技术特征：
1.一种有机发光显示基板的制备方法，其特征在于，所述有机发光显示基板包括显示区和位于显示区的开孔区，所述方法，包括：在支撑基板上形成柔性衬底；所述支撑基板对所述柔性衬底进行支撑；所述柔性衬底上包括开孔，所述开孔位于所述开孔区；在所述柔性衬底远离所述支撑基板的一侧形成有机发光器件层，所述有机发光器件层位于位于所述显示区；在所述有机发光器件层远离所述柔性衬底的一侧形成封装层，所述封装层覆盖所述有机发光器件层与所述开孔；所述封装层包括第一待刻蚀部，所述第一待刻蚀部位于所述开孔中，且所述第一待刻蚀部的延伸方向与所述开孔的侧壁相交；对所述第一待刻蚀部进行刻蚀，去除所述第一待刻蚀部；将所述支撑基板从所述柔性衬底上剥离，得到所述有机发光显示基板。2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述开孔为盲孔；所述开孔的底面与所述柔性衬底靠近所述支撑基板的表面之间的距离大于零；所述第一待刻蚀部位于所述开孔的底面上；所述柔性衬底包括第二待刻蚀部，所述第二待刻蚀部位于所述开孔的底面与所述支撑基板之间；所述第一待刻蚀部在所述支撑基板上的正投影与所述第二待刻蚀部在所述支撑基板上的正投影重合；所述对所述第一待刻蚀部进行刻蚀，去除所述第一待刻蚀部之后，还包括：对所述第二待刻蚀部进行刻蚀，去除所述第二待刻蚀部。3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述柔性衬底包括第一有机层、第一阻挡层、第二有机层与第二阻挡层；所述第一有机层位于所述支撑基板上，所述第一阻挡层位于所述第一有机层远离所述支撑基板的一侧，所述第二有机层位于所述第一阻挡层远离所述支撑基板的一侧，所述第二阻挡层位于所述第二有机层远离所述支撑基板的一侧；所述开孔的底面位于所述第一有机层或所述第一阻挡层上。4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，当所述开孔的底面位于所述第一有机层上，且位于所述第一有机层远离所述支撑基板的表面与靠近所述支撑基板的表面之间时，所述开孔包括第一孔部与第二孔部，所述第一孔部为贯穿所述第一阻挡层且未贯穿所述第一有机层的盲孔，所述第二孔部为贯穿所述第二阻挡层且贯穿所述第二有机层的通孔。5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述第一阻挡层包括暴露部，所述暴露部未被所述第二有机层覆盖；所述第一孔部的孔径小于所述第二孔部的孔径，以使所述暴露部露出；所述封装层包括封闭保护部，所述封闭保护部位于所述暴露部远离所述支撑基板的一侧。6.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述在所述柔性衬底远离所述支撑基板的一侧形成有机发光器件层之前，还包括：对所述柔性衬底进行刻蚀，得到所述开孔。7.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述对所述柔性衬底进行刻蚀，得到
所述开孔，包括：对所述第二阻挡层与所述第二有机层进行刻蚀，得到所述第二孔部；其中，对所述第二有机层进行刻蚀时使用的刻蚀气体对所述第二有机层的刻蚀速率大于对所述第二阻挡层的刻蚀速率，以使所述第二阻挡层在所述支撑基板上的正投影覆盖所述第二有机层在所述支撑基板上的正投影，所述第二阻挡层在所述支撑基板上的正投影面积大于所述第二有机层在所述支撑基板上的正投影面积；对所述第一阻挡层与所述第一有机层进行刻蚀，得到所述第一孔部；其中，对所述第一有机层进行刻蚀时使用的刻蚀气体对所述第一有机层的刻蚀速率大于对所述第一阻挡层的刻蚀速率，以使所述第一阻挡层在所述支撑基板上的正投影覆盖所述第一有机层在所述支撑基板上的正投影，所述第一阻挡层在所述支撑基板上的正投影面积大于所述第一有机层在所述支撑基板上的正投影面积。8.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述第一阻挡层的材料为氧化硅、氮化硅、或氮氧化硅，对所述第一有机层进行刻蚀时使用的刻蚀气体包括氧气；所述第二阻挡层的材料为氧化硅、氮化硅、或氮氧化硅，对所述第二有机层进行刻蚀时使用的刻蚀气体包括氧气。9.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于，对所述第一有机层进行刻蚀时使用的刻蚀气体还包括第一辅助气体，所述第一辅助气体包括四氟化碳cf
4
、六氟化硫sf
6
或三氟甲烷chf
3
中的任意一种或任意组合；所述第一辅助气体的比例小于氧气的比例；对所述第二有机层进行刻蚀时使用的刻蚀气体还包括第二辅助气体，所述第二辅助气体包括四氟化碳cf
4
、六氟化硫sf
6
或三氟甲烷chf
3
中的任意一种或任意组合；所述第二辅助气体的比例小于氧气的比例。10.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述第一孔部的孔径等于所述第二孔部的孔径。11.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述柔性衬底包括第一有机层与第一阻挡层；所述第一有机层位于所述支撑基板上，所述第一阻挡层位于所述第一有机层远离所述支撑基板的一侧；所述开孔的底面位于所述第一有机层上，且位于所述第一有机层远离所述支撑基板的表面与靠近所述支撑基板的表面之间。12.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述开孔为通孔；所述第一待刻蚀部位于所述支撑基板上。13.根据权利要求12所述的制备方法，其特征在于，所述柔性衬底包括第一有机层与第一阻挡层；所述第一有机层位于所述支撑基板上，所述第一阻挡层位于所述第一有机层远离所述支撑基板的一侧；所述开孔贯穿所述第一有机层与所述第一阻挡层。14.一种有机发光显示基板，其特征在于，包括显示区和位于显示区的开孔区，所述显示区的结构包括：柔性衬底，包括贯穿孔，所述贯穿孔位于所述开孔区；有机发光器件层，位于所述柔性衬底上；
封装层，位于所述有机发光器件层远离所述柔性衬底的一侧，所述封装层覆盖所述有机发光器件层与所述贯穿孔的至少部分侧壁，所述封装层包括镂空部，所述镂空部在所述柔性衬底上的正投影位于所述开孔区。15.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求14所述的有机发光显示基板。