一种柔性显示装置及其制造方法
【专利摘要】本发明公开了一种柔性显示装置及其制造方法。该柔性显示装置包括柔性基底、有机发光器件和封装层，其中，有机发光器件设置在柔性基底上，封装层设置在有机发光器件上，柔性基底和/或封装层包括至少一层图案化的无机层以及至少两层有机层，至少两层有机层用于包裹无机层。通过上述方式，本发明能够在应力集中在无机层导致开裂和剥落时，包裹的有机层阻挡开裂和剥落的无机层的扩散，从而延长了柔性显示装置可柔性弯曲的寿命。
【专利说明】
一种柔性显示装置及其制造方法
技术领域
[0001]本发明涉及显示技术领域，尤其是涉及一种柔性显示装置及其制造方法。
【背景技术】
[0002]通常，具有薄膜晶体管的有机发光显示设备可以用于诸如智能电话、数码相机、便携式摄像机、便携式信息终端、超纤薄膝上型计算机和平板个人计算机等的移动装置的显示器中，以及诸如超纤薄TV的电子电气产品的显示器中。有机发光显示设备通常包括具有第一电极、第二电极以及在第一电极和第二电极之间的中间层的有机发光器件。有机发光显示设备具有宽视角、高对比度和快速响应。而近来针对制造更纤薄的显示设备已经进行了研究，容易携带并且可以被应用到各种形状的装置的柔性显示设备作为下一代显示设备受到关注。具体地讲，已经考虑了利用有机发光器件的柔性显示设备。利用有机发光器件的柔性显示设备通常包括用于覆盖有机发光器件的薄膜包封层和承受发光器件的柔性基底层。在薄膜包封层和柔性基地层中，增加了无机层。因此，薄膜包封层和柔性基底层具有良好的阻挡水汽和氧气进入的特性。然而，无机层的增加使得显示设备的厚度也增加了，进而增加了应力，从而导致了分层。此外，当柔性显示设备弯曲时，应力集中在有机层和无机层之间的界面处，从而导致开裂和剥落，由此影响柔性显示设备的寿命。
【发明内容】
[0003]本发明主要解决的技术问题是提供一种柔性显示装置及其制造方法，能够延长柔性显示装置的寿命。
[0004]为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是:提供一种柔性显示装置，该柔性显示装置包括:柔性基底;有机发光器件，设置在柔性基底上;封装层，设置在所述有机发光器件上，所述柔性基底和/或所述封装层包括至少一层图案化的无机层以及至少两层有机层，所述至少两层有机层用于包裹所述无机层。
[0005]其中，柔性基底和/或所述封装层包括多层所述图案化的无机层。
[0006]其中，无机层包括多个图案化区域，所述多个图案化区域之间形成间隙，所述至少两层有机层位于所述图案化的无机层的上下两侧，并且通过所述间隙连通。
[0007]其中，无机层的间隙位置与相邻的所述无机层的间隙位置错开。
[0008]其中，有机层包括的材质包括聚对苯二甲酸乙二酯、聚酰亚胺、聚碳酸脂、环氧树月旨、聚乙烯和/或聚丙烯酸酯形成的单层或堆叠层。
[0009]其中，无机层的材质包含氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、氧化铝、氮化铝和氧化钛。为解决上述技术问题，本发明采用的另一个技术方案是:提供一种柔性显示装置的制造方法，该制造方法包括:设置一柔性基底;在所述柔性基底上设置一有机发光器件;在所述有机发光器件上设置封装层;其中，所述柔性基底和/或所述封装层包括至少一层图案化的无机层以及至少两层有机层，所述至少两层有机层用于包裹所述无机层。
[0010]其中，方法还包括:
[0011]提供一支撑基底；
[0012]在所述支撑基底和/或所述机发光器件上形成一有机层；
[0013]在所述有机层上制作无机层，并将所述无机层分区域图案化，使得所述无机层包括多个图案化区域，形成图案化的无机层，所述多个图案化区域之间形成间隙；
[0014]在所述无机层上制作一有机层，使得两层有机层位于所述图案化的无机层的上下两层，并且通过所述间隙连通；
[0015]根据需要重复执行所述图案化的无机层和有机层的制作步骤。
[0016]其中，柔性基底和/或所述封装层包括多层所述图案化的无机层。
[0017]其中，无机层的间隙位置与相邻的所述无机层的间隙位置错开。
