技术特征：
技术总结
本发明涉及一种透明导电膜及其制备方法，其中，透明导电膜，包括透明基片以及依次层叠设置在透明基层上的介质层、种子层、功能层和保护层，所述功能层为金属导电层，其厚度为2‑15nm。本发明通过采用金属导电层形成功能层，并将功能层的厚度设置在2‑15nm的范围内，使得透明导电膜的面电阻在10Ω/㎡以下，且透明导电膜的厚度并不会过厚，使得该透明导电膜可以应用于大屏幕触摸屏上。
技术研发人员：张志清;刘荣隆
受保护的技术使用者：明达光电（厦门）有限公司
技术研发日：2018.11.30
技术公布日：2019.03.12