技术总结
本发明涉及一种激光还原制备多孔石墨烯的方法，属于石墨烯超电容材料技术领域。本发明技术方案包括：在氧化石墨烯的溶液中加不同比例的双氧水，然后在基板上涂抹一层较薄的氧化石墨烯层，等待完全风干之后，形成氧化石墨烯薄膜，用激光逐点扫描按照设定的图案还原氧化石墨烯薄膜，即得到不同图案的具有超电容性能的多孔石墨烯。本发明打破了传统制备多孔石墨烯的水热等方法，同时结合了数字化制备技术，推动了石墨烯在电路板领域的应用发展。
技术研发人员：闵永刚;马寸亮;朱祎祎;冯亚飞;申佳欣
受保护的技术使用者：南京邮电大学
文档号码：201610498703
技术研发日：2016.06.29
技术公布日：2016.12.07