[0018]本发明的有益效果是:区别于现有技术的情况，本发明提供了一种柔性显示装置及其制造方法。该柔性显示装置包括柔性基底、有机发光器件和封装层，其中，有机发光器件设置在柔性基底上，封装层设置在有机发光器件上，柔性基底和/或封装层包括至少一层图案化的无机层以及至少两层有机层，至少两层有机层用于包裹无机层。因此，当应力集中在无机层导致开裂和剥落时，包裹的有机层就阻挡了开裂和剥落的无机层的扩散，从而延长了柔性显示装置可柔性弯曲的寿命。
【附图说明】
[0019]图1是本发明实施例提供的一种柔性显示装置的结构示意图；
[0020]图2是无机层和有机层的结构示意图；
[0021 ]图3是有机发光器件的结构示意图；
[0022]图4是本发明实施例提供的一种柔性显示装置的制造方法的流程图；
[0023]图5是制造无机层和有机层的制程图。
【具体实施方式】
[0024]请参阅图1，图1是本发明实施例提供的一种柔性显示装置的结构示意图。如图1所示，本实施例的柔性显示装置10包括柔性基底11、有机发光器件12以及封装层13。
[0025]其中，柔性基底11可以由具有柔性的任意绝缘材料形成。例如，柔性基底11的材质可以包含聚酰亚胺(PI)、聚碳酸酯(PC)、聚醚砜(PES)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、多芳基化合物(PAR)以及玻璃纤维增强塑料(FRP)等聚合物材料的至少一种。柔性基底11可以是透明的、半透明的或不透明的。
[0026]有机发光器件12设置在柔性基底11上。本实施例中，有机发光器件12优选为形成在薄膜晶体管(TFT)上的发光器件。具体的，请一并参阅图3，有机发光器件12设置在柔性基底11上。更具体的，有机发光层12包括分别设置在基底11上的第一电极122，有机发光层123以及第二电极124。其中，有机发光层123包括依次层叠设置的空穴层注入层125、空穴传输层126、发射层127、电子传输层128以及电子注入层129。
[0027]本实施例对薄膜晶体管的结构并不作限定。例如薄膜晶体管(TFT)可以是顶栅型，但是薄膜晶体管不限于此，并且可以设置诸如底栅型等另一结构的薄膜晶体管。例如半导体有源层可以通过非晶硅的结晶使非晶硅改变为多晶硅而形成。为了使非晶硅结晶，可以利用诸如快速热退火(RTA)法、固相结晶(SPC)法、准分子激光退火(ELA)法、金属诱导结晶(MIC)法、金属诱导横向结晶(MILC)法或连续横向固化(SLS)法等各种方法。
[0028]封装层13设置在有机发光器件12上，封装层13可封装机发光器件12(0LED)以使其免受外部环境影响，可减少因湿气和氧气引起的OLED的劣化。
[0029]本实施例中，柔性基底11和/或封装层13包括至少一层图案化的无机层14以及至少两层有机层15，至少两层有机层15用于包裹无机层14。
[0030]具体而言，本实施例以图案化的无机层14设置在柔性基底11中为例进行详述，应理解，该举例并不对本发明的图案化的无机层14的设置位置和数量进行限制。本发明的图案化的无机层14和有机层15也可以设置在封装层13中，或同时设置在柔性基底11和封装层13中。
[0031]如图2所示，柔性基底11包括两层图案化的无机层141和142，在图案化的无机层141和142的上下两层均设置有有机层15，如图2所示的有机层151和152分别位于图案化的无机层141的两侧，有机层152和153分别位于图案化的无机层142的两侧。并且有机层151在支撑基底110的上表面上提供平坦的表面。
[0032]其中，图案化的无机层14包括多个图案化区域，多个图案化区域之间形成间隙。如图2所示，图案化的无机层141包括图案化区域1411-1413，图案化的无机层142包括图案化区域1414-1416。其中，图案化区域1411和1412之间形成间隙Gl，图案化区域1412和1413之间形成间隙G2，图案化区域1414和1415之间形成间隙G3，图案化区域1415和1416之间形成间隙G4。
