代表红色像素区域、G代表绿色像素区域和B代表蓝色像素区域。在图8a中，像素区域23的矩阵排列可以描述为:每一列像素区域23都是由相同颜色的像素区域构成，且每一行像素区域23按照红色像素区域R、绿色像素区域G和蓝色像素区域B依次排列。如图8a所示，凹槽24设置在不同颜色像素区域23间的像素定义层中。具体地，在显示面板显示画面时，如果显示面板中的部分像素区域点亮时，且处于点亮状态的像素区域和与其相邻的且不应该点亮的像素区域为不同颜色的像素区域，则它们之间产生的漏电流会给显示面板带来颜色串扰，从而会使显示面板降低显示画面的色度和品质。基于此，在显示面板中设置凹槽时，可以将凹槽设置在不同颜色像素区域间的像素定义层中，这样可以有效地避免颜色串扰对显示面板的显示画面的色度和品质的影响。
[0048]除了处于点亮状态的像素区域和与其相邻的且不应该点亮的像素区域为不同颜色的像素区域外，处于点亮状态的像素区域和与其相邻的且不应该点亮的像素区域也可以为相同颜色的像素区域，由于它们之间产生的漏电流可以使不应该点亮的像素区域微微发亮，因此，进一步地，作为本发明实施例提供的另一种显示面板的局部俯视结构示意图，如图8b所示，对于像素区域23的排列方式采用矩阵排列的情况，凹槽24可以设置在全部像素区域23间的像素定义层中，这样可以更好地避免相邻像素区域间的漏电流对显示面板的显示画面的品质的影响。
[0049]除了像素区域的排列方式采用矩阵排列外，作为本发明实施例提供的又一种显示面板的局部俯视结构示意图，如图9所示，显示面板中的像素区域23的排列方式也可以采用交错排列，其中，像素区域23的交错排列可以描述为:每一行像素区域23按照红色像素区域R、绿色像素区域G和蓝色像素区域B依次排列，相邻两行像素区域23相互错开。对于像素区域23采用交错排列，为了能够有效地减弱甚至抑制点亮状态的像素区域和与其相邻的且不应该点亮的像素区域之间产生的漏电流，在图9中，凹槽24需要设置在全部像素区域23间的像素定义层中。
[0050]在本发明实施例中，进一步地，对于设置有凹槽的部分像素区域间的像素定义层，相应的像素定义层可以为不同颜色像素区域间的像素定义层，或者也可以为相同颜色像素区域间的像素定义层，或者也可以为既有不同颜色像素区域间的像素定义层，也有相同颜色像素区域间的像素定义层，在此不作限定。
[0051]具体地，从制造不同颜色像素区域的材料来看，目前用于制造绿色像素区域的材料的电流效率远高于制造其他颜色像素区域的材料的电流效率，因此，像素区域间产生的漏电流对绿色像素区域的影响较大。基于此，作为本发明实施例提供的又一种显示面板的局部俯视结构示意图，如图10所示，对于设置有凹槽的部分像素区域间的像素定义层，相应的像素定义层可以为绿色像素区域G周围的像素定义层。通过在绿色像素区域周围的像素定义层中设置凹槽，可以降低与绿色像素区域相邻的像素区域产生的漏电流对绿色像素区域的影响。
[0052]需要说明的是，上述图8a、图8b、图9和图10给出了本发明的显示面板的局部俯视结构示意图，然而，对于整个显示面板而言，会包括更多的像素区域，例如，对于图8a所示的显示面板，在第一列像素区域23的左侧可以设置至少一列的像素区域，在第三列像素区域23的右侧也可以设置至少一列的像素区域，以及在第一行像素区域23的上侧可以设置至少一行的像素区域，在第二行像素区域23的下侧也可以设置至少一行的像素区域；对于图Sb、图9和图10，也可以采用相似的方式设置更多的像素区域，从而可以得到整个显示面板中的像素区域的排列。
[0053]上述各实施例中的显示面板，可以具有触控功能，也可以不具有触控功能，在实际制作时，可以根据具体的需要进行选择和设计。其中，触控功能可以为电磁触控功能、电容触控功能或者电磁电容触控功能等。
[0054]本发明实施例还提供一种显示装置。图11是本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图。如图11所示，显示装置30包括显示面板31，还可以包括驱动电路和其他用于支持显示装置正常工作的器件。其中，所述显示面板31为上述各个实施例所述的显示面板。上述的显示装置可以为手机、台式电脑、平板电脑和电子纸等。
[0055]本发明实施例还提供一种显示面板的制造方法，所述制造方法用于制造上述各实施例所述的显示面板。图12是本发明实施例提供的一种显示面板的制造方法的流程示意图。如图12所示，显示面板的制造方法包括:
[0056]步骤41、提供一基板。
[0057]步骤42、在所述基板上形成像素定义层，其中，所述像素定义层限定出多个像素区域。
