量可以由阀门装置724v控制。根据各个实施例，阀门装置724v可以配置为对贮存器730增压，以便吹扫处理腔室702p、槽302和/或入口结构302m(或者歧管704m)，或者以便在排出液体204、206的同时补偿压力。根据各个实施例，抽吸器726可以耦接至第二排放结构726d。
[0145]根据各个实施例，一种方法(例如，用于在水上提供有机液体层)可以包括:用水填充腔室和耦接至腔室的管道，该管道从腔室向上延伸；将有机液体的部分引入到在管道中的水中；从腔室至少部分地去除水，以将管道的内容物排空到腔室中，从而在腔室中的水上设置通过引入的有机液体而获得的连续表面层。
[0146]进一步地，根据各个实施例，有机液体可以包括或者可以是醇类。
[0147]进一步地，根据各个实施例，有机液体可以包括或者可以是以下液体的组中的至少一种液体，该组包括:甲醇；乙醇；丙醇；异丙醇；丁醇；环乙醇。
[0148]进一步地，根据各个实施例，可以将有机液体的部分引入到在管道中的水中，从而使得引入的有机液体可以与水基本分开。
[0149]进一步地，根据各个实施例，可以将有机液体的部分引入到在管道中的水中，从而使得引入的有机液体可以基本覆盖在管道中的水的表面。
[0150]根据各个实施例，该方法可以进一步包括:在从腔室至少部分地去除水的同时，将氮气引入到管道中，以避免在管道中形成真空。
[0151]进一步地，根据各个实施例，从腔室至少部分地去除水可以包括:连续地排出水，从而连续地在管道中降低水的水位，并且随后连续地在腔室中降低水的水位。
[0152]根据各个实施例，该方法可以进一步包括:在用水填充腔室和管道之前，在腔室中提供至少一个晶片。
[0153]进一步地，根据各个实施例，从腔室至少部分地去除水可以包括:降低在腔室中的水的水位，以使该至少一个晶片暴露出来。
[0154]根据各个实施例，用于处理至少一个载体的处理设备可以包括:腔室，其配置为提供用于容纳该至少一个载体的处理区域和在处理区域之上的合并区域，其中合并区域可以逐渐减小至比处理区域的水平延伸更小的水平延伸；控制装置，其耦接至腔室，其中控制装置配置为:用水填充处理区域和合并区域，以便将有机液体以液体的形式引入到合并区域中，并且以便将水的水位从合并区域降低至处理区域以通过引入到合并区域中的有机液体在水上形成连续表面层。
[0155]根据各个实施例，处理设备可以进一步包括支撑结构，该支撑结构用于将该至少一个载体保持在腔室的处理区域中。
[0156]根据各个实施例，该至少一个载体可以包括晶片批。
[0157]根据各个实施例，合并区域可以由耦接至腔室的管状结构(入口结构或者歧管)提供。
[0158]根据各个实施例，控制装置可以包括第一流量控制结构(第一流量控制器)和第二流量控制结构(第二流量控制器)，其中第一流量控制结构可以配置为将在腔室中的水位升高至合并区域，其中第二流量控制结构可以配置为将有机液体的部分直接地引入到在合并区域中的水中；以及其中第一流量控制结构进一步配置为从腔室至少部分地排出水以降低水位。
[0159]根据各个实施例，控制装置可以进一步配置为降低在处理区域中的水的水位，以使容纳在腔室的处理区域中的该至少一个载体暴露出来。
[0160]根据各个实施例，控制装置可以进一步包括:气体流量控制结构(气体流量控制器)，其配置为在降低水的水位的同时将气体引入到腔室中。
[0161]根据各个实施例，腔室的处理区域的水平延伸可以单调减少至合并区域的水平延伸。
[0162]根据各个实施例，一种处理设备可以包括:腔室，其用于将至少一个载体容纳在腔室的处理区域中；向上延伸的入口结构(或者歧管)，其耦接至腔室，该入口结构提供连接至处理区域的合并区域；第一液体控制装置，其至少耦接至腔室，第一液体控制装置配置为在腔室的处理区域中提供第一液体并且将第一液体的液位升高到入口结构中；第二液体控制装置，其耦接至入口结构，第二液体控制装置配置为将第二液体以液体的形式引入到合并区域中；其中第一液体控制装置进一步配置为:从腔室排出第一液体，以通过引入到合并区域的第二液体在第一液体上形成连续表面层并且使至少一个载体暴露出来。
[0163]根据各个实施例，合并区域的水平宽度可以小于处理区域的水平宽度。
[0164]根据各个实施例，处理设备可以进一步包括:气体控制装置，其耦接至入口结构，该气体控制装置配置为在降低第一液体的液位的同时将气体引入到入口结构中，以补偿从腔室排出的第一液体的量。
