向形成夹角，可选地，夹角为锐角。通过采用此种蒸镀方向对有机公共层进行蒸镀，在凹槽内形成的有机公共层可能是断开的，这样可以将相应的像素区域间的有机公共层的电阻看成无限大，从而可以抑制点亮的像素区域与不应该点亮的像素区域之间产生的漏电流，使得不应该点亮的像素区域保持黑态，进而可以使显示面板显著地提高显不画面的品质。
[0070]在本发明实施例中，具体地，形成有机公共层的蒸镀方向可以通过调整蒸镀源的位置来得到。关于如何调整蒸镀源，是本领域技术人员熟知的，在此不再赘述。
[0071]在本发明实施例中，进一步地，如图14所示，蒸镀方向X2与垂直于基板51的方向X3形成夹角，且蒸镀方向X2沿凹槽54的侧壁的倾斜方向，其中，在图14中，蒸镀方向X2沿凹槽54的右侧侧壁的倾斜方向，然而，蒸镀方向也可以沿凹槽的左侧侧壁的倾斜方向。通过选定形成有机公共层的蒸镀方向沿凹槽的侧壁的倾斜方向，在凹槽的左侧侧壁或者右侧侧壁上没有有机公共层覆盖，即在凹槽内形成的有机公共层是断开的，这样可以使相应的像素区域间的有机公共层的电阻变得无限大，从而可以抑制点亮的像素区域与不应该点亮的像素区域之间产生的漏电流，使得不应该点亮的像素区域保持黑态，进而可以使显示面板显著地提高显示画面的品质。
[0072]图15是本发明实施例提供的另一中显示面板的制造方法的流程示意图。如图15所示，相应的显示面板的制造方法包括:
[0073]步骤61、提供一基板；
[0074]步骤62、在基板上形成像素定义层，其中，像素定义层限定出多个像素区域；
[0075]步骤63、形成有机公共层，其中，有机公共层形成在像素区域上和像素定义层上，且有机公共层对应于像素定义层的至少一部分的厚度小于有机公共层对应于像素区域的至少一部分的厚度。
[0076]关于上述步骤61到步骤63的详细描述，可以参照上述显示面板实施例中的相关描述，在此不再赘述。
[0077]本发明实施例提供的显示面板、显示装置及显示面板的制造方法，通过在显示面板中设置对应于像素定义层的有机公共层的至少一部分的厚度小于对应于像素区域的有机公共层的至少一部分的厚度，或者设置至少一个凹槽，其中，凹槽位于部分像素区域间的像素定义层或全部像素区域间的像素定义层中且有机公共层覆盖凹槽，这样可以增大相应的像素区域间的有机公共层的电阻，从而可以减弱甚至抑制点亮的像素区域与不应该点亮的像素区域之间产生的漏电流，并可以使不应该点亮的像素区域保持黑态，进而可以使显不面板提尚显不画面的品质。
[0078]注意，上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解，本发明不限于这里所述的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明，但是本发明不仅仅限于以上实施例，在不脱离本发明构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。
【主权项】
1.一种显示面板，其特征在于，包括: 基板； 像素定义层，设置在所述基板上，其中，所述像素定义层限定出多个像素区域； 有机公共层，设置在所述像素区域上和所述像素定义层上； 所述有机公共层对应于所述像素定义层的至少一部分的厚度小于所述有机公共层对应于所述像素区域的至少一部分的厚度；或至少一个凹槽，设置在部分像素区域间的像素定义层或全部像素区域间的像素定义层中，且所述有机公共层覆盖所述凹槽。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述凹槽形成之前所述像素定义层的质量大于所述凹槽形成之后所述像素定义层的质量。
3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述有机公共层包括空穴传输层和电子传输层。
4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述凹槽的深度大于或等于0.5 μ m。
5.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述凹槽的深度大于或等于2μπι。
6.根据权利要求5所述的显示面板，其特征在于，所述凹槽的深度为大于2μπι且小于6 μ m0
7.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括设置在所述基板和所述像素定义层之间的平坦化层。
8.根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，所述凹槽的槽底设置在所述像素定义层中或者设置在所述像素定义层和所述平坦化层的接触处。
