Ti掺杂CrO2外延薄膜及其制备方法与流程

文档序号:11434238阅读:来源:国知局

技术特征:

技术总结
本发明提供一种Ti掺杂CrO2外延薄膜及其制备方法,Ti掺杂CrO2外延薄膜的制备方法,包含以下步骤:将75~99.99份质量的CrO3和0.01~25份质量的TiF4混合均匀后装入石英舟,再将所述石英舟放入双温管式炉的低温区,将TiO2单晶基片放入双温区管式炉的高温区;在以100~150mL/min的流速向管式炉内持续通入O2的条件下,将高温区加热至390℃~480℃,开始保温;在高温区开始保温时,对低温区开始加热,将低温区加热至290℃~310℃,再对高温区和低温区保温1.5~3h,即在TiO2单晶基片上制得Ti掺杂CrO2外延薄膜。本发明方法的制备温度区间为390oC~480oC,所制得的Ti掺杂CrO2外延薄膜热稳定性得到了较大提高,和更多的一些高温材料有温度区间的重叠,能和更多的高温材料相互耦合形成多层膜自旋器件。

技术研发人员:卢志红;程明;张振华;熊锐
受保护的技术使用者:武汉科技大学
技术研发日:2017.04.28
技术公布日:2017.08.29
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