流体处理用装置的制作方法

本发明涉及通过对被处理流体照射光来进行处理的流体处理用装置。更详细地讲，涉及用于进行灭菌处理或TOC(有机物)分解处理的流体处理用装置。

背景技术：

一直以来，作为用于对水等流体进行处理的流体处理用装置，开发并利用有如下的装置：通过对被处理流体照射紫外线等光，从而进行灭菌处理或TOC(有机物)分解处理(例如，参照专利文献1)。

在专利文献1中，作为流体处理用装置的一种，具有：有底筒状的处理槽，具有用于对由水构成的被处理流体进行处理的处理空间；以及放电空间形成单元，设置为在该处理槽内充满有被处理流体(水)的状态下，成为至少一部分沉浸而与被处理流体接触的状态。该放电空间形成单元以如下状态配置：在由电介质材料构成的长条的放电空间形成管内封入有放电气体，并且以沿着该放电空间形成管的管轴方向延伸的方式配置的长条电极通过由电介质材料构成的盖而被覆盖。

在该流体处理用装置中，处理槽内的被处理流体被利用为电极(外部电极)，对该被处理流体和长条电极供给交流电压，从而在放电空间形成管内产生放电而放射光(紫外线)，通过照射该光来对该被处理流体进行处理。

但是，在以往的流体处理用装置中，成为处理动作中处于高电压的电极(外部电极)露出到外部的状态，或者，即使在没有必要进行处理的情况下，也维持放射光的状态，因此希望得到更高的安全性。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特表2013-516730号公报

技术实现要素：

本发明是根据如上所述的情况而完成的，其目的在于，提供能够得到高安全性的流体处理用装置。

本发明的流体处理用装置具有：

处理室，对具有导电性的被处理流体进行处理；

长条的放电空间形成管，由电介质材料构成，封入有放电气体，并且以与在所述处理室内流动的被处理流体接触的方式设置；

长条电极，以沿着该放电空间形成管的管轴方向延伸的方式配置在所述放电空间形成管的内部；以及

驱动电源，进行供电，所述供电用于在所述放电空间形成管的内部，经由该放电空间形成管中的被处理流体所接触的区域的管壁，使所述长条电极与该被处理流体之间产生放电，

所述流体处理用装置的特征在于，

所述驱动电源的一个端子与所述长条电极电连接，

所述驱动电源的另一个端子与被处理流体电连接而使该被处理流体成为接地电位状态。

在本发明的流体处理用装置中，优选为，

在所述处理室设置有：供给被处理流体的供给口部；以及排出在该处理室中处理的被处理流体的排出口部，

在所述供给口部和所述排出口部中的至少一方设置有用于使被处理流体与所述驱动电源的另一个端子电连接的连接部位。

在本发明的流体处理用装置中，优选为，在所述供给口部和所述排出口部的双方设置有所述连接部位。

在本发明的流体处理用装置中，优选为，所述连接部位通过由金、铂以及它们的合金构成的群组中的至少一种而构成。

在本发明的流体处理用装置中，优选为，所述被处理流体的导电率为40μS/cm以上。

在本发明的流体处理用装置中，在放电空间形成管的内部，在配置于该内部的长条电极与处于接地电位状态的被处理流体之间，经由该放电空间形成管中的被处理流体所接触的区域的管壁产生放电，从而放射光且该光被照射到该被处理流体。因此，在处理动作中，由于配置于放电空间形成管的内部的长条电极处于高电压，因此在该放电空间形成管的外部不存在处于高电压的电极。另外，在处理室的内部，在被处理流体没有与放电空间形成管接触的情况下，在该放电空间形成管的内部不会产生放电。

因此，根据本发明的流体处理用装置，在处理动作中处于高电压的电极不会露出到外部，此外，在处理室的内部不存在被处理流体而无需进行处理时，不会放射光，因此能够得到高安全性。

