技术总结
描述一种用于在进行真空处理的基板处理腔室中支撑基板的载体。所述载体包括至少两个固持件，其中每个固持件包括：固定部分，所述固定部分被配置成附接到载体主体，并且具有相对于所述载体主体的固定位置；浮动部分，所述浮动部分可相对于所述固定部分沿至少一个方向来移动；以及固定机构，所述固定机构提供在相对于浮动部分的固定位置处，并且被配置成将所述基板夹持在所述固持件中。此外，所述浮动部分可沿所述至少一个方向从第一端位置移动到第二端位置，并且所述浮动部分进一步包括力布置，所述力布置被配置成在所述至少一个方向上在所述载体中使基板定位于中心或拉动基板。
技术研发人员：A·布吕宁;O·海梅尔;R·欣特舒斯特
受保护的技术使用者：应用材料公司
文档号码：201480077927
技术研发日：2014.04.17
技术公布日：2016.11.23