技术总结
本发明实施例提供一种阵列基板及其制备方法、显示装置，涉及显示技术领域，可提高晶粒尺寸及均匀性。该阵列基板包括衬底、设置在所述衬底上的多晶硅薄膜晶体管，所述多晶硅薄膜晶体管包括有源层，所述有源层包括源极区、漏极区、位于所述源极区和所述漏极区之间的沟道区；所述阵列基板还包括设置在所述衬底与所述有源层之间的金属遮光层；所述金属遮光层在所述衬底上的正投影完全覆盖所述沟道区在所述衬底上的正投影，且所述金属遮光层至少覆盖部分所述源极区和部分所述漏极区。用于阵列基板的制备。
技术研发人员：刘政;李小龙
受保护的技术使用者：京东方科技集团股份有限公司
文档号码：201610847629
技术研发日：2016.09.23
技术公布日：2016.12.07