[0058]在本发明实施例中，显示面板的制造方法还包括:在基板和像素定义层之间形成平坦化层。在显示面板的实际制造过程中，可以先在基板上形成薄膜晶体管膜层，然后在薄膜晶体管膜层上依次形成平坦化层和像素定义层。需要说明的是，在本发明实施例中，均以从基板到像素定义层的方向作为朝上的方向，相反的方向则作为朝下的方向，其中上方或者下方仅仅是对所处方位的描述，可以是指直接接触，也可以是指间接接触，对形成的具体结构不构成限定。
[0059]步骤43、在部分像素区域间的像素定义层或全部像素区域间的像素定义层中形成至少一个凹槽，可选地，凹槽的深度大于0.5 μm。可选地，凹槽的深度大于2 μπι。可选地，凹槽的深度大于2 μπι小于6 μπι。
[0060]可选地，凹槽可以采用刻蚀或激光照射的方法形成。由于在本发明中，在凹槽形成之前的像素定义层的质量大于凹槽形成之后的像素定义层的质量，也就是说，在形成凹槽的过程中，像素定义层的质量有减小，因此，为了得到上述的凹槽，可以采用刻蚀或激光照射的方法来形成凹槽，例如干法刻蚀、湿法刻蚀、激光灼烧等方法。
[0061]在本发明实施例中，在部分或全部像素区域间的像素定义层中形成至少一个凹槽的步骤可以包括:在部分或全部像素区域间的像素定义层中形成至少一个凹槽，且在像素定义层中形成凹槽的槽底或者在像素定义层和平坦化层的接触处形成凹槽的槽底。
[0062]在本发明实施例中，由于在显示面板的像素定义层下方设置有平坦化层，且平坦化层的作用是使位于平坦化层下方的薄膜晶体管膜层的表面平坦化，因此，为了增加凹槽的深度，在部分或全部像素区域间的像素定义层中形成至少一个凹槽的步骤也可以包括:形成至少一个凹槽，其中凹槽穿过部分或全部像素区域间的像素定义层并延伸到所述平坦化层中，且凹槽的槽底形成在平坦化层中。
[0063]步骤44、形成有机公共层，其中，有机公共层形成在像素区域上和像素定义层上并覆盖凹槽。
[0064]具体地，有机公共层可以包括空穴传输层和电子传输层。
[0065]需要说明的是，上述的步骤41到步骤44的先后顺序，可以根据实际工艺条件和工艺水平进行适当地调整，例如，对于凹槽的槽底形成在像素定义层中或形成在像素定义层和平坦化层的接触处，凹槽可以在制作像素定义层时利用灰度掩模板将像素定义层制作成具有槽状的结构来形成。因此，关于上述各步骤的先后顺序，在此不作限定。通过上述步骤41到步骤44，可以制作出本发明上述实施例提供的显示面板，且针对显示面板的详细描述，可以参照上述实施例。
[0066]通过上述制造方法制得的显示面板可以作为AMOLED显示面板。通过在上述显示面板中的部分像素区域间的像素定义层或全部像素区域间的像素定义层中设置凹槽，并且有机公共层覆盖凹槽，与像素区域间不设置凹槽相比，这样可以增加设置有凹槽的像素区间的有机公共层的长度，并使得相应的像素区域间的有机公共层的电阻增大；当显示面板中部分像素区域点亮时，由于相邻像素区域间的电子传输层和空穴传输层的电阻增大，因此，可以减弱处于点亮状态的像素区域和与其相邻的且不应该点亮的像素区域间的电子/空穴的迀移能力，这样可以减弱甚至抑制点亮的像素区域与不应该点亮的像素区域之间产生的漏电流，从而可以使不应该点亮的像素区域保持黑态，进而可以使显示面板提高显示画面的品质。
[0067]在本发明实施例中，部分像素区域间的像素定义层可以为相同颜色像素区域间的像素定义层，或者也可以为不同颜色像素区域间的像素定义层，或者也可以为既有相同颜色像素区域间的像素定义层也有不同颜色像素区域间的像素定义层，在此不作限定。
[0068]在本发明实施例中，有机公共层可以采用蒸镀方式形成。如图13所示，形成有机公共层52的蒸镀方向Xl沿垂直于基板51的方向，在图13中，标记521代表空穴传输层，标记522代表电子传输层，标记53代表像素定义层，标记54代表凹槽，以及标记55代表像素区域。通过采用蒸镀方式形成有机公共层52并使蒸镀方向Xl沿垂直于基板51的方向，可以使形成在凹槽54的侧壁上的有机公共层52的厚度小于形成在凹槽54的槽底上的有机公共层52的厚度，这样在相同长度情况下，形成在凹槽54的侧壁上的有机公共层52的电阻会大于形成在凹槽54的槽底上的有机公共层52的电阻，从而可以进一步减弱甚至抑制点亮的像素区域与不应该点亮的像素区域之间产生的漏电流，并可以使不应该点亮的像素区域保持黑态，进而可以使显示面板提高显示画面的品质。
[0069]形成有机公共层的蒸镀方向除了可以沿垂直于基板的方向外，该蒸镀方向也可以与垂直于基板的方