[0033]本实施例中，位于图案化的无机层的上下两侧的有机层15通过前文所述的间隙连通。以图案化的无机层141和有机层151以及152举例，有机层151通过间隙Gl和G2与有机层152连通。因此有机层151和152将图案化的无机层141的图案化区域1411、1412以及1413分别包裹着，使得图案化区域1411、1412以及1413之间不连通。当应力集中在某块区域的无机层，例如图2所示的图案化区域1412时，即使导致开裂和剥落，包裹的有机层151和152阻挡了开裂和剥落向下一区域，如图2所示的图案化区域1411和1413的扩散，从而增大了柔性显示装置10可柔性弯曲的寿命。
[0034]应理解，有机层152和153对图案化的无机层142的保护原理与前文所述的相同，在此不再赘述。
[0035]进一步的，本实施例的图案化的无机层14的间隙位置与相邻的无机层的间隙位置错开。如图2所示，图案化的无机层141的间隙Gl和G2分别与无机层142的间隙G3和G4的位置错开。因此在无机层14发生局部开裂和剥落时能有效地阻挡水汽进入。
[0036]以上介绍的是柔性基底11包括图案化的无机层14和有机层15的例子。其中，本实施例的无机层均为图案化的无机层，例如图2所示的图案化的无机层141和142。在其他实施例中，柔性基底11除了包括至少一层图案化的无机层外，还可以包括平整的，连续的无机层，例如，柔性基底11包括一层图案化的无机层和一层连续的无机层。
[0037]在其他实施例中，还可以设置封装层13包括图案化的无机层14和有机层15，以及柔性基底11和封装层13都包图案化的含无机层14和有机层15。并且，图案化的无机层14和有机层15的层数还可以为其他。
[0038]本实施例中，有机层15的材质包括聚对苯二甲酸乙二酯、聚酰亚胺、聚碳酸脂、环氧树脂、聚乙烯和/或聚丙烯酸酯形成的单层或堆叠层。图案化的无机层14的材质包含金属氧化物或金属氮化物等的单层或堆叠层。例如氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、氧化铝、氮化铝和氧化钛中的任一种。图案化的无机层14可以很好的防止湿气、氧气或杂质通过柔性基底11和/或封装层13向有机发光器件12扩散。
[0039]承前所述，本实施例的柔性显示装置10包括单层或多层的图案化无机层14，有机层15通过无机层图案化的间隙相连接，以包裹无机层。当应力集中在某个区域的无机层而导致开裂和剥落时，包裹的有机层就阻挡了开裂和剥落向下一区域的无机层的扩散，从而增大了柔性显示装置可柔性弯曲的寿命。本发明实施例还提供了一种柔性显示装置的制造方法，用于前文所述的显示装置的制成中。具体请参阅图4和图5，其中，图4是柔性显示装置的制造方法的流程图，图5是制造无机层和有机层的制程图。首先如图4，本实施例的制造方法包括以下步骤:
[0040]S1:设置一柔性基底。
[0041 ] S2:在柔性基底上设置一有机发光器件。
[0042]S3:在有机发光器件上设置封装层。
[0043]其中，柔性基底和/或封装层包括至少一层图案化的无机层以及至少两层有机层，至少两层有机层用于包裹无机层。
[0044]本实施例以柔性基底包括至少一层图案化的无机层以及至少两层有机层为例进行详述制造过程。如图5所示，无机层和有机层的制造过程具体为:
[0045]首先形成支撑基底110，支撑基底110被固定和展开，方便后续制造流程。
[0046]进一步的，在支撑基底110上制作一有机层153。
[0047]进一步的，在有机层153上制作无机层142，并且将无机层142分区域图案化，使得无机层142包括多个图案化区域，如图5举例列出的图案化区域1414-1416，形成图案化的无机层，多个图案化区域之间形成间隙，如图5举例列出的间隙G3和G4 ο间隙将有机层153露出。其中，具体图案可以为图5所示的长方形图案，也可以为圆形或其他五边形等的图案，本实施例对图案的形状不作具体限制。
[0048]进一步的，在无机层142上制作有机层152，有机层152和153位于无机层142的上下两层，并且有机层152通过无机层142的间隙与有机层153连通。至此，无机层142被有机层153和152包裹。
