硅衬底高密度LED光源模组及基于共晶焊的硅衬底高密度LED光源模组制备方法与流程

文档序号:11837112阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种硅衬底高密度LED光源模组,其特征在于:包括散热基体,所述散热基体上设有封装区;还包括覆盖在封装区上的硅衬底以及封装在硅衬底上的LED芯片。

2.根据权利要求1所述的光源模组,其特征在于:所述LED芯片为倒装LED芯片。

3.根据权利要求2所述的光源模组,其特征在于:所述硅衬底上设有线路层 ;还包括包括N极焊点及P极焊点;所述线路层的线路与N极焊点及P极焊点导通;所述倒装 LED 芯片其底部的P电极和N电极分别连接在所述P极焊点和所述N极焊点上。

4.根据权利要求3所述的光源模组,其特征在于:所述倒装 LED 芯片其底部的P电极和N电极分别连接在所述P极焊点和所述N极焊点上是指所述倒装 LED 芯片其底部的P电极和N电极分别通过共晶焊连接在所述P极焊点和所述N极焊点上。

5.根据权利要求3或4所述的光源模组,其特征在于:所述P电极和N电极与所述P极焊点和所述N极焊点分别通过导电层连接。

6.根据权利要求5所述的光源模组,其特征在于:所述导电层为导电胶或金属焊料。

7.根据权利要求3或4所述的光源模组,其特征在于:所述散热基体对应倒装LED芯片的位置设有散热盲孔,散热盲孔的开口与大气连通。

8.根据权利要求6所述的光源模组,其特征在于:所述导电区为下沉于散热基体表面的凹槽;所述导电胶为光固化导电胶。

9.一种基于共晶焊的硅衬底高密度LED光源模组制备方法,包括如下工序:

S1. 提供一散热基体,在散热基体上形成下沉的封装区,并在封装区表面形成硅衬底;

S2.在硅衬底上制作出线路层和N极焊点及P极焊点;

S3.提供倒装 LED 芯片,并将其底部的N电极和P电极分别放置在表面涂有导电胶的N极焊点及P极焊点,并进行光固化;

S4.利用共晶焊接设备将所述倒装LED芯片与硅衬底焊接在一起。

10.根据权利要求9所述的方法,其特征在于:所述S5中,焊接时超声波功率为0.6-1.6W,时间为100-500ms,温度为50-250℃。

当前第2页1 2 3 
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1