[0165]根据各个实施例，腔室的内径与入口结构的内径之比可以在从大约2至大约50的范围内，例如，在从大约3至大约40的范围内。
[0166]根据各个实施例，一种方法(例如，用于在第一液体之上提供第二液体层)可以包括:用第一液体填充腔室和耦接至腔室的管道，该管道从腔室向上延伸；将第二液体的部分引入到在管道中的第一液体中；以及从腔室至少部分地去除第一液体以将管道的内容物排空到腔室中，从而在腔室中的第一液体上设置通过引入的第二液体而获得的连续表面层。
[0167]进一步地，根据各个实施例，第二液体可以配置为减小第一液体的表面张力。
[0168]进一步地，根据各个实施例，第一液体可以包括水或者水溶液并且第二液体可以包括有机液体。
[0169]进一步地，根据各个实施例，第二液体可以包括以下液体的组中的至少一种液体，该组由以下组成:甲醇；乙醇；丙醇；异丙醇；丁醇；环乙醇。
[0170]进一步地，根据各个实施例，可以将第二液体的部分引入到在管道中的第一液体中，从而使得引入的第二液体基本覆盖在管道中的第一液体的表面。
[0171]根据各个实施例，该方法可以进一步包括:在从腔室至少部分地去除第一液体的同时，将氮气引入到管道中，以避免在管道中形成真空。
[0172]进一步地，根据各个实施例，从腔室至少部分地去除第一液体可以包括:连续地排出第一液体，从而连续地在管道中降低第一液体的液位，并且随后连续地在腔室中降低第一液体的液位。
[0173]根据各个实施例，该方法可以进一步包括:在用第一液体填充腔室和管道之前，在腔室中提供至少一个晶片。
[0174]进一步地，根据各个实施例，从腔室至少部分地去除第一液体可以包括:降低在腔室中的第一液体的液位，以使该至少一个晶片暴露出来。
[0175]根据各个实施例，一种用于处理该至少一个载体的处理设备可以包括:腔室，其配置为提供用于容纳该至少一个载体的处理区域和在处理区域之上的合并区域，其中合并区域逐渐减小至比处理区域的水平延伸更小的水平延伸；控制装置，其耦接至腔室，该控制装置配置为:用第一液体填充处理区域和合并区域，以便将第二液体以液体的形式引入到合并区域中，并且以便将第一液体的液位从合并区域降低至处理区域，以通过引入到合并区域中的第二液体在第一液体上形成连续表面层。
[0176]进一步地，根据各个实施例，该控制装置可以包括:第一流量控制结构和第二流量控制结构，其中第一流量控制结构配置为将在腔室中的第一液体的液位升高至合并区域，其中第二流量控制结构配置为将第二液体的部分直接地引入到在合并区域中的第一液体中；并且其中第一流量控制结构进一步配置为从腔室至少部分地排出第一液体以降低在腔室中的第一液体的液位。
[0177]进一步地，根据各个实施例，控制装置可以进一步配置为降低在处理区域中的第一液体的液位，以使容纳在腔室的处理区域中的该至少一个载体暴露出来。
[0178]进一步地，根据各个实施例，控制装置可以进一步包括:气体流量控制结构，其配置为在降低第一液体的液位的同时将气体引入到腔室中。
[0179]虽然已经参考具体实施例对本发明进行了特定的示出和描述，但是本领域的技术人员应该理解，在不脱离本发明的由所附权力要求书限定的精神和范围的情况下，可以对形式和细节做出各种改变。本发明的范围由此由所附权利要求书指示，并且因此可以囊括了在权利要求书的等同物的意义和范围内的所有改变。
【主权项】
1.一种方法，包括: 用第一液体来填充腔室和耦接至所述腔室的管道，所述管道从所述腔室向上延伸； 将第二液体的部分引入到在所述管道中的所述第一液体中；以及从所述腔室至少部分地去除所述第一液体，以将所述管道的内容物排空到所述腔室中，从而在所述腔室中的所述第一液体上通过引入的所述第二液体提供连续表面层。2.根据权利要求1所述的方法， 其中所述第二液体配置用于减小所述第一液体的表面张力。3.根据权利要求2所述的方法， 其中所述第一液体包括水或者水溶液，以及其中所述第二液体包括有机液体。4.根据权利要求1所述的方法， 其中所述第二液体包括以下液体的组中的至少一种液体，所述组由以下各项组成: 甲醇； 乙醇； 丙醇； 异丙醇； 丁醇； 环己醇。5.根据权利要求1所述的方法， 其中将所述第二液体的所述部分引入到在所述管道中的所述第一液体中，从而使得引入的所述第二液体基本覆盖了在所述管道中的所述第一液体的表面。6.