的遮挡件可用于使有机材料蒸汽羽流的方向性成形。
[0018]优点
[0019]本发明的优点在于，在大尺寸OLED发光装置的制造中，利用相对于衬底设置的单个阴影掩模，本发明允许处于气相的有机材料和导电材料沉积在不同但部分重叠的区域上。这还具有简化制造步骤和降低生产成本的优点。
【附图说明】
[0020]本公开的这些和其他实施方式将参照以下示例性且非限制性的附图进行论述，其中相同的元件被相似地编号，为了便于观察而不必须为了尺寸准确性起见，附图进行了缩放，在附图中:
[0021]图1a示出了具有可用于本发明的悬伸特征的掩模的第一实施方式的剖视图；
[0022]图1b示出了具有可用于本发明的悬伸特征的掩模的另一实施方式的剖视图；
[0023]图1c示出了具有可用于本发明的悬伸特征的掩模的另一实施方式的剖视图；
[0024]图2a示出了具有可用于本发明的悬伸特征的掩模的另一实施方式的剖视图；
[0025]图2b示出了具有可用于本发明的悬伸特征的掩模的另一实施方式的剖视图；
[0026]图2c示出了具有可用于本发明的悬伸特征的掩模的另一实施方式的剖视图；
[0027]图2d示出了具有可用于本发明的悬伸特征的掩模的另一实施方式的剖视图；
[0028]图3a示出了具有可用于本发明的悬伸特征的掩模的另一实施方式的剖视图；
[0029]图3b示出了具有可用于本发明的悬伸特征的掩模的另一实施方式的剖视图；
[0030]图4a示出了在位于具有多个电连接的衬底上的具有多个悬伸特征的掩模的另一实施方式的剖视图；
[0031]图4b示出了图4a的掩模和衬底的平面图；
[0032]图5a示出了与用于将汽化的有机材料沉积在衬底上的源的一个实施方式相关的图4a的掩模和衬底的剖视图；
[0033]图5b示出了与用于将汽化的阴极材料沉积在已沉积在衬底上的有机材料上的源的一个实施方式相关的图4a的掩模和衬底的剖视图；
[0034]图6a示出了与用于将汽化的有机材料沉积在衬底上的源的另一实施方式相关的图4a的掩模和衬底的剖视图；
[0035]图6b示出了与用于将汽化的有机材料沉积在衬底上的多个源的另一实施方式相关的图4a的掩模和衬底的剖视图；
[0036]图6c示出了与用于将汽化的有机材料沉积在衬底上的多个源的另一实施方式相关的图4a的掩模和衬底的剖视图；
[0037]图6d示出了与用于将汽化的阴极材料沉积在已沉积在衬底上的有机材料上的源的另一实施方式相关的图4a的掩模和衬底的剖视图；
[0038]图7a示出了通过本发明的设备制备的有机发光装置的一个实施方式的剖视图；
[0039]图7b更详细地示出了图7a的一部分的剖视图；
[0040]图8a为本发明的方法的一个实施方式的示意图；以及
[0041]图8b为本发明的方法的另一实施方式的示意图。
【具体实施方式】
[0042]现在参照图la，图1a示出了具有可用于本发明的悬伸特征的可移动或可重复使用的掩模110的第一实施方式的剖视图。掩模110定位在衬底100上，或靠着衬底100定位。衬底100和其他在本发明中有用的衬底可以是有机固体、无机固体或有机固体和无机固体的组合，并且可以是刚性的或柔性的。典型的衬底材料包括玻璃、塑料、金属、陶瓷、半导体、金属氧化物、半导体氧化物、半导体氮化物、低温多晶硅、非晶硅、或其组合。根据预期的光发射方向，衬底可以透光的或不透光的。透光性质对于通过衬底观察光发射是期望的。透明玻璃或塑料通常用于这种情况。对于通过顶部电极观察光发射的应用，底部支承件的透射特性是不重要的，并且因此底部支承件可以是透光的、吸收光的或反射光的。用于这种情况的衬底包括，但不限于，玻璃、塑料、半导体材料、陶瓷以及电路板材料、或任何其他在OLED器件形成中常用的材料。