柔性基板及其制作方法与显示面板与流程

本申请涉及显示领域，特别涉及一种柔性基板及其制作方法与显示面板。

背景技术：

由于具有轻薄、可饶曲、不易碎裂、廉价等特点，柔性显示技术受到各电子产品的广泛关注，这也使得柔性技术成为显示技术的一个重要发展方向。当前，柔性显示屏的主要技术方向包括柔性oled、柔性lcd、柔性epd、microled等，而其中柔性基板/盖板所涉及的材料技术和制程技术是其中的关键。现有的技术中聚酰亚胺(pi)材料由于有稳定的耐化学性、耐辐射性、耐热性和良好的介电性能是柔性基板的主要选择。

对于有机发光器件来说，存在内量子效益和外量子效率ηext两个指标，一般二者存在如下关系式：ηext＝χφint。

χ为二者的系数，对于有机发光器件来说，内量子效益取决于材料本身的发光效率，而外量子效率则是考虑整个器件的出光效率，χ通过取决于各膜层的折射率，即表征的是发射光在器件中受到反射而损失的比率；对于有机发光器件，光的出射主要可分为三类：1)直接出射至空气中，2)在基板层发生内反射，3)在ito/有机层发生反射；根据计算，三个模式比例为0.19、0.36、0.46；因此，降低光在ito/有机层的反射，是提升有机发光器件外量子效率的关键。

如图1所示通常ito层12的折射率为1.94，有机层11折射率为1.74，而一般基板13的折射率为1.52；由反射定律可知，当两个界面的折射率相差越大时，越容易发生全反射。因此我们需要合理设置多层膜结构，来达到减反增透的效果。目前常用的方法是在基板上使用cvd或者pvd的方法沉积无机物或者有机物、或者在基板上做微结构等，这些类方法，大部分是改善的是基板内反射效应，且制程工艺复杂、成本高，易影响器件的特性。

本申请提出一种新的方法，不需要复杂工艺，即可获得高效益的减反增透效果。本申请的方法为：通过将柔性pi聚合成膜时，控制聚合物中的杂原子比例，控制其折射率，通过连续成膜工艺，可获得多层的具有折射率梯度的柔性pi基板，使得柔性基板本身具有降低反射的功能。

技术实现要素：

为了解决上述技术问题，本申请的目的在于，提供一种柔性基板，包括：一玻璃衬底；一第一柔性基底层，设置于所述玻璃衬底上；一第二柔性基底层，设置于所述第一柔性基底层上；以及一第三柔性基板层，设置于所述第二柔性基底层上。

本申请的目的及解决其技术问题是采用以下技术方案来实现的。

在本申请的一实施例中，所述第一柔性基底层为第一聚酰亚胺层，所述第二柔性基底层为第二聚酰亚胺层，且所述第三柔性基底层为第三聚酰亚胺层。

在本申请的一实施例中，所述第一柔性基底层的折射率大于1.52。

在本申请的一实施例中，所述第一柔性基底层的厚度为1-100um，优选的厚度为1-10um。

在本申请的一实施例中，所述第二柔性基底层的厚度为1-100um，优选的厚度为1-10um。

在本申请的一实施例中，所述第三柔性基底层的厚度为1-100um，优选的厚度为1-10um。

本申请的目的及解决其技术问题还可采用以下技术措施进一步实现。

本申请的另一目的为提供一种柔性基板的制作方法，包括：所述柔性基板采用含硫基的二胺单体与二酸酐单体，溶于溶剂n-甲基吡咯烷酮，固含量为5～30％，在惰性气体如氮气的保护下，高温聚合发生聚酰胺化成膜，固化温度范围为：200～400℃,并控制含硫基的二胺单体和二酸酐单体的摩尔比例，可获得不同的折射率；其中所述柔性基板包括：一玻璃衬底；一第一柔性基底层，设置于所述玻璃衬底上；一第二柔性基底层，设置于所述第一柔性基底层上；以及一第三柔性基板层，设置于所述第二柔性基底层上。

