柔性的材料，同时，为了满足有效的支撑和夹持，还要考虑其足够的刚性。综合以上的考虑，最好采用聚四氟乙烯材料。根据本实用新型提出的晶片清洗及干燥花篮，由于与晶片的支撑结构采用了点接触的方式，因此具有与晶片的接触面积小的特点，使得在药液腐蚀处理中以及清洗过程中花篮对晶片的阻挡面积小，有利于药液腐蚀的均勻性，以及冲洗干燥的完全性和快速性。本实用新型的描述是为了示例和描述起见而给出的，而并不是无遗漏的或者将本实用新型限于所公开的形式。很多修改和变化对于本领域的普通技术人员而言是显然的。 选择和描述实施例是为了更好说明本实用新型的原理和实际应用，并且使本领域的普通技术人员能够理解本实用新型从而设计适于特定用途的带有各种修改的各种实施例。
权利要求1.一种晶片清洗及干燥花篮，其特征在于，包括 底杆，用于从底部支撑所述晶片；侧杆，用于从侧面支撑所述晶片；侧板，与所述底杆和所述侧杆连接，用于固定所述底杆和所述侧杆； 所述底杆和侧杆的表面上具有槽，用于定位所述晶片。
2.如权利要求1所述的晶片清洗及干燥花篮，其特征在于 所述底杆为一个，设置于所述花篮的下侧；所述侧杆为两个，分别设置于所述花篮的左、右两侧。
3.如权利要求2所述的晶片清洗及干燥花篮，其特征在于 所述底杆和所述侧杆相互平行。
4.如权利要求1所述的晶片清洗及干燥花篮，其特征在于 所述底杆和所述侧杆的横截面为圆形、三角形或矩形。
5.如权利要求1所述的晶片清洗及干燥花篮，其特征在于 所述槽的横截面为梯形、矩形或圆弧形。
6.如权利要求2所述的晶片清洗及干燥花篮，其特征在于 所述侧板与所述底杆和所述侧杆的两端可拆卸地连接。
7.如权利要求6所述的晶片清洗及干燥花篮，其特征在于 所述侧板与所述底杆和所述侧杆的两端使用螺栓连接。
8.如权利要求2所述的晶片清洗及干燥花篮，其特征在于所述底杆与所述侧杆的间距以及所述侧杆之间的间距取决于所述晶片的尺寸。
专利摘要本实用新型提供了一种晶片清洗及干燥花篮，其包括底杆，用于从底部支撑晶片；侧杆，用于从侧面支撑晶片；侧板，与底杆和侧杆连接，用于固定底杆和侧杆，所述底杆和侧杆的表面上具有槽，用于定位所述晶片。本实用新型提出的晶片清洗及干燥花篮，由于与晶片的支撑结构采用了点接触的方式，因此具有与晶片的接触面积小的特点，使得在药液腐蚀处理中以及清洗过程中花篮对晶片的阻挡面积小，有利于药液腐蚀的均匀性，以及冲洗干燥的完全性和快速性。
文档编号H01L21/673GK202103032SQ20112020569
公开日2012年1月4日 申请日期2011年6月17日 优先权日2011年6月17日
发明者任殿胜, 刘文森, 易德福 申请人:北京通美晶体技术有限公司