GPP工艺光刻夹具板的制作方法

本实用新型涉及半导体芯片制造技术领域，尤其是一种GPP工艺光刻夹具板。

背景技术：

GPP工艺光刻工序是GPP工艺中必不可少的一道工序，过程控制和质量好坏对DPP工艺产品质量、成本控制起着至关重要的作用。改进操作方法和工装夹具，提高该工序质量合格率和工作效率，为该产品在市场竞争中提供基础保障，是每个GPP工艺产品生产单位都乐意为之的事情。电路生产专用光刻机吸片盘是固定在光刻机上的，吸片和吸版共用同一管路中的真空吸力，硅片凹凸不平整（GPP工艺的硅片均有此特性）的情况下容易造成硅片与光刻版之间间隙不均匀从而导致曝光不均匀，影响了光刻质量；对位过程中显微镜倍数大视场小，“十”字方向对准慢，影响工作效率；硅片边缘与光刻版因版面图形遮挡视线不清楚经常发生错行因而返工甚至错行图形报废；曝光后光刻版与硅片之间因真空吸附，充气时间长，取片困难，容易破损，工作效率低，损耗大。

技术实现要素：

为了克服现有的上述的不足，本实用新型提供了一种GPP工艺光刻夹具板，采用上下瓣两部分结合的结构来解决问题。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：一种GPP工艺光刻夹具板，包括吸片盘、吸盘盖和真空室，吸盘盖固定设置在吸片盘下方，吸片盘底部凹槽和吸盘盖之间形成的密闭空间为真空室，吸片盘上开设有若干用于释放吸力的吸力孔，吸盘盖上开设有用于与真空泵连接的进出气孔，通过吸盘上的吸力孔对硅片进行均匀吸附。

进一步的，包括吸片盘上的吸力孔以吸片盘圆心为中心呈米字型分布，确保硅片均匀接受真空吸力。

进一步的，包括吸片盘边缘周向均布有三个用于将吸片盘和吸盘盖快速分离的活动顶片柱，保证真空关闭后硅片容易取出。

进一步的，包括活动顶片柱通过其底部套设的弹簧与吸片盘固定连接，实现弹性活动连接。

进一步的，包括吸片盘外圈设置有密封槽，吸片盘内圈靠近真空室的一侧设置有真空密封圈，保证硅片与光刻版之间的真空度满足工艺要求。

本实用新型的有益效果是，通过由真空室提供吸力的吸力孔对硅片进行均匀吸附，从而达到平整的效果；通过由弹簧支撑的支点，保证真空关闭后硅片与光刻版之间迅速充气分离，硅片易取下不破损；密封槽和真空密封圈的配合使用，能保证硅片与光刻版之间的真空度满足工艺要求。

附图说明

下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。

图1是本实用新型的吸片盘示意图；

图2是本实用新型的吸片盘剖视图；

图3是本实用新型的吸盘盖示意图；

图4是本实用新型的吸盘盖剖视图；

图5是本实用新型的活动顶片柱示意图。

图中1.吸片盘，2.吸盘盖，3.吸力孔，4.进出气孔，5.活动顶片柱，6.密封槽，7.真空密封圈。

具体实施方式

如图1~4所示，一种GPP工艺光刻夹具板，包括吸片盘1、吸盘盖2和真空室，吸盘盖2固定设置在吸片盘1下方，吸片盘1底部凹槽和吸盘盖2之间形成的密闭空间为真空室，吸片盘1上开设有若干用于释放吸力的吸力孔3，吸盘盖2上开设有用于与真空泵连接的进出气孔4，吸片盘1上的吸力孔3以吸片盘1圆心为中心呈米字型分布，吸片盘1边缘周向均布有三个用于将吸片盘1和吸盘盖2快速分离的活动顶片柱5，吸片盘1外圈设置有密封槽6，吸片盘1内圈靠近真空室的一侧设置有真空密封圈7。吸片盘1上呈米字型排列的吸力孔3，其排列长度为硅片直径80％，确保硅片均匀接受真空吸力，从而达到平整的效果；吸片盘1外圈设置密封槽6，内置真空密封圈7，能够保证硅片与光刻版之间真空度满足工艺要求；吸盘盖2中心设置一进出气孔与真空泵连接，并与吸片盘1密封结合。

如图5所示，活动顶片柱5通过其底部套设的弹簧与吸片盘1固定连接，能保证真空关闭后硅片与光刻版之间迅速充气分离，硅片轻易取下而不破损。

使用时，取片放在吸片盘1正中间，目视硅片图形X方向水平位置，启动真空泵进行真空吸气，然后覆盖光刻版，对位符合要求后脚踏真空吸气开关吸牢光刻版，进行曝光。通过脚踏方式启闭真空吸气开关，使得操作灵活方便。

以上说明对本实用新型而言只是说明性的，而非限制性的，本领域普通技术人员理解，在不脱离所附权利要求所限定的精神和范围的情况下，可做出许多修改、变化或等效，但都将落入本实用新型的保护范围内。