附图说明

图1是示出本发明的流体处理用装置的结构的一例的说明用剖视图。

图2是示出构成图1的流体处理用装置的放电空间形成单元的说明图。

图3是示出构成图1的流体处理用装置的导入用导管和导出用导管的结构的一例的说明用剖视图。

图4是与放电空间形成管一起示出构成本发明的流体处理用装置的长条电极的其他例的说明图。

具体实施方式

以下，对本发明的实施方式进行说明。

图1是示出本发明的流体处理用装置的结构的一例的说明用剖视图，图2是示出构成图1的流体处理用装置的放电空间形成单元的说明图。

流体处理用装置10是如下的装置：利用电介质阻挡放电得到光(紫外线)，将该光照射到具有导电性的被处理流体，从而对该被处理流体进行光照射处理。

该流体处理用装置10具有：长条的圆管状的处理室形成管11；以封闭该处理室形成管11的两端开口的方式设置的、大致通过圆柱状的帽部件16A、16B划分的处理室S。在该处理室S的内部，以沿着处理室形成管11的中心轴(管轴)延伸且一端侧(图1中的右端侧)插通一个帽部件16A而突出到外部的状态，配设有具有比处理室形成管11的内径小的外径的、长条的圆棒状的放电空间形成单元20。在一个帽部件16A上，在该帽部件16A的径方向中央部形成有具有适合放电空间形成单元20的外径的内径的贯通孔。另外，在另一个帽部件16B上，在内侧面(图1中的左侧面)的中央部形成有具有适合放电空间形成单元20的外径的内径的凹部17，成为放电空间形成单元20的另一端侧(图1中的左端侧)接触到该凹部17的内周面的状态。这些帽部件16A、16B封闭处理室形成管11，并且具有将放电空间形成单元20保持在期望的配置位置的定位保持功能。由此，在处理室S的内部，放电空间形成单元20通过帽部件16A、16B而被支撑固定，在该放电空间形成单元20与处理室形成管11之间形成有被处理流体流动的圆环状的空间(以下，也称为“流体流动空间”)。即，放电空间形成单元20被配置为与在处理室S的内部(流体流动空间)流动的被处理流体接触。

另外，在处理室S的外部设置有进行用于使放电空间形成单元20中产生放电的供电的驱动电源19。

在该图的例子中，在处理室S的内部，在处理室形成管11与放电空间形成单元20之间的帽部件16A、16B的附近位置分别设置有O环18A、18B，从而形成该处理室S的液密构造。

在处理室S中，作为处理室形成管11的材质，能够从针对被处理流体和光(紫外线)等的耐性的观点，例举石英玻璃、耐腐蚀性高的金属以及耐紫外线性能高的树脂等。

另外，帽部件16A、16B由耐腐蚀性和耐紫外线性能高的材料构成。

在该图的例子中，处理室形成管11由石英玻璃构成，帽部件16A、16B由聚四氟乙烯构成。

放电空间形成单元20由具有透光性的作为电介质材料的石英玻璃构成，在一端(图1和图2中的右端)形成有密封部21A，另一端(图1和图2中的左端)被封闭，在该气密的内部具有形成有放电空间的大致圆管状的放电空间形成管21。该放电空间形成管21在处理室S的内部，沿着该处理室形成管11的中心轴延伸而配置，使得放电空间形成管21位于处理室形成管11的中心轴(管轴)上、即放电空间形成管21的中心轴与处理室形成管11的中心轴(管轴)一致。

另外，在放电空间形成管21的内部封入有放电气体，并且通过例如由钨或钼构成的金属棒25构成的长条电极沿着该放电空间形成管21的中心轴延伸而配置，使得位于放电空间形成管21的中心轴(管轴)上、即与放电空间形成管21的中心轴(管轴)一致。

