氢化非晶硅光学薄膜生产用升降平台的制作方法

本实用新型涉及薄膜生产技术领域，尤其涉及一种氢化非晶硅光学薄膜生产用升降平台。

背景技术：

氢化非晶硅薄膜是一种重要的半导体材料，由于其具有优越的光电特性而被广泛的应用于各类电子器件上。然而氢化非晶硅薄膜具有值得研究的特点，不仅体现在非晶网路中原子的随机排列以及氢原子成键的多样性和多边形，而且也体现在薄膜结构对工艺条件的敏感性，以及在不同条件下产生的各种微结构。氢化非晶硅薄膜结构复杂和多变的特点使得对其结构的理解、特性的预测以及工艺条件的稳定性等问题的解决出现诸多难点。在对其进行生产过程中，会采用旋转平台对膜层进行承载，保证反应过程中，膜层的不断旋转，使反应的原子或原子团能够均匀的排列在膜层上，使薄膜成型厚度均匀。现有技术中，对旋转平台的制备，多采用固定旋转式平台，在起辉溅射过程中，需要改变溅射气体和反应气体的流量对原子的反应效果进行控制，操作较复杂，且不容易随时改变溅射气体和反应气体的流量，从而降低反应效果，影响反应质量。

综上可知，现有技术在实际使用上显然存在不便与缺陷，所以有必要加以改进。

技术实现要素：

针对上述的缺陷，本实用新型的目的在于提供一种氢化非晶硅光学薄膜生产用升降平台，其可以有效缩短操作时间，从而提高工作效率，保证工作质量。

为了实现上述目的，本实用新型提供一种氢化非晶硅光学薄膜生产用升降平台，包括旋转平台和升降装置，所述旋转平台通过移动板连接升降装置；所述升降装置包括旋转柱、移动块和限位座，所述旋转柱上设有限位孔，所述限位孔呈螺旋状，所述移动块通过限位柱连接旋转柱，且所述限位柱位于限位孔内，所述限位座上设有限位槽，且所述移动块位于限位槽内，所述移动块通过连接杆连接移动板，且所述连接杆穿过限位座，两端分别连接移动板和移动块。所述升降装置上安装有防倒转装置，所述防倒转装置包括锥齿轮、固定块和限位件，所述限位件包括第一限位件和第二限位件，且第一限位件和第二限位件一端活动连接固定块，另一端位于锥齿轮的齿轮空间内，所述第一限位件通过弹性件连接第二限位件，且所述第一限位件和第二限位件上均设有拉线。

