用于异质结器件的栅极堆叠体的制作方法

文档序号:17475547发布日期:2019-04-20 06:06阅读:来源:国知局

技术特征:

技术总结
本公开提供一种异质结半导体器件,包括第一有源层和设置在第一有源层上的第二有源层。在第一有源层和第二有源层之间形成有二维电子气层。在第二有源层上设置有夹层栅极电介质层结构。在夹层栅极电介质层结构上方设置有钝化层。栅极延伸穿过钝化层到夹层栅极电介质层结构。第一欧姆接触和第二欧姆接触与第二有源层电连接。第一欧姆接触和第二欧姆接触在横向上间隔开,其中栅极设置在第一欧姆接触和第二欧姆接触之间。

技术研发人员:贾马尔·拉姆达尼
受保护的技术使用者:电力集成公司
技术研发日:2017.11.30
技术公布日:2019.04.19
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