并且，在放电空间形成管21的内部，通过构成长条电极的金属棒25隔着该放电空间形成管21的管壁与流体流动空间相对的整个区域形成放电空间。即，放电空间形成单元20将在处理室S的内部(流体流动空间)与放电空间形成管21接触的状态的被处理流体利用为电极(外部电极)，在该被处理流体与长条电极之间，经由放电空间形成管21中的被处理流体接触的区域的管壁产生电介质阻挡放电，从而放射光(紫外线)。

此处，放电空间形成单元20中的放电空间的全长(放电空间形成单元20的发光长度)例如为100mm～500mm。

关于构成长条电极的金属棒25，该金属棒25的一端(图1中的右端)延伸到放电空间形成管21的密封部21A，与埋设在该密封部21A内的由钼或钼合金构成的金属箔27电连接。另外，在金属箔27上电连接有一端(图1中的右端)从密封部21A向外方突出而延伸的、由钼或钼合金构成的外部引线棒28，该外部引线棒28经由连接部件29而与驱动电极19的一个端子电连接。

在该图的例子中，在构成长条电极的金属棒25的另一端(图2中的左端)上，一体地连续设置有由与该金属棒25连续的环状部31A和直线状部31B构成的支撑部31。该支撑部31被配置为，成为环状部31A在比O环18B更内侧(图1中的右侧)与放电空间形成管21的内表面接触或靠近的状态。即，支撑部31的环状部31A被配置为，成为隔着放电空间形成管21的管壁与处理室S的内部(流体流动空间)的被处理流体相对的状态。该支撑部31具有将长条电极(金属棒25)保持在放电空间中的期望的配置位置的定位保持功能，并且在流体处理用装置10的驱动开始时(放电启动时)还作为辅助电极发挥功能。具体地讲，在设置有支撑部31时，在流体处理用装置10的驱动开始时支撑部31成为所谓的辅助电极，首先，在支撑部31的周围产生放电，之后，在放电空间形成管21的放电空间内的该放电空间形成管21的中心轴方向的整个区域中产生放电。

作为封入到放电空间形成管21的内部的放电气体，可以使用稀有气体，具体地讲，可以使用氙气(Xe)、氩气(Ar)、氪气(Kr)以及它们的混合气体。

另外，根据需要在放电空间形成管21的内部封入氟气(F₂)、氯气(Cl₂)、碘气(I₂)以及溴气(Br₂)等卤素气体。

此处，封入到放电空间形成管21的内部的放电气体以及根据需要封入的卤素气体的种类，根据流体处理用装置10的使用用途等而不同，根据需要在流体处理用装置10中放射的光(紫外线)的波长更适当选择。

另外，图1和图2所示，也可以在放电空间形成管21的内部设置吸气剂33。

吸气剂33只要是至少在放电空间中通过光(紫外线)的作用等而能够吸收从放电空间形成管21等产生的氧气的物质即可，作为吸气剂33的材质，例如能够例举锆(Zr)-铝(Al)合金、锆(Zr)-铁(Fe)合金、锆(Zr)-铝(Al)-铁(Fe)合金等。

在该图的例子中，吸气剂33由比放电空间形成管21的内部中的另一端侧部分(图1中的左端侧部分)、具体地讲支撑部31的环状部31A更设置在外侧的金属块、或金属蒸镀膜构成。

另外，在放电空间形成管21中，也可以在其内表面中的至少包围放电空间的整个区域，设置含有将从通过电介质阻挡放电生成的受激准分子放出的光接受为激发光从而放射紫外线的荧光体的荧光体层。

通过在放电空间形成管21的内表面设置荧光体层，从而能够将从通过电介质阻挡放电生成的受激准分子放出的比较短波长的光转换为长波长的光。

作为构成荧光体层的荧光体，优选为将从通过电介质阻挡放电生成的受激准分子放出的光接受为激发光从而放射波长300nm以下的紫外线的荧光体。

作为荧光体的具体例，例如能够使用镨激活磷酸镧(通过激发放射波长230nm附近的区域的光)、钕激活磷酸镧(通过激发放射波长184nm附近的区域的光)、钕激活磷酸钇(通过激发放射波长190nm附近的光)以及镨激活钇铝硼酸塩(通过激发放射波长250nm附近的光)等。