9.根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，所述凹槽穿过所述像素定义层并延伸到所述平坦化层中，且所述凹槽的槽底设置在所述平坦化层中。
10.根据权利要求1-9中任一项所述的显示面板，其特征在于，所述部分像素区域间的像素定义层包括相同颜色像素区域间的像素定义层和/或不同颜色像素区域间的像素定乂层O
11.根据权利要求10所述的显示面板，其特征在于，所述部分像素区域间的像素定义层为绿色像素区域周围的像素定义层。
12.根据权利要求1-9中任一项所述的显示面板，其特征在于，所述有机公共层覆盖部分或者全部所述凹槽。
13.根据权利要求1-9中任一项所述的显示面板，其特征在于，覆盖所述凹槽的侧壁的有机公共层的厚度小于覆盖所述凹槽的槽底的有机公共层的厚度。
14.根据权利要求1-9中任一项所述的显示面板，其特征在于，所述像素区域的排列方式为矩阵排列，所述凹槽设置在不同颜色像素区域间的像素定义层中或全部像素区域间的像素定义层中；或者 所述像素区域的排列方式为交错排列，所述凹槽设置在全部像素区域间的像素定义层中。
15.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-14中任一项所述的显示面板。
16.一种显示面板的制造方法，其特征在于，包括: 提供一基板； 在所述基板上形成像素定义层，其中，所述像素定义层限定出多个像素区域； 在部分像素区域间的像素定义层或全部像素区域间的像素定义层中形成至少一个凹槽； 形成有机公共层，其中，所述有机公共层形成在所述像素区域上和所述像素定义层上并覆盖所述凹槽。
17.根据权利要求16所述的显示面板，其特征在于，所述凹槽采用刻蚀或激光照射的方法形成。
18.根据权利要求16所述的显示面板的制造方法，其特征在于，所述凹槽的深度大于0.5 μ m0
19.根据权利要求18所述的显示面板的制造方法，其特征在于，所述凹槽的深度大于2 μ m0
20.根据权利要求16所述的显示面板的制造方法，其特征在于，所述制造方法还包括:在所述基板和所述像素定义层之间形成平坦化层。
21.根据权利要求20所述的显示面板的制造方法，其特征在于，在部分或全部像素区域间的像素定义层中形成至少一个凹槽的步骤包括: 在部分或全部像素区域间的像素定义层中形成至少一个凹槽，且在所述像素定义层中形成凹槽的槽底或者在所述像素定义层和所述平坦化层的接触处形成凹槽的槽底。
22.根据权利要求20所述的显示面板的制造方法，其特征在于，在部分或全部像素区域间的像素定义层中形成至少一个凹槽的步骤包括: 形成至少一个凹槽，其中所述凹槽穿过部分或全部像素区域间的像素定义层并延伸到所述平坦化层中，且所述凹槽的槽底形成在所述平坦化层中。
23.根据权利要求16-22中任一项所述的显示面板的制造方法，其特征在于，所述有机公共层采用蒸镀方式形成，所述蒸镀方向沿垂直于所述基板的方向；或者 所述蒸镀方向与垂直于所述基板的方向形成夹角，其中，所述夹角为锐角。
24.根据权利要求23所述的显示面板的制造方法，其特征在于，所述蒸镀方向与垂直于所述基板的方向形成夹角，且所述蒸镀方向沿所述凹槽的侧壁的倾斜方向。
25.—种显示面板的制造方法，其特征在于，包括: 提供一基板； 在所述基板上形成像素定义层，其中，所述像素定义层限定出多个像素区域； 形成有机公共层，其中，所述有机公共层形成在所述像素区域上和所述像素定义层上，且所述有机公共层对应于所述像素定义层的至少一部分的厚度小于所述有机公共层对应于所述像素区域的至少一部分的厚度。
【专利摘要】本发明公开了一种显示面板、显示装置及显示面板的制造方法，其中，显示面板包括：基板；像素定义层，设置在基板上，其中，像素定义层限定出多个像素区域；有机公共层，设置在像素区域上和像素定义层上；有机公共层对应于像素定义层的至少一部分的厚度小于有机公共层对应于像素区域的至少一部分的厚度；或至少一个凹槽，设置在部分像素区域间的像素定义层或全部像素区域间的像素定义层中且有机公共层覆盖凹槽。本发明的技术方案通过增大像素区域间的有机公共层的电阻，可以减弱甚至抑制点亮的像素区域与不应该点亮的像素区域之间产生的漏电流，从而可以使不应该点亮的像素区域保持黑态，进而使显示面板提高显示画面的品质。
【IPC分类】H01L27-32
【公开号】CN104659070
【申请号】CN201510112340
【发明人】熊志勇
【申请人】上海天马有机发光显示技术有限公司, 天马微电子股份有限公司
【公开日】2015年5月27日
【申请日】2015年3月13日