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半导体装置、MEMS结构和制作MEMS装置的电极的方法与流程
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来源:国知局
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半导体装置、MEMS结构和制作MEMS装置的电极的方法与流程
技术总结
本发明公开了半导体装置、MEMS结构和制作MEMS装置的电极的方法。在一个实施例中,半导体装置包括衬底、可动电极和反电极,其中,可动电极和反电极机械连接至衬底。可动电极被配置为使可动薄膜的内区刚性。
技术研发人员:
阿尔方斯·德赫;克里斯蒂安·赫聚姆;马丁·乌策
受保护的技术使用者:
英飞凌科技股份有限公司
文档号码:
201310099965
技术研发日:
2013.03.26
技术公布日:
2017.04.12
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