在本申请的一实施例中，所述方法，透过2,5-双(4-氨基苯硫基)噻吩作为二胺以及4,4’双(3，4二羧基苯硫基)二苯硫醚二酐作为二酐，溶解于n-甲基吡咯烷酮中，二者摩尔比为1：1，控制固含量在15％，将溶液涂覆于玻璃衬底基板表面，并在氮气保护下，于300℃聚合成膜，获得第一聚酰亚胺层，其折射率为1.75。

在本申请的一实施例中，所述方法，调整二胺与二酸的摩尔比，降低2,5-双(4-氨基苯硫基)噻吩比例，可获得低于1.75折射率，比例控制在(0.5～1)：1之间，获得第二聚酰亚胺层；之后依次成膜，从而获得折射率梯度的柔性基板。

本申请的又一目的为提供一种显示面板，包括：一第一柔性基板；一金属阴极,设置于所述第一柔性基板上；一发光单元,设置于所述金属阴极上；一有机层,设置于所述发光单元及所述金属阴极上；一透明电极,设置于所述有机层上；以及一第二柔性基板,设置于所述透明电极上。

本申请提供了降低反射的显示用柔性基板,并在聚合物中引入摩尔折射度与分子体积比值大的原子或基团可以提高聚合物的折射率，如杂原子s、卤素原子、芳环等；通过控制每层pi聚合物中s原子核芳环的比例，获得具有折射率梯度的基板，从而减少ito界面的光反射，增加出光效率,且通过对柔性基板生产制程的改进，达到降低反射的效果。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面对实施例中所需要使用的附图作简单的介绍。下面描述中的附图仅为本申请的部分实施例，对于本领域普通技术人员而言，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获取其他的附图。

图1为现有技术的柔性基板结构示意图；

图2为本申请一实施例的柔性基板结构示意图；

图3为本申请一实施例的显示面板结构示意图；

图4为本申请一实施例的柔性基板的制作方法流程图。

具体实施方式

请参照附图中的图式，其中相同的组件符号代表相同的组件。以下的说明是基于所例示的本申请具体实施例，其不应被视为限制本申请未在此详述的其它具体实施例。

以下各实施例的说明是参考附加的图式，用以例示本申请可用以实施的特定实施例。本申请所提到的方向用语，例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「内」、「外」、「侧面」等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本申请，而非用以限制本申请。

在附图中，为了清晰起见，夸大了层、膜、面板、区域等的厚度。在附图中，为了理解和便于描述，夸大了一些层和区域的厚度。将理解的是，当例如层、膜、区域或基底的组件被称作“在”另一组件“上”时，所述组件可以直接在所述另一组件上，或者也可以存在中间组件。

附图和说明被认为在本质上是示出性的，而不是限制性的。在图中，结构相似的单元是以相同标号表示。另外，为了理解和便于描述，附图中示出的每个组件的尺寸和厚度是任意示出的，但是本申请不限于此。

另外，在说明书中，除非明确地描述为相反的，否则词语“包括”将被理解为意指包括所述组件，但是不排除任何其它组件。此外，在说明书中，“在......上”意指位于目标组件上方或者下方，而不意指必须位于基于重力方向的顶部上。

为更进一步阐述本申请为达成预定发明目的所采取的技术手段及功效，以下结合附图及具体的实施例，对依据本申请提出的一种柔性基板及其制作方法与显示面板，其具体实施方式、结构、特征及其功效，详细说明如后。

图2为本申请一实施例的柔性基板结构示意图,请参照图2,在本申请的一实施例中，一种柔性基板2，包括：一玻璃衬底100；一第一柔性基底层210，设置于所述玻璃衬底100上；一第二柔性基底层220，设置于所述第一柔性基底层210上；以及一第三柔性基板层230，设置于所述第二柔性基底层220上。