[0049]进一步的，在有机层152上形成无机层141，并且将无机层141分区域图案化，使得无机层141包括多个图案化区域，如图5举例列出的图案化区域1411-1413，多个图案化区域之间形成间隙，如图5举例列出的间隙Gl和G2 ο间隙将有机层152露出。其中，无机层142的间隙位置与无机层141的间隙位置交错设置。
[0050]进一步的，在无机层141上制作有机层151，有机层151通过无机层141的间隙与有机层152连通。至此，无机层141被有机层151和152包裹。
[0051]通过以上方式即可形成柔性基底的无机层和有机层结构。
[0052]以上介绍的时候柔性基底包括至少一层图案化的无机层以及至少两层有机层为例进行详述制造过程。若封装层包括至少一层图案化的无机层以及至少两层有机层，则通过前文所述的步骤SI和步骤S2依次形成柔性基底和有机发光器件，然后在有机发光器件上形成有机层153，并根据前文所述的制造方法依次形成无机层142、有机层152、无机层141以及有机层151。
[0053]需要注意的是有机层并不限于上述描述的三层结构，无机层也不限于上面描述的两层结构，同时也可以在含有图案化区域的无机层基础上再包含整面性的无机层。
[0054]综上所述，本实施例的柔性显示装置10包括单层或多层的图案化无机层14，有机层15通过无机层图案化的间隙相连接，以包裹无机层。当应力集中在某个区域的无机层而导致开裂和剥落时，包裹的有机层就阻挡了开裂和剥落向下一区域的无机层的扩散，从而增大了柔性显示装置可柔性弯曲的寿命。
[0055]以上所述仅为本发明的实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。
【主权项】
1.一种柔性显示装置，其特征在于，所述柔性显示装置包括: 柔性基底； 有机发光器件，设置在柔性基底上； 封装层，设置在所述有机发光器件上，所述柔性基底和/或所述封装层包括至少一层图案化的无机层以及至少两层有机层，所述至少两层有机层用于包裹所述无机层。2.根据权利要求1所述的柔性显示装置，其特征在于，所述柔性基底和/或所述封装层包括多层所述图案化的无机层。3.根据权利要求2所述的柔性显示装置，其特征在于，所述无机层包括多个图案化区域，所述多个图案化区域之间形成间隙，所述至少两层有机层位于所述图案化的无机层的上下两侧，并且通过所述间隙连通。4.根据权利要求3所述的柔性显示装置，其特征在于，所述无机层的间隙位置与相邻的所述无机层的间隙位置错开。5.根据权利要求1所述的柔性显示装置，其特征在于，所述有机层包括的材质包括聚对苯二甲酸乙二酯、聚酰亚胺、聚碳酸脂、环氧树脂、聚乙烯和/或聚丙烯酸酯形成的单层或堆叠层。6.根据权利要求1所述的柔性显示装置，其特征在于，所述无机层的材质包含氧化硅、氮化娃、氮氧化娃、氧化铝、氮化铝和氧化钛。7.一种柔性显示装置的制造方法，其特征在于，所述制造方法包括: 设置一柔性基底； 在所述柔性基底上设置一有机发光器件； 在所述有机发光器件上设置封装层； 其中，所述柔性基底和/或所述封装层包括至少一层图案化的无机层以及至少两层有机层，所述至少两层有机层用于包裹所述无机层。8.根据权利要求7所述的制造方法，其特征在于，所述方法还包括: 提供一支撑基底； 在所述支撑基底和/或所述机发光器件上形成一有机层； 在所述有机层上制作无机层，并将所述无机层分区域图案化，使得所述无机层包括多个图案化区域，形成图案化的无机层，所述多个图案化区域之间形成间隙； 在所述无机层上制作一有机层，使得两层有机层位于所述图案化的无机层的上下两层，并且通过所述间隙连通； 根据需要重复执行所述图案化的无机层和有机层的制作步骤。9.根据权利要求8所述的制造方法，其特征在于，所述柔性基底和/或所述封装层包括多层所述图案化的无机层。10.根据权利要求9所述的制造方法，其特征在于，所述无机层的间隙位置与相邻的所述无机层的间隙位置错开。
【文档编号】H01L51/56GK105938873SQ201610512831
【公开日】2016年9月14日
【申请日】2016年7月1日
【发明人】唐岳军
【申请人】武汉华星光电技术有限公司