技术总结
本发明提供一种湿法刻蚀装置，包含刻蚀腔壳体，刻蚀剂喷洒装置，废汽排出装置，晶圆夹持装置，废液回收装置，其特征在于，所述废汽排出装置设置在腔室下方自上而下将废汽排出。根据本发明所描述湿法刻蚀装置在湿法刻蚀过程中可减少汽态反应液、反应产物和/或去离子水在刻蚀腔中的凝结，有效回收刻蚀腔反应中液体，保证刻蚀腔室内气氛干燥，同时减少刻蚀反应中的液体不规则飞溅，减少液体在晶圆表面的残留，从而减少刻蚀晶圆良率的下降。
技术研发人员：王小鹏;金晨
受保护的技术使用者：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司;中芯国际集成电路制造（北京）有限公司
技术研发日：2016.11.29
技术公布日：2018.06.05