在荧光体层中，在放电空间形成管21由石英玻璃构成时，荧光体与石英玻璃的粘结性小，因此为了在荧光体层中得到针对放电空间形成管21的高粘结性，优选使用粘接剂。

作为粘接剂，例如可以例举软质玻璃粉末和硬质玻璃粉末等。

在处理室形成管11中，在该处理室形成管11的另一端侧(图1中的左端侧)形成有被处理流体导入口12A，在该被处理流体导入口12A连接有与处理室形成管11的中心轴垂直地延伸的导入用导管13。由该被处理流体导入口12A和导入用导管13构成处理室S的供给口部。另外，在处理室形成管11的一端侧(图1中的右端侧)形成有被处理流体导出口12B，在该被处理流体导出口12B连接有与处理室形成管11的中心轴垂直且向与导入用导管13延伸的方向相反的方向延伸的导出用导管14。由该被处理流体导出口12B和导出用导管14构成处理室S的排出口部。

由此，在处理室S设置有：供给被处理流体的供给口部；以及在该处理室S中处理的被处理流体排出的排出口部。

另外，在处理室S中，供给口部和排出口部设置在处理室形成管11的另一端侧和一端侧，因此从被处理流体导入口12A导入的被处理流体到达被处理流体导出口12B为止的光照射流路长度变长。即，针对被处理流体的光照射时间变长。因此，在流体处理用装置10中得到高光照射处理效果(具体地讲，灭菌效果和分解效果等)。

如图1和图3所示，导入用导管13由通过石英玻璃构成的圆管状的玻璃部13A、13C、14A、14C构成，导入用导管14由具有与该玻璃部13A、13C、14A、14C的内径相同的内径的、由导电材料构成的圆管状的导电部13B、14B构成。在该导入用导管13和导入用导管14的各自中，玻璃部13A、13C、14A、14C与导电部13B、14B被液密地连接。

并且，在导电部13B、14B上经由连接部件38、39电连接有驱动电源19的接地侧、即另一个端子。该驱动电源19的另一个端子为该驱动电源19的接地侧端子。由此，通过导电部13B、14B构成用于使处理室S的内部的被处理流体与驱动电源19的另一个端子电连接的连接部位，成为处理室S的内部的被处理流体经由该连接部位(导电部13B、14B)与驱动电源19的接地侧连接的状态(接地电位状态)。

在该图的例子中，导入用导管13中的导电部13B介于两个玻璃部13A、13C之间，具有比这些玻璃部13A、13C大的外径。在该导电部13B中，连接部件38与该导电部13B的外周面电连接。

另外，导出用导管14中的导电部14B介于两个玻璃部14A、14C之间，具有比这些玻璃部14A、14C大的外径。在该导电部14B中，连接部件39与该导电部14C的外周面电连接。