应理解，衬底100可具有其他表面特征，例如电轨迹和绝缘体区或其他已沉积的或图案化的层。除了图案化的电轨迹，传导特征可包括衬底的传导性质的使用。为简单起见，这里描述的实施方式将基于例如玻璃或聚合物材料的绝缘衬底。沉积导电特征的常用方法为通过溅射、蒸发、化学气相沉积、喷墨涂覆、喷雾涂覆、狭缝模具涂覆、或旋涂。这些层可在沉积期间图案化，如在喷墨涂覆和喷雾涂覆中，或者这些层可通过阴影掩模图案化，或者这些层可通过例如选择性蚀刻未被可移除的抗性材料保护的材料的方法来移除材料而被图案化。为了图示清楚起见，这些电传导的和绝缘的特征没有示出。掩模110没有结合至衬底，即，掩模110通过提升能够物理地容易地移除，而不需要额外的化学处理或物理处理，并且对于利用附加衬底的后续操作是可重复使用的。掩模110定位成并保持与衬底100接触，这意味着掩模110的一个表面基本与衬底100的表面接触，但是掩模110和衬底100的表面中的小缺陷可意味着接触的表面的较小部分未完全接触。这种基本但不完全的接触不影响本发明。出于本公开的各目的，与衬底的这种基本接触将包括这样的实施方式，在这些实施方式中，衬底的表面包括其他预形成的特征，例如，预图形化的电特征。
[0043]在本公开的实施方式中，在气相沉积期间用于保持掩模与衬底接触的装置可以是有用的。一种用于保持掩模与衬底接触的常用示例性技术为使用由位于衬底的后部上的磁性元件所生成的磁力。可通过调节磁性元件的图案和数量以及磁性元件距离衬底的间隔来调节磁力，以防止损坏衬底。在沉积过程的最后，磁性元件可从衬底移除以更容易地以不损坏或扭曲掩模的方式将掩模从衬底分离。
[0044]掩模110的此实施方式为统一的掩模，该掩模包括两个单独的掩模，第一或下部掩模120以及第二或上部掩模130。下部掩模120和上部掩模130、以及本公开中的所有掩模包括坚固材料的薄片材，最常见的为金属。有用地，这种片材具有50至1000微米的厚度，并且合适地具有100至300微米的厚度。包括不同层的片材可具有不同的厚度并且可由不同的材料制成，例如，具有不同磁化率以促进磁保持方法的材料。下部掩模120基本与衬底100接触，同时上部掩模130基本与下部掩模120接触。下部掩模120和上部掩模130可结合起来或者可彼此分开。下部掩模120和上部掩模130以形成悬伸特征140的方式被构成并定位在一起。出于本公开的各目的，悬伸特征限定为在衬底之上但未与衬底的表面直接接触的掩模开放区域的一个边缘。因此，掩模I1的由下部掩模120代表的部分与衬底100直接接触，而悬伸特征140，即上部掩模130的部分，以距离125位于衬底之上并与衬底分离。有用地，距离125为50至1000微米，并且合适地为100至300微米。在图1a的实施方式中，距离125等于下部掩模120的厚度。在一系列掩模包括两个或更多单独掩模的实施方式中，例如图1a中的掩模，悬伸特征可通过偏移一起形成掩模的开放区域的一个边缘的各单独掩模的边缘来提供。例如，上部掩模130和下部掩模120的边缘在开放区域160的一个边缘上以距离175偏移。本领域中常用的掩模在衬底上提供两个不同的地区或部分:掩盖部分和未掩盖部分，其中，在掩盖部分中掩模与衬底接触并且因此阻止材料沉积，以及通过掩模开口提供未掩盖部分，在未掩盖部分中允许材料沉积。掩模110的悬伸特征将衬底100的表面划分为三个不同的部分:一个或多个掩盖部分150、一个或多个未掩盖部分160以及一个或多个部分掩盖部分170，其中在掩盖部分150中掩模110与衬底100的表面基本接触，在未掩盖部分160中掩模不与衬底100的表面接触或者并且不阻挡或隐藏衬底100的表面，以及在部分掩盖部分170中掩模110不与衬底100的表面接触但是悬伸特征140从选择的方向或视角阻挡或隐藏衬底100的表面。