基片处理装置的制作方法

技术总结
本发明提供一种能够维持基片的处理能力并减小基片处理装置的设置面积基片处理装置。本发明的基片处理装置，其包括：在真空气氛下处理基片的基片处理部；与上述基片处理部连接的、在大气气氛下运送上述基片的基片运送部；和配置在上述基片处理部与上述基片运送部之间的、能够在大气气氛与真空气氛切换的负载锁定部，上述负载锁定部的至少一部分被配置在上述基片运送部的内部。

技术研发人员：坂田一成
受保护的技术使用者：东京毅力科创株式会社
技术研发日：2018.03.30
技术公布日：2018.10.23