导电部13B、14B虽然由导电材料构成，但是根据耐电蚀性的观点，优选是从由金、铂以及它们的合金构成的群组中选择的至少一种。

而且，在导电部13B、14B中，当考虑成本(材料费)时，优选在导电部13B、14B的内周面形成有金镀膜、铂镀膜以及金-铂合金镀膜中的任意一个镀膜。

在处理室S中，被处理流体的流量根据流体处理用装置10的使用用途、被处理流体的种类以及被放射的光的波长等而不同，例如为2L/小时。

被处理流体通过成为在处理室S的内部与放电空间形成管21接触的状态从而利用为电极(外部电极)，因此需要具有导电性，具体地讲，导电率优选为40μS/cm以上。

在被处理流体的导电率过小时，在放电空间形成管21的内部不会产生放电，存在不能对被处理流体照射光而进行光照射处理的问题。

作为被处理流体的具体例，例如可以例举水等。

作为驱动电源19，例如可以使用高频交流电源。

在作为驱动电源19使用高频交流电源时，关于来自该驱动电源19的电力供给条件，为了维持稳定的放电，优选为频率为50kHz以上且电压(峰-峰值)为2500V以上。

作为这种结构的流体处理用装置10的规格的一例，放电空间形成单元20的发光长度为150mm，放电空间形成管21的外径为16mm且内径为14mm，构成长条电极的金属棒25的外径为0.8mm。另外，处理室S的全长为200mm，处理室形成管11的内径为21mm且厚度约为2mm，导入用导管13和导出用导管14的导电部13B、14B的内周面由金-铂合金(镀膜)构成。

另外，在放电空间形成管21的内部，作为放电气体以40kPa的压力封入有氙气，从驱动电源19向长条电极与接触到放电空间形成管21的状态的被处理流体之间，以电压(峰-峰值)为3000V的条件供给有交流电力。

在该流体处理用装置10中，驱动电源19成为接通状态，经由供给口部向处理室S的内部供给有被处理流体(具体地讲，例如自来水(导电率为40μS/cm))，被处理流体成为与放电空间形成单元20(放电空间形成管21)接触的状态，从而在放电空间形成单元20中产生放电而放射光(紫外线)。

当具体说明时，来自驱动电源19的电力被供给到构成长条电极的金属棒25，并且经由构成供给口部和排出口部的导电部13B、14B供给到在处理室S的内部流动的被处理流体。并且，在放电空间形成单元20中，经由放电空间形成管21中的被处理流体所接触的区域的管壁，在长条电极与被处理流体之间(放电空间)产生电介质阻挡放电从而形成受激准分子，从该受激准分子放出的光(紫外线)透过放电空间形成管21而放射。此处，在放电空间形成单元20中，电介质阻挡放电在长条电极延伸的方向(图1中的左右方向)上均匀，而且以长条电极为中心形成为放射状。

由此从放电空间形成单元20放射的光，被照射到在处理室S的内部流动的被处理流体而进行光照射处理。并且，在处理室S的内部进行了光照射处理的被处理流体，经由构成排出口部的被处理流体导出口12B和导出用导管14而排出到处理室S的外部。

而且，在流体处理用装置10中，作为用于使放电空间形成管21的内部产生放电的一对电极的一个，利用被处理流体，因此即使是驱动电源19处于接通状态，在被处理流体没有与放电空间形成管21接触的情况下，也不会产生放电。而且，无需通过专用部件设置一对电极中的一个，因此能够减少制造工序(组装工时)和制造成本。此外，不会出现通过设置由专用部件构成的外部电极而产生的弊病，具体地讲不会存在由外部电极与被处理流体接触引起而产生的外部电极的电蚀和氮氧化气体的产生等问题。

另外，导电部13B、14B与驱动电源19的接地侧连接，因此从驱动电源19供给电力的被处理流体成为接地电位状态。因此，在处理动作中，配置于放电空间形成管21的内部的长条电极成为高电压，因此在该放电空间形成管21的外部不存在成为高电压的电极。

因此，根据流体处理用装置10，在处理动作中成为高电压的电极不会露出到外部，并且，当成为在处理室S的内部被处理流体没有与放电空间形成管21接触的状态且无需进行处理时，由于不会放射光，因此能够得到高安全性。

另外，在流体处理用装置10中，在处理室S中的供给口部和排出口部的双方，设置有用于将被处理流体与驱动电源19电连接的连接部位(导电部13B、14B)。因此，不用为了使放电空间形成单元20产生放电而需要高的电压，能够得到更优秀的放电开始性。

此外，在流体处理用装置10中，通过由金、铂以及它们的合金构成的群组中的至少一种构成连接部位(导电部13B、14B)，从而该连接部位具有耐电蚀性。因此，能够防止在连接部位中的与被处理流体的接触面上产生电蚀。其结果，能够长期间进行可靠性高的光照射处理。

