Ito图案的制备方法、基板的制备方法及基板和终端的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及显示技术领域，具体而言，涉及一种ITO图案的制备方法。
【背景技术】
[0002]IT0( IndiumTinOxides，铟锡氧化物)是一种透明电极材料，ITO薄膜具有良好的导电性和可见光的透过性，广泛应用于触摸屏、LCM等需要作为显示又有电性功能的产品上，目前制备方法均是在基材上整面性镀ITO膜，然后通过化学蚀刻制备出所需要的ITO膜图案。具体地，解析度要求较高的产品均需要黄光制程、覆光阻、曝光、显影、蚀刻、脱膜、清洗等多个步骤，从而使得传统制备ITO膜层图案的工艺比较复杂且成本高。同时，在传统的制备工艺流程中，需要通过化学刻蚀，而其化学刻蚀所使用的化学试剂王水等都会对环境造成严重污染，进而不符合目前关于节能、环保的理念。
[0003]因此，如何设计出一种工艺简单、成本低且无污染的ITO图案的制备方法成为目前亟待解决的问题。
【发明内容】
[0004]本发明正是基于上述问题，提出了一种工艺简单、成本低且无污染的ITO图案的制备方法。
[0005]有鉴于此，本发明的一方面提出了一种ITO图案的制备方法，包括:在基板本体的非ITO图案区上形成可用第一物质去除的可去除膜层;在形成有所述可去除膜层的基板本体上形成ITO膜层;利用超声波清洗工艺去除所述基板本体上的所述可去除膜层及所述可去除膜层上的所述ITO膜层，得到所需ITO图案。
[0006]在该技术方案中，先在基板本体的非ITO图案区上利用可去除的制剂制备与所需的ITO膜层图案相互补的可去除膜层图案，然后在整个基板本体上形成整层的ITO膜层，接着利用超声波清洗工艺将可去除膜层清洗掉，具体地，可将第一物质制成的试剂摇摆喷淋到基板本体上，从而可通过溶解的方式将可去除膜层从基板本体上去掉，同时可去除膜层上的ITO膜层由于失去了附体，因此也会随着可去除膜层的溶解而脱落在第一物质制成的试剂中，从而即可在基板本体的ITO图案区上形成所需的ITO图案。该技术方案通过清除非ITO图案区上的膜层的方式得到所需的ITO膜层，相对于传统的采用掩膜板形成ITO图案的方式而言，省去了曝光显影、以及刻蚀剥离等工艺，从而简化了制备工艺，同时，在该制备工艺中省去了掩膜板的使用，从而降了低ITO膜层图案的制备成本。此外，该技术方案，利用超声波清洗工艺清洗掉可去除膜层，相比于传统的擦拭、溶解而言，能够提高去除效率，节约成本。
[0007]在上述技术方案中，优选地，所述第一物质为水，所述可去除膜层可溶于水。
[0008]在上述技术方案中，优选地，所述超声波清洗工艺为超声波水洗工艺。
[0009]在该技术方案中，可去除膜层为可溶于水的物质，因此，再利用超声波清洗工艺去除可去除膜层时，便可利用超声波水洗工艺清洗掉可去除膜层。具体地，第一物质为水相比于其它化学试剂而言，具有容易获得、环保等优点，因此，利用水去除可去除膜层能够降低ITO图案的制备成本，且更加符合当前关于节能环保的理念。同时，第一物质为水时，便可利用超声波水洗工艺直接去除掉可去除膜层，从而便可将去除可去除膜层工艺、清洗工艺合二为一，从而简化了工艺流程，提高了 ITO图案的制备效率。
[0010]在上述技术方案中，所述在形成有所述可去除膜层的基板本体上形成ITO膜层，包括:利用磁控溅射工艺或蒸发镀膜工艺在形成有所述可去除膜层的基板本体上形成所述ITO膜层。
[0011]在该技术方案中，可以采用镀膜工艺在形成有可去除膜层的基板本体上形成所述ITO膜层，具体地，可优选采用磁控溅射工艺、蒸发镀膜工艺在形成有可去除膜层的基板本体上形成ITO膜层。优选地，为了避免将可去除膜层置于高温环境而使得可去除膜层凝固，可以采用其他低温镀膜工艺在形成有可去除膜层的基板本体上形成ITO膜层。而具体镀膜工艺可以根据基板本体和膜层材料的不同而选择适当的工艺，在此不做限定。
[0012]值得说明的是，本发明也可采用其它镀膜工艺或其它方式在基板本体上形成所述ITO膜层。
[0013]在上述技术方案中，所述在基板本体的非ITO图案区上形成可用第一物质去除的可去除膜层包括:将所述可去除膜层印刷或绘制在所述基板本体的所述非ITO图案区上，以在所述非ITO图案区形成所述可去除膜层。
[0014]在该技术方案中，可采用手动或自动控制方式用记号笔在基板本体的非ITO图案区上绘制出可去除膜层，同时，也可以采用印刷的方式，在基板本体的非ITO图案区上形成可去除膜层。具体地，在具体实施时，可以通过计算机编程设计图案的方式设计记号笔或喷头的轨迹以实现该可去除膜层图案的形成。当然，还可以采用其它类似手段在基板本体上形成可去除膜层，例如，采用丝网印刷、传统胶印或数码印刷等方式在基板本体上形成可去除膜层，只需形成的可去除膜层可被第一物质去除即可，而具体的形成方式在此不做限定。
