)。之后，当基底500穿过第八沉积组件100-8"时，在基底500的蓝色子像素处形成蓝色EML 633B。这里，红色EML 633R、绿色EML633G和蓝色EML 633B在子像素处形成为图案层(图案化层)。
[0122]然后，使基底500与用于形成图案层的掩模组件620分离，然后将基底500结合到用于形成公共层的掩模组件610。之后，当基底500穿过第九沉积组件100-9"和第十沉积组件100-10"时，在基底500上形成ETL 633c。这里，ETL形成并堆叠为公共层。
[0123]如上所述，通过一起(例如，同时)使用用于形成公共层的掩模组件610和用于形成图案层的掩模组件620，可以通过沿一个扫描方向移动来制造具有包括分别发射红光、绿光和蓝光的多个子像素的中间层的RGB有机发光显不设备。
[0124]图11是根据本发明的另一个实施例的通过使用沉积设备制造的有机发光显示设备的中间层的剖视图。在本实施例中，可以利用用于形成图案层的掩模组件通过多次扫描操作来制造多个子像素分别发射红光、绿光、蓝光和白光的RGBW有机发光显示设备。
[0125]参照图11，根据本实施例的有机发光显示设备包括像素电极6IR、61G、6IB和61W、中间层634以及对电极62。另外，针对每个子像素图案化中间层634。
[0126]BP, HIL 634a-R、HTL 634b_R、红色 EML 634R 和 ETL 634c_R 在红色子像素处顺序地图案化。另外，HIL 634a-G、HTL 634b_G、绿色EML 634G和ETL 634c_G在绿色子像素处顺序地图案化。另外，HIL 634a-B、HTL 634b_B、蓝色EML 634B和ETL 634c_B在蓝色子像素处顺序地图案化。另外,HTL 634d-W、蓝色EML 634e_W、CGL 634f_W、红色EML 634g_W、绿色EML 634h-W和ETL 634i_W在白色子像素处顺序地图案化。另外，对电极62形成为用于覆盖整个中间层634的公共层。
[0127]如上所述，可以使用用于形成图案层的掩模组件通过多次扫描操作在多个子像素中的每个子像素处形成发射红光、绿光、蓝光或白光的中间层来制造RGBW有机发光显示设备。
[0128]根据本发明的实施例，沉积工艺可以灵活地应用于大型有机发光显示设备。即，可以通过使用同一沉积设备选择性地制造RGB、RGBW或白色OLED有机发光显示设备，因此，可以灵活地管理制造设备。另外，与可比较的团簇沉积设备相比可以减小设备的布局，可以改善空间利用率，并且通过应用连续沉积设备可以缩短处理时间。
[0129]如上所述，根据本发明的上述实施例中的一个或更多个，可以改善空间效率和制造效率。
[0130]应该理解的是，这里描述的示例实施例应该仅以描述性的意义来考虑而不是出于限制的目的。每个实施例中的特征或方面的描述应该通常被认为可用于其他实施例中的其他相似的特征或方面。
[0131]尽管已经参照附图描述了本发明的一个或更多个实施例，但是本领域普通技术人员将理解的是，在不脱离由权利要求及其等同物所限定的本发明的精神和范围的情况下，可以做出各种形式和细节的改变。
【主权项】
1.一种利用用于在基底上形成有机层的沉积设备来制造有机发光显示设备的方法，其特征在于所述方法包括下述步骤: 在装载单元中将基底固定到用于形成公共层的掩模组件或用于形成图案层的掩模组件； 当沉积设备的沉积单元中的一个或更多个沉积组件与基底分离时，在通过第一传送单元使基底相对于所述一个或更多个沉积组件移动的同时，通过将从所述一个或更多个沉积组件排出的沉积材料沉积到基底上来形成中间层；以及 在卸载单元中将完成了沉积的基底与用于形成公共层的掩模组件或用于形成图案层的掩模组件分离。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在装载单元中将基底固定到用于形成公共层的掩模组件，沉积材料在基底上形成为公共层。
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，形成中间层的步骤包括在基底上形成至少红色发射层、绿色发射层和蓝色发射层作为各个公共层。
4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在装载单元中将基底固定到用于形成图案层的掩模组件，沉积材料在基底上以图案形成。
5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，形成中间层的步骤包括在基底上形成红色发射层、绿色发射层和蓝色发射层作为各个图案层。
6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，用于形成公共层的掩模组件或用于形成图案层的掩模组件结合到基底。
