技术总结
提供了一种离子注入系统和方法，用于在被扫描的离子束撞击工件的同时改变被扫描的离子束相对于工件的入射角度。所述系统具有被配置为形成离子束的离子源和被配置为对离子束进行质量分析的质量分析器。离子束扫描器被配置为沿第一方向对离子束进行扫描，从而限定被扫描的离子束。工件支撑件被配置为在其上支撑工件，并且角度注入装置被配置为改变被扫描的离子束相对于工件的入射角度。所述角度注入装置包括角能量过滤器和可操作地耦接到工件支撑件的机械装置中的一个或多个，其中控制器控制所述角度注入装置，从而在被扫描的离子束撞击工件的同时改变被扫描的离子束相对于工件的入射角度。
技术研发人员：卡森·高全·任;威廉·宾茨
受保护的技术使用者：艾克塞利斯科技公司
文档号码：201580021611
技术研发日：2015.04.29
技术公布日：2016.12.14