在本申请的一实施例中，所述第一柔性基底层210为第一聚酰亚胺层，所述第二柔性基底层220为第二聚酰亚胺层，且所述第三柔性基底层230为第三聚酰亚胺层。

在本申请的一实施例中，所述第一柔性基底层210的折射率大于1.52。

在本申请的一实施例中，所述第一柔性基底层210的厚度为1-100um，优选的厚度为1-10um。

在本申请的一实施例中，所述第二柔性基底层220的厚度为1-100um，优选的厚度为1-10um。

在本申请的一实施例中，所述第三柔性基底层230的厚度为1-100um，优选的厚度为1-10um。

图3为本申请一实施例的显示面板结构示意图。请参照图3,在本申请的一实施例中，一种显示面板1，包括：一第一柔性基板3；一金属阴极10,设置于所述第一柔性基板3上；一发光单元13,设置于所述金属阴极10上；一有机层11,设置于所述发光单元13及所述金属阴极10；一透明电极12,设置于所述有机层11上；以及一第二柔性基板4,设置于所述透明电极12上。

图4为本申请一实施例的柔性基板的制作方法流程图。请参照图2及图4,在本申请的一实施例中，一种柔性基板2的制作方法，包括：所述柔性基板2采用含硫基的二胺单体与二酸酐单体，溶于溶剂n-甲基吡咯烷酮，固含量为5～30％，在惰性气体如氮气的保护下，高温聚合发生聚酰胺化成膜，固化温度范围为：200～400℃,并控制含硫基的二胺单体和二酸酐单体的摩尔比例，可获得不同的折射率；其中所述柔性基板2包括：一玻璃衬底100；一第一柔性基底层210，设置于所述玻璃衬底100上；一第二柔性基底层220，设置于所述第一柔性基底层210上；以及一第三柔性基板层230，设置于所述第二柔性基底层220上。

请参照图2及图4,在本申请的一实施例中，所述方法,透过2,5-双(4-氨基苯硫基)噻吩作为二胺以及4,4’双(3，4二羧基苯硫基)二苯硫醚二酐作为二酐，溶解于n-甲基吡咯烷酮中，二者摩尔比为1：1，控制固含量在15％，将溶液涂覆于玻璃衬底基板表面，并在氮气保护下，于300℃聚合成膜，获得第一聚酰亚胺层210，其折射率为1.75。

请参照图2及图4,在本申请的一实施例中，所述方法,调整二胺与二酸的摩尔比，降低2,5-双(4-氨基苯硫基)噻吩比例，可获得低于1.75折射率，比例控制在(0.5～1)：1之间，获得第二聚酰亚胺层220；之后依次成膜，从而获得折射率梯度的柔性基板2。

请参考图4，在流程s410中，透过2,5-双(4-氨基苯硫基)噻吩作为二胺以及4,4’双(3，4二羧基苯硫基)二苯硫醚二酐作为二酐，溶解于n-甲基吡咯烷酮中，二者摩尔比为1：1，控制固含量在15％，将溶液涂覆于玻璃衬底基板表面，并在氮气保护下，于300℃聚合成膜，获得第一聚酰亚胺层，其折射率为1.75。

请参考图4，在流程s420中，调整二胺与二酸的摩尔比，降低2,5-双(4-氨基苯硫基)噻吩比例，可获得低于1.75折射率，比例控制在(0.5～1)：1之间，获得第二聚酰亚胺层。

请参考图4，在流程s430中，之后依次成膜，从而获得折射率梯度的柔性基板。

本申请提供了降低反射的显示用柔性基板,并在聚合物中引入摩尔折射度与分子体积比值大的原子或基团可以提高聚合物的折射率，如杂原子s、卤素原子、芳环等；通过控制每层pi聚合物中s原子核芳环的比例，获得具有折射率梯度的基板，从而减少ito界面的光反射，增加出光效率,且通过对柔性基板生产制程的改进，达到降低反射的效果。

以上所述，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技术方案和技术构思作出其他各种相应的改变和变形，而所有这些改变和变形都应属于本发明后附的权利要求的保护范围。