7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，形成中间层的步骤包括: 当将基底固定在用于形成图案层的掩模组件上时，在基底相对于所述一个或更多个沉积组件移动的同时，形成一个发射层； 将基底固定到的用于形成图案层的掩模组件返回到装载单元；以及 在基底相对于所述一个或更多沉积组件移动的同时，在基底上形成另一个发射层。
8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，在形成一个发射层的同时，遮蔽构件处于基底和包括用于形成不同的发射层的沉积材料的所述一个或更多个沉积组件之间。
9.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，在返回掩模组件之后，将用于形成图案层的掩模组件相对于掩模组件在基底上的先前的位置偏移。
10.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，形成中间层的步骤包括: 当将基底固定到用于形成公共层的掩模组件时，在基底相对于所述一个或更多个沉积组件移动的同时，在基底上形成一个或更多个公共层； 将基底与用于形成公共层的掩模组件分离，并将基底固定到用于形成图案层的掩模组件；以及 当将基底固定到用于形成图案层的掩模组件时，在基底相对于所述一个或更多个沉积组件移动的同时，在基底上图案化红色发射层、绿色发射层和蓝色发射层。
11.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，在基底上图案化发射层的步骤包括:在基底上图案化一个发射层之后，将用于形成图案层的掩模组件相对于掩模组件在基底上的先前的位置偏移。
12.根据权利要求10所述的方法，其特征在于所述方法还包括下述步骤: 在基底上图案化发射层之后，将基底与用于形成图案层的掩模组件分离，并且将基底固定到用于形成公共层的掩模组件；以及 当将基底固定到用于形成公共层的掩模组件时，在基底相对于所述一个或更多个沉积组件移动的同时，在基底上形成一个或更多个公共层。
13.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，形成中间层的步骤包括: 在基底上的子像素区域处顺序地堆叠至少包括构造为发射具有一种颜色的光的发射层的一个或更多个中间层； 在基底上的子像素区域处顺序地堆叠至少包括构造为发射具有不同颜色的光的发射层的一个或更多个中间层；以及 在基底上的子像素区域处顺序地堆叠至少包括构造为发射具有不同颜色的光的发射层的一个或更多个中间层。
14.根据权利要求13所述的方法，所述方法还包括在基底上的其他子像素区域处堆叠红色发射层、绿色发射层和蓝色发射层。
15.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，形成中间层的步骤包括: 在基底上形成一个或更多个公共层； 在基底上的每个子像素区域处图案化发射层；以及 在基底上形成一个或更多个公共层。
16.根据权利要求1所述的方法，所述方法还包括:在将基底与掩模组件分离之后，将用于形成公共层的掩模组件或用于形成图案层的掩模组件在第二传送单元上返回到装载单元。
17.根据权利要求16所述的方法，其特征在于，用于形成公共层的掩模组件或用于形成图案层的掩模组件在第一传送单元和第二传送单元之间移动。
18.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，用于形成公共层的掩模组件和用于形成图案层的掩模组件均包括: 掩模，包括用于在基底上限定沉积区域的一个或更多个开口 ； 掩模托盘，具有安装有掩模的表面；以及 磁板，位于基底的与安装有掩模的所述表面背对的表面上，磁板构造为向掩模施加磁力。
19.根据权利要求18所述的方法，其特征在于，磁板构造为产生沿着从掩模朝向磁板的方向的磁力。
20.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，多个沉积组件处于沉积单元中以对基底顺序地执行沉积。
【专利摘要】本发明公开了一种利用用于在基底上形成有机层的沉积设备来制造有机发光显示设备的方法，所述方法包括：在装载单元中将基底固定到用于形成公共层的掩模组件或用于形成图案层的掩模组件；当沉积设备的沉积单元中的一个或更多个沉积组件与基底分离时，在通过第一传送单元使基底相对于所述一个或更多个沉积组件移动的同时，通过将从所述一个或更多个沉积组件排出的沉积材料沉积到基底上来形成中间层；以及在卸载单元中将完成了沉积的基底与用于形成公共层的掩模组件或用于形成图案层的掩模组件分离。
【IPC分类】H01L27-32, H01L51-56
【公开号】CN104733496
【申请号】CN201410690142
【发明人】崔珉焕, 金治宇, 金建植, 宋沃根, 鱼基汉, 郑成镐, 车裕敏, 崔宰凡, 具永谟, 金襟男, 崔大成
【申请人】三星显示有限公司
【公开日】2015年6月24日
【申请日】2014年11月25日
【公告号】US20150179710