[0015]在上述技术方案中，所述基板本体包括玻璃基板本体、柔性基板本体、彩色滤光片基板本体。
[0016]在该技术方案中，基板本体可以是显示器面板，如液晶显示器、LED显示器的面板，也可以是彩色滤光片基板本体或玻璃基板本体、柔性基板本体，具体地，柔性基板本体包括塑料基板本体等。
[0017]在上述技术方案中，利用磁控溅射工艺或蒸发镀膜工艺在形成有所述可去除膜层的基板本体上形成所述ITO膜层时，形成所述ITO膜层的温度小于200°C。
[0018]在该技术方案中，磁控溅射工艺或蒸发镀膜时，温度不能过高，否则可去除膜层容易凝固而难以清洗掉，因此，优选地，温度小于200°C。
[0019]本发明第二方面提供一种基板的制备方法，其中，该制备方法中，采用第一方面任一项实施例所述的ITO图案的制备方法进行基板本体上的ITO图案制备，同时，在进行ITO图案制备之如还包括:制备所述基板本体。
[0020]该技术方案采用了第一方面任一项实施例所述的ITO图案的制备方法来制备ITO图案，因此，具有第一方面任一项实施例所述的ITO图案的制备方法的有益效果，在此不再赘述。
[0021]本发明第三方面提供一种基板，采用上述实施例所述的基板的制备方法制备而成，因此，具有基板的制备方法的有益效果，在此不再赘述。
[0022]本发明第四方面提供一种终端，该终端包括第三方面所述的基板。
【附图说明】
[0023]图1示出了根据本发明的一个实施例的ITO图案的制备方法的流程示意图；
[0024]图2示出了根据本发明的一个实施例的基板的制备方法的流程示意图；
[0025]图3示出了根据本发明的一个实施例的基板的结构示意框图；
[0026]图4示出了根据本发明的一个实施例的终端的结构示意框图；
[0027]图5至图8示出了根据本发明的一个实施例的ITO图案的制备方法的工艺流程示意图。
【具体实施方式】
[0028]为了可以更清楚地理解本发明的上述目的、特征和优点，下面结合附图和【具体实施方式】对本发明进行进一步的详细描述。需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请的实施例及实施例中的特征可以相互组合。
[0029]在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明，但是，本发明还可以采用其他不同于在此描述的其他方式来实施，因此，本发明的保护范围并不受下面公开的具体实施例的限制。
[0030]图1示出了根据本发明的一个实施例的ITO图案的制备方法的流程示意图。
[0031]如图1所示，本发明的一方面提出了一种ITO图案的制备方法，包括以下步骤:
[0032]步骤102，在基板本体的非ITO图案区上形成可用第一物质去除的可去除膜层。在该步骤中，基板本体上包括相互互补的ITO图案区和非ITO图案区，而非ITO图案区上的膜层可去除，从而在整个基板本体上形成ITO膜层后，即可利用第一物质擦拭、溶解等方式将可去除膜层去除，以在基板本体上形成所需的ITO图案。
[0033]步骤104，在形成有所述可去除膜层的基板本体上形成ITO膜层。在该步骤中，在基板本体的整个表面上形成ITO膜层，而由于非ITO图案区上形成有可去除膜层，因此，便只有ITO图案区上直接附着有ITO膜层，从而在将可去除膜层利用溶解、擦拭等方式去除时，可去除膜层上的ITO膜层由于失去了附体，便会随着可去除膜层的溶解而脱落在第一物质制成的试剂中，从而便可使非ITO图案区上的ITO膜层自然脱落，进而便可在基板本体上形成所需的ITO图案。
[0034]步骤106，利用超声波清洗工艺去除所述基板本体上的所述可去除膜层及所述可去除膜层上的所述ITO膜层，得到所需ITO图案。在该步骤中，在利用超声波清洗工艺将可去除膜层清洗掉时，可将第一物质制成的试剂摇摆喷淋到基板本体上，从而可通过溶解的方式将可去除膜层从基板本体上去掉。
[0035]该技术方案通过擦拭、溶解等去除非ITO图案区上的膜层的方式而得到所需的ITO膜层，相对于传统的采用掩膜板形成ITO图案的方式而言，省去了曝光显影、以及刻蚀剥离等工艺，从而简化了制备工艺，同时，在该制备工艺中省去了掩膜板的使用，从而降了低ITO膜层图案的制备成本。此外，该技术方案，利用超声波清洗工艺清洗掉可去除膜层，相比于传统的擦拭、溶解而言，能够提高去除效率，节约成本。
[0036]在上述技术方案中，优选地，所述第一物质为水，所述可去除膜层可溶于水。
[0037]在上述技术方案中，优选地，所述超声波清洗工艺为超声波水洗工艺。
[0038]在该技术方案中，可去除膜层为可溶于水的物质，因此，再利用超声波清洗工艺去除可去除膜层时，便可利用超声波水洗工艺清洗掉可去除膜层。具体地，第一物质为水相比于其它化学试剂而言，具有容易获得、环保等优点，