根据权利要求1所述的方法，进一步包括: 在从所述腔室至少部分地去除所述第一液体的同时，将氮气引入到所述管道中，以避免在所述管道中形成真空。7.根据权利要求1所述的方法， 其中从所述腔室至少部分地去除所述第一液体包括:连续地排出所述第一液体，从而连续地在所述管道中降低所述第一液体的液位，并且随后连续地在所述腔室中降低所述第一液体的液位。8.根据权利要求1所述的方法，进一步包括: 在用所述第一液体填充所述腔室和所述管道之前，在所述腔室中提供至少一个晶片。9.根据权利要求8所述的方法， 其中从所述腔室至少部分地去除所述第一液体包括:降低在所述腔室中的所述第一液体的液位，以使所述至少一个晶片暴露出来。10.一种用于处理至少一个载体的处理设备，所述处理设备包括: 腔室，配置为提供用于容纳所述至少一个载体的处理区域以及提供在所述处理区域之上的合并区域，其中所述合并区域逐渐减小至比所述处理区域的水平延伸更小的水平延伸；以及 控制装置，耦接至所述腔室，所述控制装置配置为: 用第一液体填充所述处理区域和所述合并区域； 将第二液体以液体的形式引入到所述合并区域中；以及 将所述第一液体的液位从所述合并区域降低至所述处理区域，以通过被引入到所述合并区域中的所述第二液体在所述第一液体上形成连续表面层。11.根据权利要求10所述的处理设备，进一步包括: 支撑结构，用于将所述至少一个载体保持在所述腔室的所述处理区域中。12.根据权利要求10所述的处理设备， 其中所述至少一个载体包括晶片批。13.根据权利要求10所述的处理设备， 其中所述合并区域由耦接至所述腔室的管状结构提供。14.根据权利要求10所述的处理设备， 其中所述控制装置包括第一流量控制结构和第二流量控制结构，其中所述第一流量控制结构配置为将在所述腔室中的所述第一液体的液位升高至所述合并区域，其中所述第二流量控制结构配置为将所述第二液体的部分直接引入到在所述合并区域中的所述第一液体中；以及其中所述第一流量控制结构进一步配置为从所述腔室至少部分地排出所述第一液体以降低在所述腔室中的所述第一液体的液位。15.根据权利要求10所述的处理设备， 其中所述控制装置进一步配置为降低在所述处理区域中的所述第一液体的液位，以使被容纳在所述腔室的所述处理区域中的所述至少一个载体暴露出来。16.根据权利要求10所述的处理设备， 其中所述控制装置进一步包括:气体流量控制结构，配置为在降低所述第一液体的液位的同时将气体引入到所述腔室中。17.根据权利要求10所述的处理设备， 其中所述腔室的所述处理区域的水平延伸单调减少至所述合并区域的水平延伸。18.—种处理设备，包括: 腔室，用于将至少一个载体容纳在所述腔室的处理区域中； 入口结构，耦接至所述腔室并且向上延伸，所述入口结构提供连接至所述处理区域的合并区域； 第一液体控制装置，至少耦接至所述腔室，所述第一液体控制装置配置为在所述腔室的所述处理区域中提供第一液体并且将所述第一液体的液位升高到所述入口结构中；以及 第二液体控制装置，耦接至所述入口结构，所述第二液体控制装置配置为将第二液体以液体的形式引入到所述合并区域中； 其中所述第一液体控制装置进一步配置为:从所述腔室排出所述第一液体，以通过被引入到所述合并区域的所述第二液体而在所述第一液体上形成连续表面层并且使所述至少一个载体暴露出来。19.根据权利要求18所述的处理设备， 其中所述合并区域的水平宽度小于所述处理区域的水平宽度。20.根据权利要求18所述的处理设备，进一步包括: 气体控制装置，耦接至所述入口结构，所述气体控制装置配置为在降低所述第一液体的液位的同时将气体引入到所述入口结构中，以补偿从所述腔室排出的所述第一液体的量。
【专利摘要】本发明的各个实施例涉及处理至少一个载体的方法以及处理设备。根据各个实施例，方法可以包括：用第一液体来填充腔室和耦接至腔室的管道，该管道从腔室向上延伸；将第二液体的部分引入到在管道中的第一液体中；以及从腔室至少部分地去除第一液体以将管道的内容物排空到腔室中，从而在腔室中的第一液体上设置通过引入的第二液体而获得的连续表面层。
【IPC分类】H01L21/02, H01L21/67
【公开号】CN105448664
【申请号】CN201510613602
【发明人】J·特雷特纳, F·帕齐希
【申请人】英飞凌科技股份有限公司
【公开日】2016年3月30日
【申请日】2015年9月23日
【公告号】DE102015116197A1, US20160086793