根据本实用新型的氢化非晶硅光学薄膜生产用升降平台，所述旋转柱两端套接有固定座，且所述固定座固定连接升降装置壳体。

根据本实用新型的氢化非晶硅光学薄膜生产用升降平台，所述旋转柱通过旋转齿轮连接锥齿轮。

根据本实用新型的氢化非晶硅光学薄膜生产用升降平台，所述第一限位件一端活动连接固定块，另一端弯折成型，且弯折角度为90°。

根据本实用新型的氢化非晶硅光学薄膜生产用升降平台，所述第二限位件一端活动连接固定块，另一端具有弧度。

根据本实用新型的氢化非晶硅光学薄膜生产用升降平台，所述第一限位件和第二限位件上均安装有固定柱，所述弹性件两端卡接固定柱。

根据本实用新型的氢化非晶硅光学薄膜生产用升降平台，所述旋转平台固定连接动力件，所述动力件上安装有外壳，且所述移动板固定连接外壳。

根据本实用新型的氢化非晶硅光学薄膜生产用升降平台，所述限位孔旋转位于旋转柱上，且呈镂空设置。

根据本实用新型的氢化非晶硅光学薄膜生产用升降平台，所述限位柱直径不大于限位孔宽度，且所述限位柱长度大于旋转柱直径长度。

根据本实用新型的氢化非晶硅光学薄膜生产用升降平台，所述限位槽包括第一限位槽和第二限位槽，所述移动块位于第一限位槽内，所述连接杆位于第二限位槽内。

本实用新型提供了一种氢化非晶硅光学薄膜生产用升降平台，包括旋转平台和升降装置，所述旋转平台通过移动板连接升降装置，通过升降装置对旋转平台的位置进行调节，从而使旋转平台与反应靶之间的距离产生变化，进而对反应效率和反应时间进行控制，降低操作时间，提高工作效率；所述升降装置包括旋转柱、移动块和限位座，所述旋转柱上设有限位孔，所述限位孔呈螺旋状，所述移动块通过限位柱连接旋转柱，且所述限位柱位于限位孔内，所述限位座上设有限位槽，且所述移动块位于限位槽内，所述移动块通过连接杆连接移动板，且所述连接杆穿过限位座，两端分别连接移动板和移动块，通过旋转柱的旋转，带动位于限位孔内的限位柱实现移动，通过限位柱带动移动块和与移动块连接的连接板实现移动，从而对旋转平台的位置进行调节，保证其能够根据不同要求对反应时间和反应效率进行控制，降低了操作时间，提高了工作效率。所述升降装置上安装有防倒转装置，所述防倒转装置包括锥齿轮、固定块和限位件，所述限位件包括第一限位件和第二限位件，且第一限位件和第二限位件一端活动连接固定块，另一端位于锥齿轮的齿轮空间内，所述第一限位件通过弹性件连接第二限位件，且所述第一限位件和第二限位件上均设有拉线，通过防倒转装置对旋转柱的旋转方向进行控制，防止其出现倒转现象，保证旋转柱旋转方向的同时，能够增强对旋转柱的保护，延长其使用寿命，降低制造成本。本实用新型的有益效果：通过升降装置对旋转平台的位置进行调节，从而使旋转平台与反应靶之间的距离发生改变，能够根据不同的需求对反应时间和反应效率进行有效控制，从而提高工作效率。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图；

图2是本实用新型中升降装置的结构示意图；

图3是本实用新型中旋转柱的结构示意图；

图4是本实用新型中移动块的结构示意图；

图5是本实用新型中限位座的结构示意图；

图6是本实用新型中防倒转装置的结构示意图；

在图中，1-旋转平台，11-外壳，2-升降装置，21-旋转柱，211-限位孔，22-移动块，221-限位柱，23-限位座，231-第一限位槽，232-第二限位槽，24-固定座，3-移动板，4-反应靶，51-锥齿轮，52-固定块，531-第一限位件，532-第二限位件，54-弹性件，541-固定柱，55-拉线，56-旋转手柄。

具体实施方式

为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明，应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。

参见图1，本实用新型提供了一种氢化非晶硅光学薄膜生产用升降平台，包括旋转平台1和升降装置2，所述旋转平台1通过移动板3连接升降装置2，通过升降装置2对旋转平台1的位置进行调节，从而使旋转平台1与反应靶4之间的距离产生变化，进而对反应效率和反应时间进行控制，降低操作时间，提高工作效率；所述升降装置2包括旋转柱21、移动块22和限位座23，所述旋转柱21上设有限位孔211，所述限位孔211呈螺旋状，所述移动块22通过限位柱221连接旋转柱21，且所述限位柱221位于限位孔211内，所述限位座23上设有限位槽，且所述移动块22位于限位槽内，所述移动块22通过连接杆连接移动板3，且所述连接杆穿过限位座23，两端分别连接移动板3和移动块22，通过旋转柱21的旋转，带动位于限位孔211内的限位柱221实现移动，通过限位柱221带动移动块22和与移动块22连接的连接板3实现移动，从而对旋转平台1的位置进行调节，保证其能够根据不同要求对反应时间和反应效率进行控制，降低了操作时间，提高了工作效率。所述升降装置上安装有防倒转装置，所述防倒转装置包括锥齿轮51、固定块52和限位件，所述限位件包括第一限位件531和第二限位件532，且第一限位件531和第二限位件532一端活动连接固定块52，另一端位于锥齿轮51的齿轮空间内，所述第一限位件531通过弹性件54连接第二限位件532，且所述第一限位件531和第二限位件532上均设有拉线55，通过防倒转装置对旋转柱21的旋转方向进行控制，防止其出现倒转现象，保证旋转柱21旋转方向的同时，能够增强对旋转柱21的保护，延长其使用寿命，降低制造成本。