例如，部分掩盖部分170通过悬伸特征140从视角180被隐藏，但未从视角190隐藏。本领域技术人员应理解，未掩盖部分160和部分掩盖部分170的准确位置以及边界取决于选择的视角以及掩模110的特征的尺寸，因此图1a仅示出了可由掩模110提供的这些部分的一个可能的实施方式。由距离175代表的悬伸特征140的宽度可为IX至5X距离125范围。用于在第一地区沉积一种材料或一组材料(例如有机材料)以及在第二部分重叠区域沉积第二材料或第二组材料(例如导电材料)的这种部分掩盖部分以及选择的视角的效用将变得明显。
[0045]掩模开口的其他边缘可具有如允许期望的材料沉积所期望的性质。例如，掩模110在掩模开口的一个或多个其他边缘上具有缺口边缘135，其中缺口边缘135为正斜率边缘。具有这种正斜率边缘的掩模在本领域中是常见的。悬伸特征140和缺口边缘135都可通过选择下部掩模120和上部的掩模130中的掩模开口以部分地彼此相对偏移来提供。
[0046]现在转向图lb，图1b示出了具有可用于本发明的悬伸特征的掩模的另一实施方式的剖视图。掩模111包括两个单独的掩模，第一或下部掩模121以及第二或上部掩模131。下部掩模121和上部掩模131以形成悬伸特征141的方式被构成并定位在一起。在本掩模实施方式中，两个掩模的相对边缘(在该定向中示于右边)提供了单个竖直边缘。取决于掩模121以及掩模131的厚度，从一些视角(例如视角190)这可形成第二部分掩盖部分171。悬伸特征141和竖直边缘都可通过在下部掩模120中选择大于上部掩模130中的掩模开口的掩模开口来提供。
[0047]现在转向图lc，图1c示出了具有可用于本发明的悬伸特征的掩模的另一实施方式的剖视图。掩模112包括两个单独的掩模，第一或下部掩模122以及第二或上部掩模132。下部掩模122和上部掩模132以形成悬伸142和143的方式被构成并定位在一起。通过视角(例如视角190和200)的结合，可在衬底100上形成部分掩盖部分172和173。
[0048]出于本发明的各目的，掩模不必须包括多个分离的掩模。现在转向图2a，图2a示出了具有可用于本发明的悬伸特征的掩模的另一实施方式的剖视图，其中掩模包括单个单元和掩模的开放区域的一个边缘可构成为提供悬伸特征。掩模210具有以与掩模210的顶部和底部成非90°的角度而形成的侧边，例如通过切割或蚀刻边缘。这形成了相对于视角180的悬伸特征240，其中悬伸特征240在衬底100上形成了部分掩盖部分270。本文中描述的此实施方式以及其他单个单元掩模实施方式中的这种特征可通过商业上可得到的两侧蚀刻来制备。
[0049]现在转向图2b，图2b示出了具有可用于本发明的悬伸特征的掩模的另一实施方式的剖视图，其中掩模包括单个单元。掩模215具有已经以弧形形状切割或蚀刻的侧边，以形成相对于掩模215的顶部和底部不成90°角的侧边。这形成了相对于视角180的悬伸特征245，其中悬伸特征245在衬底100上形成了部分掩盖部分275。
[0050]现在转向图2c，图2c示出了具有可用于本发明的悬伸特征的掩模的另一实施方式的剖视图，其中掩模包括单个单元。掩模220具有已经相对于掩模220的顶部和底部以台阶形状切割或蚀刻的侧边。这形成了相对于视角180的悬伸特征250，其中悬伸特征250在衬底100上形成了部分掩盖部分280。除了掩模220为单件式掩模，掩模220类似于图1a中的掩模110。应理解，可由两个或更