1.一种激光还原制备多孔石墨烯的方法，其特征在于，包括以下步骤：
(1)以鳞片石墨为原料制备氧化石墨烯，离心得到氧化石墨烯的悬浮液；
(2)将步骤(1)得到的氧化石墨烯悬浮液浓缩至粘稠状，然后滴加过氧化氢溶液；
(3)将步骤(2)得到的混合粘稠液平铺到耐高温或导电基板上，制备成薄膜；
(4)将步骤(3)得到的薄膜用激光器在无氧环境下逐点扫描还原，得到附着在基板上的多孔石墨烯。
2.根据权利要求1中所述的一种激光还原制备多孔石墨烯的方法，其特征在于，步骤(1)所述的氧化石墨烯的制备采取传统的hummers方法或对其改进的两步法，氧化石墨烯的浓度为1-30mg/mL。
3.根据权利要求1中所述的一种激光还原制备多孔石墨烯的方法，其特征在于，步骤(2)中浓缩后的氧化石墨烯浓度为20-50mg/mL。
4.根据权利要求1中所述的一种激光还原制备多孔石墨烯的方法，其特征在于，步骤(2)中滴加的过氧化氢质量浓度为2％-30％，与氧化石墨烯的质量比为(0.1-1):1。
5.根据权利要求1中所述的一种激光还原制备多孔石墨烯的方法，其特征在于，步骤(3)所述的耐高温或导电基板为钛铂板、聚酰亚胺薄膜、导电玻璃ITO、导电玻璃FTO或电路板。
6.根据权利要求1中所述的一种激光还原制备多孔石墨烯的方法，其特征在于，步骤(3)制成的氧化石墨烯薄膜厚度为100-2000nm。
7.根据权利要求1中所述的一种激光还原制备多孔石墨烯的方法，其特征在于，步骤(4)所述的激光逐点扫描的激光强度为100-5000mW。