优选的是，本实用新型的旋转平台1固定连接动力件，所述动力件上安装有外壳11，且所述移动板3固定连接外壳11，通过动力件对旋转平台1的旋转提供动力，使其能够带动位于旋转平台1上的膜层实现旋转，进而保证溅射的原子或原子团能够有效的溅射到膜层上，保证膜层的成形厚度均匀。

另外，本实用新型的限位孔211旋转位于旋转柱21上，且呈镂空设置，通过镂空设置的限位孔211，对位于限位孔211内的限位柱221进行导向移动，从而使其能够对移动块22的位置进行移动，保证对旋转平台1位置的调节。

进一步的，本实用新型的限位柱221直径不大于限位孔211宽度，且所述限位柱221长度大于旋转柱21直径长度，通过限位柱221在限位孔211内实现移动，进而带动连接板3实现移动，保证对旋转平台1位置的调节，提高工作效率的同时保证工作质量。

更好的，本实用新型的限位槽包括第一限位槽231和第二限位槽232，所述移动块22位于第一限位槽231内，所述连接杆位于第二限位槽232内，通过第一限位槽231对移动块22的移动位置和移动方向进行限定，保证其能够实现有效移动，同时利用第二限位槽232对连接杆的移动方向进行限定，增强连接杆的移动稳定性。

本实用新型的有益效果：将膜层放置在旋转平台1上，通过旋转平台1对膜层进行旋转，使其能够均匀吸收起辉溅射反应的原子和原子团，从而使形成的膜层厚度一致。当需要对膜层厚度进行调节时，可以通过升降装置2对旋转平台1的位置进行调节，使其与反应靶4之间的距离发生改变。当膜层需要比较薄时，扩大旋转平台1与反应靶4之间的距离，当膜层需要比较厚时，缩小旋转平台1与反应靶4之间的距离。如图2～5所示，采用升降装置2对旋转平台1的位置进行调节时，旋转柱21通过旋转齿轮连接锥齿轮51，通过锥齿轮51的旋转带动旋转柱21实现旋转。旋转柱21在旋转过程中，由于限位孔211呈螺旋状，因此会通过旋转柱21的旋转带动位于限位孔211内的限位柱221实现移动，限位柱221的移动带动移动块22实现升降，而移动块22通过连接杆连接移动板3，移动板3固定连接动力件外壳11，通过移动块22的移动带动移动板3和动力件外壳11实现升降，从而保证对旋转平台1的升降。当旋转柱21逆时针旋转时，会带动限位柱221实现上升，从而带动旋转平台1实现上升；当旋转柱21顺时针旋转时，会带动限位柱221实现下降，从而带动旋转平台1实现下降。在升降过程中，通入的反应气体体积相同，旋转平台1与升降装置2之间的距离变大时，膜层的厚度变薄；旋转平台1与升降装置2之间的距离变小时，膜层的厚度变厚。所述旋转柱21两端套接有固定座24，且所述固定座24固定连接升降装置2壳体，通过固定座24增强旋转柱21在工作过程中的稳定性，从而保证能够对旋转平台1的正常升降，提高工作效率。