这种流体处理用装置10为了例如进行包含在水中的有机物的分解(TOC分解)处理、或者用于消灭包含在水中的菌的所谓的灭菌处理等适当使用。

此处，在为了进行包含在水中的有机物的分解(TOC分解)处理而使用时，流体处理用装置10优选放射在波长190nm上具有中心波长的波长170～200nm的光，或者在用于消灭水中的细菌和真菌的所谓的灭菌处理中使用时，流体处理用装置10优选放射在波长250nm上具有中心波长的波长220～290nm的光。

在本发明中，不限定于上述的实施方式，能够实施各种变更。

例如，基于放电启动性的观点，流体处理用装置优选如图1所示在处理室中的供给口部和排出口部双方设置连接部位，但是也可以仅在供给口部和排出口部中的任意一方设置连接部位。在仅在供给口部和排出口部的任意一方设置有连接部位时，在处理室的内部中，优选将放电空间形成单元靠近设置有连接部位的口部(具体地讲，供给口部或排出口部)来配置。

另外，流体处理用装置也可以是在处理室的内部配置多个放电空间形成单元而成。

长条电极只要在放电空间形成管的内部以沿着该放电空间形成管的管轴方向延伸的方式配置，则可以具有任意形状。作为长条电极的具体例，除了由图2的金属棒构成的棒状电极以外，如图4所示，可以例举金属线材以线圈状卷绕而形成的线圈状电极等。

此处，使用图4对长条电极由线圈状电极构成的情况进行说明。

图4是与放电空间形成管一起示出构成本发明的流体处理用装置的长条电极的其他例的说明图。

图4的放电空间形成单元40除了长条电极由线圈状电极42构成、以及支撑部46的形状不同以外，具有与图2的放电空间形成单元20相同的结构。在该放电空间形成单元40中，放电空间形成管21、金属箔27、外部引线棒28以及吸气剂33，与构成图2的放电空间形成单元20的放电空间形成管21、金属箔27、外部引线棒28以及吸气剂33相同。

在放电空间形成单元40中，长条电极由例如钨线材或钼线材以线圈状卷绕而形成的线圈状电极(以下，也称为“线圈体”。)42构成。

该线圈体42被配置为沿着该放电空间形成管21的中心轴延伸，使得在放电空间形成管21的内部，线圈体42位于放电空间形成管21的中心轴(管轴)、即线圈体42的中心轴(线圈轴)与放电空间形成管21的中心轴(管轴)一致。

并且，在线圈体42中，在该线圈体42的一端(图4中的右端)连接有由钼或钨构成的内部引线棒44，该内部引线棒44的一端(图4中的右端)向放电空间形成管21的密封部21A延伸，与埋设在该密封部21A内的金属箔27连接。此处，构成长条电极的线圈体也可以不通过内部引线棒而直接与金属箔连接。另外，在金属箔27上连接有一端(图4中的右端)从密封部21A向外方突出而延伸的外部引线棒28。

另外，支撑部46由与构成长条电极的线圈体42的另一端(图4中的左端)连续的环状部46A以及线圈状部46B构成，一体地连续设置在线圈体42的另一端。该支撑部46被配置为，成为接触或靠近放电空间形成管21的内表面的状态。即，支撑部46的环状部46A配置为，成为隔着放电空间形成管21的管壁，与处理室的内部(流体流动空间)的被处理流体相对的状态。该支撑部46具有将长条电极(线圈体42)保持在放电空间中的期望的配置位置的定位保持功能，并且在流体处理用装置的驱动开始时(放电启动时)还作为辅助电极来发挥功能。

另外，如图1、图2以及图4所示，在放电空间形成管的内部可以设置吸气剂，也可以不设置吸气剂。另外，如图1、图2以及图4所示可以设置支撑部，也可以不设置支撑部，但是在长条电极的直径小的情况、或者特别长的情况下等，优选设置支撑部。

