加热线圈盘及电磁炉的制作方法

文档序号:8808690阅读:536来源:国知局
加热线圈盘及电磁炉的制作方法
【技术领域】
[0001 ] 本实用新型涉及电磁技术领域,尤其涉及一种加热线圈盘及电磁炉。
【背景技术】
[0002]线圈盘做为电磁炉的核心零部件,一般主要是由绕线、盘架和磁条部分组成,绕线绕成线圈安装在盘架上,线圈通过电流后产生磁场,磁条提供磁导率远大于空气的磁通通路,起到束磁效果,绕线均匀地绕在盘架上,由于线圈盘中间通常会设置用于装配传感器组件的结构,距离线圈盘中心一定范围内的区域内没有线圈。
[0003]由此可见,在线圈盘的中心区域和边缘区域的磁场叠加较少,导致线圈盘的磁场分布不均匀,无法实现均匀加热。
【实用新型内容】
[0004]本实用新型提供一种加热线圈盘及电磁炉,用于解决无法实现均匀加热的问题。
[0005]本实用新型的第一个方面是提供一种加热线圈盘,包括:盘架、绕设在所述盘架上的环形线圈、以及固定安装在所述盘架上的多个磁条,所述线圈包括自内向外盘绕的绕线,所述磁条位于所述线圈的下方;所述线圈包括位于所述线圈内环区域的内环绕线、位于所述线圈外环区域的外环绕线以及位于所述内环绕线和所述外环绕线之间的中环绕线;所述中环绕线与待加热锅具底部的距离大于所述内环绕线和外环绕线分别与待加热锅具底部的距离;所述盘架设有环形的绕线槽,所述绕线盘绕设置于绕线槽内。
[0006]可选的,所述内环绕线和所述外环绕线的上表面高于所述中环绕线的上表面。
[0007]可选的,所述绕线槽从内到外均匀分布。
[0008]可选的,所述绕线嵌设在所述绕线槽的槽底,所述绕线槽的上表面处于同一面上;嵌设所述内环绕线的绕线槽和嵌设所述外环绕线的绕线槽的槽深,小于嵌设所述中环绕线的绕线槽的槽深。
[0009]可选的,所述绕线嵌设在所述绕线槽的槽底,所述绕线槽的槽深相同;嵌设所述内环绕线的绕线槽和嵌设所述外环绕线的绕线槽的上表面,高于嵌设所述中环绕线的绕线槽的上表面。
[0010]可选的,所述盘架由内向外均匀间隔设有多个环形挡板,所述多个环形挡板之间形成所述绕线槽,且每个所述环形挡板上均开设有缺口 ;所述绕线通过所述缺口,从位于所述环形挡板一侧的绕线槽穿至位于所述环形挡板另一侧的绕线槽。
[0011]可选的,所述内环绕线和所述外环绕线相对所述中环绕线的高度差相同。
[0012]可选的,所述磁条呈放射状设置。
[0013]可选的,所述磁条插设于所述盘架的上表面和底面之间形成的槽内。
[0014]本实用新型的另一个方面是提供一种电磁炉,包括如前所述的加热线圈盘。
[0015]本实用新型提供的加热线圈盘及电磁炉,通过将线圈的内环绕线和外环绕线相对所述中环绕线突起设置,不同区域的绕线与锅具底部之间的距离不同,磁场叠加少的内环绕线和外环绕线距离锅具底部近,气隙小,减少磁通衰减,磁场叠加多的中环绕线距离锅具底部远,气隙大,增大磁通衰减,从而使锅具底部的磁通密度相对均匀,实现对锅具均匀加热的效果。
【附图说明】
[0016]图1为本实用新型实施例一提供的加热线圈盘的爆炸图;
[0017]图2为本实用新型实施例一的一种实施方式提供的加热线圈盘的局部侧视图;
[0018]图3A为本实用新型实施例一的另一种实施方式提供的加热线圈盘的侧视图;
[0019]图3B为本实用新型实施例一的又一种实施方式提供的加热线圈盘的侧视图;
[0020]图4为本实用新型实施例一提供的加热线圈盘的应用场景图。
【具体实施方式】
[0021]为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。为了方便说明,放大或者缩小了不同层和区域的尺寸,所以图中所示大小和比例并不一定代表实际尺寸,也不反映尺寸的比例关系。
[0022]图1为本实用新型实施例一提供的加热线圈盘的爆炸图,如图1所示,加热线圈盘包括:
[0023]盘架1、绕设在盘架I上的环形线圈2、以及固定安装在盘架I上的多个磁条3,线圈2包括自内向外盘绕的绕线21,磁条3位于线圈2的下方;
[0024]线圈2包括位于线圈2内环区域的内环绕线211、位于线圈2外环区域的外环绕线212以及位于内环绕线211和外环绕线212之间的中环绕线213 ;
[0025]中环绕线213与待加热锅具底部的距离大于内环绕线211和外环绕线212分别与待加热锅具底部的距离;
[0026]盘架I设有环形的绕线槽11,绕线21盘绕设置于绕线槽11内。
[0027]可选的,绕线21可以采用密绕或者疏绕工艺均匀绕制,绕线槽从内到外均匀分布。各磁条3的材质和形状分别相同。通过绕线槽可以更好的固定绕线,防止线圈盘散开。
[0028]再可选的,可以通过绕线21的非均匀绕制,进一步实现对线圈盘各区域的磁通密度进行调整。具体的,绕线密度越大,磁场叠加越多。举例来说,若内环区域和外环区域的磁通密度小于中环区域的磁通密度,则内环绕线和外环绕线的绕线密度可以大于中环区域的绕线密度,反之,内环绕线和外环绕线的绕线密度可以小于中环区域的绕线密度。
[0029]通过本实施方式,可以在调整线圈盘各区域至锅底距离的基础上,结合绕线的密度,实现对各区域磁条密度更加精确的调整,从而使得锅具底部的磁通密度分布更加均匀。
[0030]具体的,内环绕线和外环绕线区域的磁场叠加少,磁通密度小,通过上述实施方式能够减小内环绕线和外环绕线与锅底之间的气隙,从而减少磁通的衰减;相反的,中环绕线区域磁场叠加多,磁通密度大,通过本实施方式能够加大中环绕线与锅底之间的气隙,从而加大磁通的衰减,最终使得锅具底部的磁通密度相对均匀,以达到锅具均匀加热的目的。
[0031]可选的,在一种实施方式中,内环绕线211和外环绕线212的上表面高于中环绕线213的上表面。例如,内环绕线211和外环绕线212的上表面,相对于中环绕线213的上表面突起;或者,内环绕线211和外环绕线212的上表面,相对于中环绕线213的上表面逐渐升高。再可选的,如图2所示,图2为本实用新型实施例一的一种实施方式提供的加热线圈盘的局部侧视图,基于上述实施方式,绕线槽从内到外均匀分布。
[0032]具体的,内环绕线211和外环绕线212的上表面高于中环绕线213的上表面,可以通过多种实施方式实现,例如,可以将内环绕线和外环绕线沿高度方向上多绕几圈,或者,基于盘架结构实现内环绕线211和外环绕线212的上表面高于中环绕线213的上表面。
[0033]基于上述实施方式,作为本实施例的一种可实施方式,如图3A所示,图3A为本实用新型实施例一的另一种实施方式提供的加热线圈盘的侧视图,本实施方式中,绕线21嵌设在绕线槽11的槽底,绕线槽11的表面处于同一面上;
[0034]其中,嵌设内环绕线211的绕线槽111和嵌设外环绕线21
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