在旋转柱21旋转过程中，如果直接通过电机连接旋转柱21，由于电机的不稳定性，会使旋转柱21在旋转过程中出现倒转现象，影响升降平台1与反应靶4之间的距离，从而对膜层成型效果产生影响，对此，该申请中，通过旋转齿轮组将旋转柱21和防倒转装置的锥齿轮51相连接，通过防倒转装置对旋转柱21的旋转方向进行控制。锥齿轮51的旋转可以通过电机带动，也可以通过旋转手柄56对其进行手摇，根据实际情况对锥齿轮51的旋转动力进行选择，该申请中选择利用旋转手柄56对其旋转提供动力。锥齿轮51顺时针旋转，通过旋转齿轮组对旋转方向进行改变，使旋转柱21实现逆时针旋转，保证使旋转平台1实现上升，利用旋转齿轮组对旋转方向进行改变，在机械行业中属于常用手段，在此不详细描述其组成结构，选用最常见的齿轮组合。如图6所示，由于第一限位件531和第二限位件532上均安装有固定柱541，所述弹性件54两端卡接固定柱541，因此第一限位件531和第二限位件532末端在弹性件54的作用下始终位于锥齿轮51的齿轮空间内，第一限位件531一端活动连接固定块52，另一端弯折成型，且弯折角度为90°，第二限位件532一端活动连接固定块52，另一端具有弧度，因此会顶动锥齿轮51，防止其出现倒转。当对旋转平台1实现上升，且反应结束后，只需拉动位于第一限位件531和第二限位件532上的拉线55，使第一限位件531和第二限位件532末端脱离锥齿轮51的齿轮空间，锥齿轮51即可在旋转平台1的重力作用下实现倒转，从而使旋转平台1回归至初始状态。为了增强旋转平台1的下降速度和下降效果，可以在锥齿轮51和旋转柱21之间安装一扭力弹簧，通过扭力弹簧对锥齿轮51的复位提供一定的动力，增强锥齿轮51的复位。

综上所述，本实用新型提供了一种氢化非晶硅光学薄膜生产用升降平台，包括旋转平台和升降装置，所述旋转平台通过移动板连接升降装置，通过升降装置对旋转平台的位置进行调节，从而使旋转平台与反应靶之间的距离产生变化，进而对反应效率和反应时间进行控制，降低操作时间，提高工作效率；所述升降装置包括旋转柱、移动块和限位座，所述旋转柱上设有限位孔，所述限位孔呈螺旋状，所述移动块通过限位柱连接旋转柱，且所述限位柱位于限位孔内，所述限位座上设有限位槽，且所述移动块位于限位槽内，所述移动块通过连接杆连接移动板，且所述连接杆穿过限位座，两端分别连接移动板和移动块，通过旋转柱的旋转，带动位于限位孔内的限位柱实现移动，通过限位柱带动移动块和与移动块连接的连接板实现移动，从而对旋转平台的位置进行调节，保证其能够根据不同要求对反应时间和反应效率进行控制，降低了操作时间，提高了工作效率。所述升降装置上安装有防倒转装置，所述防倒转装置包括锥齿轮、固定块和限位件，所述限位件包括第一限位件和第二限位件，且第一限位件和第二限位件一端活动连接固定块，另一端位于锥齿轮的齿轮空间内，所述第一限位件通过弹性件连接第二限位件，且所述第一限位件和第二限位件上均设有拉线，通过防倒转装置对旋转柱的旋转方向进行控制，防止其出现倒转现象，保证旋转柱旋转方向的同时，能够增强对旋转柱的保护，延长其使用寿命，降低制造成本。本实用新型的有益效果：通过升降装置对旋转平台的位置进行调节，从而使旋转平台与反应靶之间的距离发生改变，能够根据不同的需求对反应时间和反应效率进行有效控制，从而提高工作效率

当然，本实用新型还可有其它多种实施例，在不背离本实用新型精神及其实质的情况下，熟悉本领域的技术人员当可根据本实用新型作出各种相应的改变和变形，但这些相应的改变和变形都应属于本实用新型所附的权利要求的保护范围。