【实施例】

〔实施例1〕

按照图1，为了进行包含在水中的有机物的分解(TOC分解)处理而制作了流体处理用装置(以下，也称为“液体处理用装置(1)”。)。

所制作的液体处理用装置(1)具有下述的规格。

放电空间形成单元(20)的发光长度：150mm

放电空间形成管(21)；材质：石英玻璃，外径：16mm，内径：14mm

构成长条电极的金属棒(25)；材质：钼，外径：0.8mm

放电气体；种类：氙气(Xe)，封入压：40kPa

处理室(S)的全长：200mm

处理室形成管(11)；材质：石英玻璃，内径：21mm，厚度：约2mm

帽部件(16A、16B)；材质：聚四氟乙烯

驱动电源(19)；种类：高频交流电源，电压(峰-峰值)：3000V

导入用导管(13)；玻璃部(13A、13C)的材质：石英玻璃，导电部(13B)内周面的材质：金-铂合金(镀膜)

导出用导管(14)；玻璃部(14A、14C)的材质：石英玻璃，导电部(14B)内周面的材质：金-铂合金(镀膜)

对于液体处理用装置(1)，当从供给口部以处理室(S)中的被处理流体的流量成为2L/h的供给条件，供给导电率为40μS/cm且TOC浓度为50ppb的自来水时，从放电空间形成单元(20)放射光，该光照射到在处理室(S)的内部流动的自来水。由此，光照射到处理室(S)的内部，当对通过排出口部排出到处理室(S)的外部的自来水的TOC浓度进行了测量时为25ppb。

另外，当对启动电压进行了测量时为2000V。

另外，当开始来自供给口部的自来水的供给，放电空间形成单元(20)成为放射光的状态之后，中止了来自供给口部的自来水的供给时，在从处理室(S)排出所有的自来水之后没有从放电空间形成单元(20)放射光。

〔实施例2〕

制作了除了使实施例1中的导出用导管不具有导电部以外其余都相同的液体处理用装置(以下，也称为“液体处理用装置(2)”。)。

对于液体处理用装置(2)，当与实施例1同样从供给口部以处理室(S)中的被处理流体的流量成为2L/h的供给条件，供给导电率为40μS/cm且TOC浓度为50ppb的自来水时，从放电空间形成单元(20)放射光，该光被照射到在处理室(S)的内部流动的自来水。由此光照射到处理室(S)的内部，当对经由排出口部排出到处理室(S)的外部的自来水的TOC浓度进行了测量时为25ppb。

另外，当对启动电压进行了测量时为2100V。

另外，当开始来自供给口部的自来水的供给，放电空间形成单元(20)成为放射光的状态之后，中止了来自供给口部的自来水的供给时，在从处理室(S)排出所有的自来水之后没有从放电空间形成单元(20)放射光。

从以上的实施例1和实施例2的结果可以确认，根据本发明的流体处理用装置，能够对被处理流体进行光照射处理，而且在处理室的内部存在与放电空间形成管接触的状态的被处理流体时放射光，处理室的内部不存在被处理流体且无需进行处理时不会放射光。

另外，通过在供给口部和排出口部的双方设置用于将被处理流体连接到驱动电源的连接部位，从而能够降低启动电压，由此能够得到优秀的放电启动性。

标号说明

10 流体处理用装置

11 处理室形成管

12A 被处理流体导入口

12B 被处理流体导出口

13 导入用导管

13A、13C 玻璃部

13B 导电部

14 导出用导管

14A、14C 玻璃部

14B 导电部

16A、16B 帽部件

17 凹部

18A、18B O环

19 驱动电源

20 放电空间形成单元

21 放电空间形成管

21A 密封部

25 金属棒

27 金属箔

28 外部引线棒

29 连接部件

31 支撑部

31A 环状部

31B 直线状部

33 吸气剂

38、39 连接部件

40 放电空间形成单元

42 线圈状电极(线圈体)

44 内部引线棒

46 支撑部

46A 环状部

46B 线圈状部

S 处理室。