1.一种耐腐蚀的钕铁硼磁体，其特征在于，所述耐腐蚀的钕铁硼磁体的组成成分及质量百分比为：Nd：26.00%-30.00%、B：1.00%-2.50%、Si：0.80%-1.50%、Ga：0.10%-0.20%、Cu：0.20%-0.50%、Co：0.60%-1.50%、V：0.10%-0.30%、Dy：0.20%-0.60%，余量为Fe；
所述耐腐蚀的钕铁硼磁体的制备方法包括如下步骤：
S1、配料与熔炼：按照所述耐腐蚀的钕铁硼磁体的组成成分及质量百分比进行配料，将配料熔炼并浇铸得到厚度为0.30-0.50mm的铸片；
S2、生坯成型：将上述铸片经过氢碎、气流磨后得到平均粒径为3.0μm-5.0μm的粉末，再将粉末于氮气的保护气氛中、在2.0T-3.0T的脉冲磁场下取向并压制成型得到钕铁硼磁体生坯；
S3、烧结固溶、时效：将上述钕铁硼磁体生坯先在500-600℃下预烧2.0-3.0h，然后以15-20℃/min的速度升温至1180-1220℃烧结0.5-2h，然后于1150℃-1180℃固溶2-3小时，并快速风冷到室温，得到烧结坯；再将烧结坯由室温升温到820-840℃保温时效5-6小时，随后以1-3℃/min的冷却速率慢冷到520℃-600℃，并保温2-4小时；
S4、表面处理：将烧结固溶、时效处理后的钕铁硼磁体毛坯经预镀、电镀处理得到钕铁硼磁体成品；
步骤S4中预镀处理所用的处理液的成分包括：硫酸镍：230-280g/L、次亚磷酸钠：15-35g/L、无水乙酸钠：10-15g/L、丁二酸：0.01-0.1mol/L、聚乙二醇：0.03-0.1g/L，溶剂为水；预镀处理时，温度为45-55℃，PH为3.8-4.5，处理时间为30-50min，镀层平均厚度为3-8μm；
步骤S4中电镀处理所用的处理液的成份包括：硫酸镍：230-320g/L、氯化镍：40-80g/L、硼酸：30-50g/L、对甲苯磺酰胺：0.05-0.1g/L、正辛基硫酸钠：0.05-0.1g/L、柠檬酸钠：5-12g/L，溶剂为水；电镀处理时，温度为45-55℃，pH为4.0-4.6，处理时间为35-50min，镀层平均厚度为5-10μm。
2.根据权利要求1所述的一种耐腐蚀的钕铁硼磁体，其特征在于，所述耐腐蚀的钕铁硼磁体的组成成分及质量百分比为：Nd：27.00%-29.00%、B：1.50%-2.00%、Si：1.00%-1.30%、Ga：0.12%-0.18%、Cu：0.30%-0.40%、Co：0.80%-1.20%、V：0.15%-0.25%、Dy：0.30%-0.50%，余量为Fe。
3.根据权利要求1或2所述的一种耐腐蚀的钕铁硼磁体，其特征在于，所述耐腐蚀的钕铁硼磁体的组成成分及质量百分比为：Nd：28.00%、B：1.80%、Si：1.20%、Ga：0.15%、Cu：0.35%、Co：1.00%、V：0.20%、Dy：0.40%，余量为Fe。
4.根据权利要求1所述耐腐蚀的钕铁硼磁体，其特征在于，步骤S2中铸片经过氢碎处理后得到平均粒径为9.0μm-11.0μm的碎粉。
5.根据权利要求1所述耐腐蚀的钕铁硼磁体，其特征在于，步骤S3中所述时效处理时的升温速度为10-30ºC/min。